JPH01122028A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
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- JPH01122028A JPH01122028A JP28053887A JP28053887A JPH01122028A JP H01122028 A JPH01122028 A JP H01122028A JP 28053887 A JP28053887 A JP 28053887A JP 28053887 A JP28053887 A JP 28053887A JP H01122028 A JPH01122028 A JP H01122028A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 3
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910018499 Ni—F Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は磁気ディスク装置に使用される磁気ディスク
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
し従来の技術〕
近年、コンピュータシヌテムにおける磁気ディスク装置
などの外部記憶装置の重要性が増大し。
などの外部記憶装置の重要性が増大し。
高記録密度に対する要求はますます高まっている。
磁気ディスク装置は記録再生ヘッド及び磁気ディスクの
主構成部から構成され磁気ディスクは高速で回転し記録
再生ヘッド即ち、磁気ヘッドは磁気ディスクより微少間
隔浮上している。磁気記録装置の高性能化に伴い、この
浮上間隔を小さくするために記録再生ヘッドの加重を小
さくするとともに接触始動・停止（コンタクト・ヌター
ト・ヌトップ： ｃｓｅ）型ヘッド浮上シヌテムが採用
されている。磁気ディスク装置の高記録密度化、高性能
化を図るためには、磁気記録媒体の薄層化、均−一様化
、磁気特性の改良（保磁力、角型比の向上〕のみならず
、低浮上量における安定したヘッド浮上状態を確保し、
ヘッド（即ち磁気ヘッド〕とディスク（即ち磁気ディス
ク）の衝突（ヘッドクラッシュ）を防止するためのディ
スク表面精度の向上、耐ヘツドクラツシユ性などの向上
が重要で必要なことである。特にディスク表面精度の向
上は著しく、従来のディスクのＲｍａｘは２０００Å以
上あったのが、現在ではＲＫ１１５１ Ｋが１００λ前
後と１桁以上良くなっている。
主構成部から構成され磁気ディスクは高速で回転し記録
再生ヘッド即ち、磁気ヘッドは磁気ディスクより微少間
隔浮上している。磁気記録装置の高性能化に伴い、この
浮上間隔を小さくするために記録再生ヘッドの加重を小
さくするとともに接触始動・停止（コンタクト・ヌター
ト・ヌトップ： ｃｓｅ）型ヘッド浮上シヌテムが採用
されている。磁気ディスク装置の高記録密度化、高性能
化を図るためには、磁気記録媒体の薄層化、均−一様化
、磁気特性の改良（保磁力、角型比の向上〕のみならず
、低浮上量における安定したヘッド浮上状態を確保し、
ヘッド（即ち磁気ヘッド〕とディスク（即ち磁気ディス
ク）の衝突（ヘッドクラッシュ）を防止するためのディ
スク表面精度の向上、耐ヘツドクラツシユ性などの向上
が重要で必要なことである。特にディスク表面精度の向
上は著しく、従来のディスクのＲｍａｘは２０００Å以
上あったのが、現在ではＲＫ１１５１ Ｋが１００λ前
後と１桁以上良くなっている。
このようにディスクの表面精度が年々向上し。
磁気ヘッドスライダが磁気ディスクの表面に吸着し、磁
気ディスクが回転を始めても磁気ヘッドスライダが浮上
できず磁気ヘッドスライダ等が破損するなどの問題点か
あつ六。これらについては例えば雑誌Ｅ−Ｍ、 Ｒｏ
ａｓｉ 他、ジャーナル、オブ。
気ディスクが回転を始めても磁気ヘッドスライダが浮上
できず磁気ヘッドスライダ等が破損するなどの問題点か
あつ六。これらについては例えば雑誌Ｅ−Ｍ、 Ｒｏ
ａｓｉ 他、ジャーナル、オブ。
アプライド・フィジックス（Ｊ、 Ａｐｐｌ、 Ｐｈ
７Ｅｌ 、ン５５巻、６号、２２５４頁に記載されてい
る。
７Ｅｌ 、ン５５巻、６号、２２５４頁に記載されてい
る。
この発明は上記のような問題点を解決するためのなされ
たもので磁気ヘッドスライダの磁気ディスク基板に対す
る吸着を防止し信頼性の高い磁気ディスク基板を得るこ
とを目的とする。
たもので磁気ヘッドスライダの磁気ディスク基板に対す
る吸着を防止し信頼性の高い磁気ディスク基板を得るこ
とを目的とする。
この発明に係る磁気ディスクの製造方法は１表面に金属
アルコキシドを塗布し、急速加熱をするととＫより表面
忙微小な凹凸を有する保護膜を設けたものである。
アルコキシドを塗布し、急速加熱をするととＫより表面
忙微小な凹凸を有する保護膜を設けたものである。
この発明に係る磁気ディスクは１表面に微小な凹凸を設
けることにより磁気ディスクと磁気ヘッドスライダ間の
吸着力が減少する。
けることにより磁気ディスクと磁気ヘッドスライダ間の
吸着力が減少する。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はこの発明の一実施例の磁気ディスクを示す断面図で
２図においてαｌは基材でＡｌ −Ｍｇ合金基材（１）
とＡＪ −Ｍｇ合金基材に施したＮｉ −Ｆメツキ膜（
２）よりなる。（３）は磁気記録媒体、（４）は凹凸を
有する保護膜で金属アルコキシドを急速加熱して得た酸
化物膜である。
図はこの発明の一実施例の磁気ディスクを示す断面図で
２図においてαｌは基材でＡｌ −Ｍｇ合金基材（１）
とＡＪ −Ｍｇ合金基材に施したＮｉ −Ｆメツキ膜（
２）よりなる。（３）は磁気記録媒体、（４）は凹凸を
有する保護膜で金属アルコキシドを急速加熱して得た酸
化物膜である。
ＡＩ −Ｍｇ合金基板の表面にＮ１−Ｐ メンキ膜を成
模し鏡面加工しである基材は１通常サブストレイトと呼
ばれ市販されている。この市販サブストレイトを用い以
下のように磁気ディスクを作成した。
模し鏡面加工しである基材は１通常サブストレイトと呼
ばれ市販されている。この市販サブストレイトを用い以
下のように磁気ディスクを作成した。
（実施例１）
サブストレイト上に磁気記録媒体としてＣｏ −Ｏｒ
媒体を成膜した。このディスク上に金属アルコキシド溶
液としてテトライトキシドシラン（８１（ＯＣ町）４）
メタノール溶液をスピンコードした。
媒体を成膜した。このディスク上に金属アルコキシド溶
液としてテトライトキシドシラン（８１（ＯＣ町）４）
メタノール溶液をスピンコードした。
溶液濃度は２，０ｗｔ％、ヌビン回転数は２００回転で
行った。塗布後、昇温速度３００℃／ｈ、最高温度２０
０℃、保持時間１時間の熱処理を行って保護膜を形成し
た。
行った。塗布後、昇温速度３００℃／ｈ、最高温度２０
０℃、保持時間１時間の熱処理を行って保護膜を形成し
た。
（実施例２）
サブストレイト上にＣｏ −Ｏｒ媒体を成膜した。
このディスク上に金属アルコキシド溶液としてテトラエ
トキシドチタン（τ１（ｏｃ２ａｓ）４） エタノー
ル溶液をヌピンコートシ次。溶液濃度は５． Ｑ ｗｔ
％。
トキシドチタン（τ１（ｏｃ２ａｓ）４） エタノー
ル溶液をヌピンコートシ次。溶液濃度は５． Ｑ ｗｔ
％。
ヌビン回転数は２ Ｇ Ｏｒｐｍで行った。塗布後、昇
温速度３００℃／ｈ、最高温度２００℃、保持時間１時
間の熱処理を行って保護膜を形成し念。
温速度３００℃／ｈ、最高温度２００℃、保持時間１時
間の熱処理を行って保護膜を形成し念。
（比較例）
サブストレイト上Ｋ Ｃｏ −Ｏｒ媒体を成膜した。
このディスク上忙テトラメトキシドシラン（８１（０Ｃ
Ｈｓ ） ａ ）メタノール溶液をスピンコードシタ。
Ｈｓ ） ａ ）メタノール溶液をスピンコードシタ。
溶液濃度はＬ Ｏｗｔ％、ヌビン回転数は２００回転で
行った。塗布後、昇温速度５０℃／ｈ、最高温度２００
℃、保持時間１時間の熱処理を行って保護膜を形成した
。
行った。塗布後、昇温速度５０℃／ｈ、最高温度２００
℃、保持時間１時間の熱処理を行って保護膜を形成した
。
これらのディスクの表面粗さをタリヌテンプで測定した
。第２図の特性図に上記実施例１の第３図の特性図に上
記実施例２の第４図の特性図に比較例のディスクの表面
粗さの測定結果を示した。
。第２図の特性図に上記実施例１の第３図の特性図に上
記実施例２の第４図の特性図に比較例のディスクの表面
粗さの測定結果を示した。
第２図、第３図と第４図の比較から、実施例のディスク
の表面には微小な凹凸が認められ、上記熱処理により金
属アルコキシド膜表面に微小な凹凸が生成したことがわ
かる。これは、急速加熱により脱アルコール反応が急速
に生じ、膜内から気体が外に飛び出して膜表面が荒され
たためと考えられる。
の表面には微小な凹凸が認められ、上記熱処理により金
属アルコキシド膜表面に微小な凹凸が生成したことがわ
かる。これは、急速加熱により脱アルコール反応が急速
に生じ、膜内から気体が外に飛び出して膜表面が荒され
たためと考えられる。
なお、急速加熱する場合の昇温速度は１００℃／ｈ以上
必要で、再現性よ（凹凸全生成するには２００℃／ｈ以
上が望ましい。
必要で、再現性よ（凹凸全生成するには２００℃／ｈ以
上が望ましい。
実施例によるディスクと比較例によるディスクの表面に
、３３８０形薄膜ヘツドを接触させ静摩擦係数を測定し
た。実施例１によるディスクでは０、 ＋ ９ 、実施
例２によるディスクでは０．２２．比較例によるディス
クでは０．３８であり、この発明によるディスクでは静
摩擦係数は小さくなつ念。
、３３８０形薄膜ヘツドを接触させ静摩擦係数を測定し
た。実施例１によるディスクでは０、 ＋ ９ 、実施
例２によるディスクでは０．２２．比較例によるディス
クでは０．３８であり、この発明によるディスクでは静
摩擦係数は小さくなつ念。
また、ディスク表面にヘッドを接触させ６０℃。
８５％の状態で２４時間放置し、静摩擦係数を測定した
。実施例１によるディスクでは０．２２．実施例２にぶ
るディスクでは０．２４であったが、比較例によるディ
スクでは０．９を越えておシ吸着現象が昭められた。
。実施例１によるディスクでは０．２２．実施例２にぶ
るディスクでは０．２４であったが、比較例によるディ
スクでは０．９を越えておシ吸着現象が昭められた。
上記実施例では金属アルコキシドの金属がシリコン、チ
タンの場合について説明し次が、Ａｌ゜Ｚｒ であって
もよく上記実施例と同様の効果を奏する。
タンの場合について説明し次が、Ａｌ゜Ｚｒ であって
もよく上記実施例と同様の効果を奏する。
また、上記実施例では磁気記録媒体がＣｏ −Ｏｒの場
合について説明したが、他の合金媒体、金属媒体、金属
酸化物媒体であってもよ（上記実施例と同様の効果を奏
する。
合について説明したが、他の合金媒体、金属媒体、金属
酸化物媒体であってもよ（上記実施例と同様の効果を奏
する。
また、上記実施例では基材に施す下地メブキとしてＮｉ
−Ｐ メツキ膜の場合について説明したが。
−Ｐ メツキ膜の場合について説明したが。
他のアルマイト膜、Ｎｉ−０ｕ−Ｐ膜であってもよく上
記実施例と同様の効果を奏する。
記実施例と同様の効果を奏する。
以上のように、この発明によれば、磁気記録媒体上に金
属アルコキシド溶液を塗布し、急速加熱して表面に凹凸
を有する保護膜を設けたことによｐ、磁気ディスクと磁
気ヘラドヌライダ間の吸着力が小さな信頼性の高い磁気
ディスクが得られる効果がある。
属アルコキシド溶液を塗布し、急速加熱して表面に凹凸
を有する保護膜を設けたことによｐ、磁気ディスクと磁
気ヘラドヌライダ間の吸着力が小さな信頼性の高い磁気
ディスクが得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例の磁気ディスク基板を示す
断面図、第２図は実施例１の第３図は実施例１の第４図
は比較例の磁気ディスクの表面粗さをタリヌテップたよ
り測定した結果を示す特性図である。
断面図、第２図は実施例１の第３図は実施例１の第４図
は比較例の磁気ディスクの表面粗さをタリヌテップたよ
り測定した結果を示す特性図である。
Claims (3)
- （１）基材上に磁気記録媒体を設け、この磁気記録媒体
上に金属アルコキシド溶液を塗布し、急速加熱して表面
に凹凸を有する保護膜を設けた磁気ディスクの製造方法
。 - （２）磁気記録媒体は、金属、合金あるいは金属酸化物
のいずれかである特許請求の範囲第１項記載の磁気ディ
スクの製造方法。 - （３）金属アリコキシドの金属は、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ及
びＺｒのいずれか一種であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項又は第２項記載の磁気ディスクの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28053887A JPH01122028A (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28053887A JPH01122028A (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01122028A true JPH01122028A (ja) | 1989-05-15 |
Family
ID=17626476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28053887A Pending JPH01122028A (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01122028A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5504646A (en) * | 1989-10-13 | 1996-04-02 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk including protective layer having surface with protusions and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
-
1987
- 1987-11-06 JP JP28053887A patent/JPH01122028A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5504646A (en) * | 1989-10-13 | 1996-04-02 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk including protective layer having surface with protusions and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US5930073A (en) * | 1989-10-13 | 1999-07-27 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk including protective layer having surface with magnetic disk including protrusions, and magnetic disk apparatus including the magnetic disk |
| US6303205B1 (en) | 1989-10-13 | 2001-10-16 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk including protective layer having surface with protrusions, and substrate therefor |
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