JPH03273525A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPH03273525A JP7392590A JP7392590A JPH03273525A JP H03273525 A JPH03273525 A JP H03273525A JP 7392590 A JP7392590 A JP 7392590A JP 7392590 A JP7392590 A JP 7392590A JP H03273525 A JPH03273525 A JP H03273525A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、磁気ディスク装置などに用いられる、カー
ボン基板を使用した磁気記録媒体を製造する方法に係り
、詳しくは高保磁力化された磁気記録媒体が得られるよ
うにした、磁気記録媒体の製造方法に関するものである
〔従来の技術〕
周知のように、磁気ディスクなどの磁気記録媒体におい
ては、その高記録密度化が進められている。一般に、磁
気記録媒体の性能を決定する因子として、次式■で表さ
れる磁化遷移+ff1a(μm)がある。
accδ・Br/(m・Hc)−■ 但し、δは磁性体層膜厚(μm)、Brは残留磁束密度
(G)、mは角形性に関する因子、Hcは保磁力(Oe
)である。
記録密度を向上させるには、上記の式■で表される磁化
遷移幅aの値を小さくする必要があり、磁性体層の薄膜
化とともに保磁力の向上が有効な手段となっている。そ
のため、従来、保磁力を増大させる方法としては以下に
説明する方法が採られている。
すなわち、アルミニウム合金基板上にバインダなどを混
ぜたγ−Fezes針状磁性粒子を塗布・焼成してなる
塗布型媒体においては、前記針状磁性粒子を微細化した
り、あるいはこれの表面にC。
を被着したりするようにしている。
また、アルミニウム合金基板の表面にNiPめっき層が
施された基板(以下、NiPめっき基板という)上に、
Co−P、 Co−N1−Pなどの磁性体層を無電解め
っき法により形成しためっき薄膜型媒体においては、め
っき浴組成の改善が行われている。
さらに、NiPめっき基板上にCo−Ni−Cr、 C
oJJiなどの磁性体層をスパッタ法により形成してな
るスパッタ薄膜型媒体においては、磁性体組成の改善が
行われている。また、基板を高温にした状態で磁性体を
成膜する方法(例えば、石川ら、第11回日本応用磁気
学会学術講演概要集、p18.1987.11)や、基
板に逆バイアス電圧を印加して磁性体層の形成条件を最
適化するようにした方法(例えば、橋本ら、第35回応
用物理学問係連合講演予稿集、p57.1988.10
)が提案されている。
このような方法により保磁力を増大させて、高記録密度
化が進められているが、塗布型媒体での薄膜化の困難性
などの点から、磁性体層をスパッタ法により形成してな
る磁気記録媒体が高密度磁気記録媒体として期待されて
いる。
一方、高記録密度化を達成するため、上記した保磁力の
向上などの他に、基板としては、表面粗さが小で表面欠
陥のない表面性状であること、磁性体層の下地として化
学的に安定であること、ヘッドとの接触による耐久性を
確保し得る硬度や強度を備えていること、などが要求さ
れる。また、基板材料に要求される特性としては、非磁
性、高硬度、耐熱性、軽量、強度・剛性などがある。
このような基板に関する要求に応えるため、最近、基板
としてカーボン基板(ガラス状カーボン基板)を使用し
た磁気記録媒体が提案されており、例えば特開昭62−
234232号公報にはガラス状カーボン基板上に磁性
薄膜を形成してなる磁気ディスクが示されている。また
、本出願人もガラス状カーボン基板の上にCO基合金1
膜を形成してなる磁気記録媒体を提案している(特願平
1−188225号)。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記従来技術において、スパッタ薄膜型媒体
における磁性体組成の改善による方法では、磁性材料と
してCo−Cr−Ptといった貴金属を用いるようにし
ており、経済的に好ましくない。
また、基板を高温にした状態で磁性体層をスパッタ法に
より形成する高温成膜方法では、保磁力が向上した磁気
記録媒体が得られているが、基板を保持するためのキャ
リアが加熱により変形し易くなる等の成膜装置上の問題
から、研究レベルではなく量産を行う場合には、基板加
熱温度が250′Cを超えた状態での磁性体層の形成は
容易でない、さらに、NiPめっき基板を使用する場合
には、280“C以上になるとNiPめっき層が仕様限
界値を超えて磁化して磁性体層に悪影響を与えるととも
に、300℃以上に加熱されると基板の変形が生じると
いう問題がある。
さらに、基板に逆バイアス電圧を印加した状態で磁性体
層を形成する方法では、保磁力が向上した磁気記録媒体
が得られているが、逆バイアス電圧を印加する必要があ
るため、成膜装置の構造が複雑になるという欠点がある
一方、前述したカーボン基板(ガラス状カーボン基板)
を使用した磁気記録媒体は、信顛性の高い優れたもので
はあるが、記録密度を向上させるための高保磁力化とい
う点では未だ十分とはいえない。
こうした状況のもとで、本発明者らは、カーボン基板の
持つ耐熱性に着目してこれを使用した磁気記録媒体の高
保磁力化の研究を重ね、次のようなことを見出した。す
なわち、カーボン基板を使用した磁気記録媒体を製造す
るにあたり、カーボン基板上にCo基合金磁性体層、あ
るいはCr下地層と前記磁性体層とを順次形成したもの
を高温加熱することにより保磁力を向上し得る。しかし
、製造過程においてCo基合金磁性体層上に保護潤滑層
を形成してから加熱処理する場合には、保護潤滑層が加
熱処理により酸素と反応してガス化され、その厚みが減
少したり、あるいは消失したりするので、これを防ぐ必
要がある。
この発明は、このような知見に基づいてなされたもので
あって、カーボン基板を用いた磁気記録媒体の製造にあ
たり、保磁力を向上させることができ、しかも製造過程
において保護潤滑層の厚みの減少やその消失を起こすこ
とのない、磁気記録媒体の製造方法を提供することを目
的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するために、請求項1の発明による磁
気記録媒体の製造方法は、カーボン基板上に順にCo基
合金からなる磁性体層と、保護潤滑層とを有する磁気記
録媒体の製造方法において、前記カーボン基板上に前記
Co基合金磁性体層を形成した後、これを250〜14
50℃の温度で加熱処理し、次いで前記保rJ潤滑層を
形成することを特徴としている。
また、請求項2の発明による磁気記録媒体の製造方法は
、カーボン基板上に順にCrからなる下地層、Co基合
金からなる磁性体層、及び保護潤滑層を有する磁気記録
媒体の製造方法において、前記カーボン基板上に前記C
r下地層と前記C。
基合金磁性体層とを形成した後、これを250〜145
0℃の温度で加熱処理し、次いで前記保護潤滑層を形成
することを特徴としている。
〔作 用〕
請求項1の発明による磁気記録媒体の製造方法において
は、カーボン基板上にGo−Ni−Cr、 Go−Ni
、Co−Ni−Pt、 Co−Cr 、あるいはCo−
Cr−Ta等のCo基合金からなる磁性体層を形成した
後、これを大気雰囲気中で高温加熱すると、Co基合金
磁性体層の粒界が選択的に酸化され、さらにCrを含む
Co基合金磁性体層ではCrの粒界への偏析が促進され
る。その結果、Co基合金磁性体層の結晶粒自体が単磁
区粒子として振る舞うことにより保磁力が向上するもの
と考えられる。また、真空中、あるいは不活性ガス雰囲
気中で高温加熱すると、Co%合金磁性体層における上
記のCrの粒界への偏析が促進されることにより保磁力
が向上するものと考えられる。
さらに、Co基合金磁性体層上に保護潤滑層を形成する
に先立ち上記加熱処理を行うようにしている。したがっ
て、前記磁性体層上に例えば代表的材料のCからなるC
保護潤滑層を形成してから加熱処理をする場合には、C
保護潤滑層が、C十0□→CO2のように、酸素と反応
してガス化され、その厚みが減少したり、あるいは消失
したりするが、このように加熱処理後に保護潤滑層を形
成するようにしたので、このようなことを防ぐことがで
きる。また、C保護潤滑層の形成後に大気雰囲気中では
なく真空中、あるいは不活性ガス雰囲気中で高温加熱す
る場合において真空度や不活性ガスの置換状態が悪いと
きには、上記のガス化反応によりC保護潤滑層の厚みが
減少し易いので、これをも防ぐことができる。
これに対して請求項2の発明による磁気記録媒体の製造
方法においては、カーボン基板上にCr下地層とCo基
合金磁性体層とを順次形成したのち、これを加熱処理す
ると、上述した保磁力向上作用に加えて、Cr下地層の
結晶格子の(110)面が加熱処理により成長し、Co
基合金磁性体層の磁化容易軸(C軸)が面内に配向され
易くなり保磁力が向上するものと考えられる。さらに、
上記の請求項1の製造方法と同様に、Co基合金磁性体
層上に保護潤滑層を形成するに先立って加熱処理を行う
ようにしているので、製造過程において保i’ti5滑
層の厚みの減少やその消失が発生することがない。
また、この発明においては加熱処理温度の範囲は250
〜1450℃5好ましくは350〜800″C程炭が最
適である。250℃より低い温度では保磁力向上効果が
十分発揮されず、1450℃を超えるとCo基合金磁性
体層そのものが熱により破壊される恐れがあるためであ
る。
〔実施例〕
以下、実施例に基づいてこの発明を説明する。
星上皇崖■ まず、磁気ディスク用のカーボン基板の作製について説
明すると、炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化性樹
脂であるフェノール・フォルムアルデヒド樹脂を磁気デ
ィスク形状に成形した後、N、ガス雰囲気中で1000
〜1500℃の温度で予備焼成する0次いで、これを熱
間静水圧加圧装置()(IP)を使用して2500℃に
加熱しつつ2000気圧の等方的圧力を加えてHIP処
理する。この得られた成形体に所定の周端面加工、表面
研磨を施して、厚さ1.27IIImの3.5インチの
磁気ディスク用基板とした。
そして、上記カーボン基板l上に、厚み3000人のC
r下地層2と、厚み600人のCoNiCr磁性体層3
(組成: Co、!、 5Nisocrt、 s )と
をり、C,マグネトロンスパッタ装置により基板温度2
50℃の条件で順次形成した0次に大気雰囲気中にて、
得られたものを450℃X15分、500℃X3分の各
条件でそれぞれ加熱処理した。しかる後、CoNiCr
磁性体層3上に厚み300人のC保護潤滑層4をり、C
,マグネトロンスパッタ装置により基板温度250℃の
条件で形成し、断面構成説明図の第1図(a)に示すよ
うな構成の磁気ディスクを作製した。また、比較のため
、カーボン基板1上に上記の各N2.3、及び4を順次
連続して形成したものを、大気雰囲気中にて上記と同様
の条件で加熱処理して比較用の磁気ディスクを作製した
次に得られた各磁気ディスクの保磁力Hc、飽和磁束密
度Bs、角形比S(−残留磁束密度Br/ B s )
 、及び保磁力角形比Sネ(■弐のmに相当)を振動試
料型磁力計(VSM)によりそれぞれ測定するとともに
、C保護潤滑層4の厚みを表面粗さ計(クリステツブ)
により測定した。肇だ、温度65“C×湿度85%の高
温多湿雰囲気に作製した各磁気ディスクを10日間放置
するいわゆる環境試験を行った後、再度、上記の各値を
測定した。これらの結果の一例を第1表に示す。
(以下、余白) 第1表 第1表から判るように、本実施例、及び比較例による方
法ともに加熱処理を行うことにより保磁力Hcが増大し
た磁気ディスクが得られた。
しかし、比較例による方法においては、カーボン基板l
上にCr下地N2、CoNiCr磁性体N3、及びC保
護潤滑層4を順次形成したものを、大気雰囲気中にて加
熱処理する製造工程としたので、この例の熱処理条件で
は加熱によってC保護潤滑N4が高温酸化によりガス化
され消失した。そのため、上記環境試験中にCoNiC
r磁性体層3が劣化し、飽和磁束密度Bsの値が低下し
た。
これに対してこの発明による方法では、CoNiCr磁
性体N3上にC保護潤滑層4を形成するに先立ち加熱処
理を行うようにしたので、高い保磁力HCを有し、環境
試験後においてもC保護潤滑層4の不良による飽和磁束
密度Bsなどが低下することのない磁気ディスクが得ら
れた。なお、この実施例のように大気雰囲気中にて加熱
処理を行う場合には、CO基合金磁性体層、この場合C
oN1CrWL性体N3の酸化の進行によって飽和磁束
密度Bs、残留磁束密度Brが低下する傾向があるので
、同一保磁力Hcを得ようとするときは、高温、短時間
での加熱処理が望ましい。
11裏施■ この実施例では、真空中にて加熱処理を行ってCr下地
層2を有する磁気ディスクを作製した。
すなわち、第1実施例と同様にして、カーボン基板1上
に、厚み3000人のC「下地層2と、厚み600人の
CoNiCr磁性体113([成; C0bt、 sN
i、。Crt。、)とをり、C,マグネトロンスパッタ
装置により基板温度250℃の条件で順次形成した。
しかる後、これを真空中にて第2図(a)に示す温度、
時間の条件で加熱処理した。なお、真空度は30mTo
 r rである。次いでCoNiCr1性体層3上に厚
み300人のC保護潤滑N4をO,C,マグネトロンス
パッタ装置により基板温疫250℃の条件で形成して磁
気ディスクを作製した。
次に得られた磁気ディスクの保磁力Hc、飽和磁束密度
Bs、角形比S、及び保磁力角形比S*をVSMにより
それぞれ測定した。これらの結果の一例を第2図(a)
〜第2図(d)に示す。第2図(a)は加熱処理条件と
保磁力Hcとの関係を示す図、第2図(ハ)は加熱処理
条件と飽和磁束密度Bsとの関係を示す図、第2図(C
)は加熱処理条件と角形比Sとの関係を示す図、第2図
(d)は加熱処理条件と保磁力角形比S傘との関係を示
す図である。なお、各図において符号ASは加熱処理な
しの場合の測定値を示す。
第2図(a)から判るように、この実施例の条件では5
00〜550℃の加熱温度範囲において、保磁力Hcが
向上した磁気ディスクが得られた。この場合、第2図(
b)、第2図(C)から判るように、大気中加熱処理に
より起こり易いCoNiCr磁性体層3の過変の酸化現
象がないので、高記録密度化を達成するための他の磁気
特性要因である角形比S、飽和磁束密度Bs(残留磁束
密IfB r )は加熱処理なしの場合の値をほぼ維持
しており、これらを低下させることなく保磁力Hcを向
上させることができた。さらに、CoNiCr[性体N
3上にC保護潤滑層4を形成するに先立って加熱処理を
行うようにしたので、C保iI潤滑N4の形成後にこれ
を行う場合において真空度が悪いときに発生し易いC保
護潤滑N4の厚みの減少を回避できた。
11皇施■ この実施例では、真空中にて加熱処理を行って(、oN
iCr磁性体層3とC保護潤滑層4とを有する磁気ディ
スクを作製した。
すなわち、第1実施例と同様にして準備したカーボン基
板1上に、厚み600人のCoNiCr磁性体N3(組
成: CO&!、 5Nisocrt、 s )を[1
,C,マグネトロンスパッタ装置により基板温度250
 ’Cの条件で形成した後、これを真空中にて第3図(
a)に示す温度、時間の条件で加熱処理した。なお、真
空度は30mTorrである。次いでCoNiCr磁性
体層3上に厚み300人のC保護潤滑層4をり、C,マ
グネトロンスパッタ装置により基板層!250″Cの条
件で形成し、断面構成説明図の第1図(b)に示すよう
な構成の磁気ディスクを作製した。
次に得られた磁気ディスクの保磁力Hcと飽和磁束密度
BsとをVSMによって測定した。
これらの結果を、加熱処理条件と保磁力Hcとの関係の
一例を示す図の第3図(a)、加熱処理条件と飽和磁束
密度Bsとの関係の一例を示す図の第3図由)に示す、
なお、各図ムこおいて符号ASは加熱処理なしの場合の
測定値を示す。
第3図(a)から判るように、この実施例の条件におい
ては、加熱温度を高めることにともなって保磁力Hcが
増大した磁気ディスクが得られた。また、CoNiCr
磁性体層3上にC保護潤滑層4を形成するに先立って加
熱処理を行うようにしたので、C保fl潤滑層4の形成
後にこれを行う場合において真空度が悪いときに発生し
易いC保護潤滑層4の厚みの減少を回避できた。
なお、上記各実施例ではCr下地層、Co基合金磁性体
層をスパッタ法により形成して磁気ディスクを作製する
例を示したが、本願発明は、これらを蒸着、めっき等の
方法で形成する場合にも適用できるとともに、加熱処理
を不活性ガス雰囲気中で行う場合にも適用可能である。
(発明の効果〕 以上述べたように、請求項1の発明による磁気記録媒体
の製造方法では、カーボン基板上にC。
基合金磁性体層を形成した猪、これを250〜1450
℃の温度で加熱処理するようにしたので、この加熱処理
によってCo基合金磁性体層の結晶粒自体が単磁区粒子
として振舞うようになり、保磁力を向上させた磁気記録
媒体が得られる。
また、請求項2の発明による磁気記録媒体の製造方法で
は、上記の保磁力向上作用に加え、カーボン基板上とC
o基合金磁性体層との間に形成されたCr下地層の結晶
格子の(110)面が加熱処理されることにより成長し
てCo基合金磁性体層の磁化容易軸が面内に配向され易
くなり、これにより、保磁力をより向上させた磁気記録
媒体が得られる。
さらに、上記両請求項の製造方法では、Co基合金磁性
体層上に保護潤滑層を形成するに先立ち加熱処理を行う
ようにしたので、保護潤滑層の形成後に加熱処理を行う
場合において発生する保護潤滑層の厚みの減少、あるい
は消失を回避しこれを防ぐことができる。
したがって、この発明によれば、加熱処理という簡易な
手段を用いて従来より高い保磁力を有する高記録密度化
に適した磁気記録媒体を掃供でき、これにより、磁気デ
ィスク装置の大型化を招くことなくその大容量化に寄与
することができるとともに、広く使用されているスバン
タ装置などの成膜装置がそのまま使用できるという経済
的効果をも得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、伽)は本願発明に係る磁気ディスクの断
面構成説明図、第2図(a)〜第2図(団は第2実施例
により得られた磁気ディスクの磁気特性の一例を示す図
、第3図(a)及び第3図(I))は第3実施例により
得られた磁気ディスクの磁気特性の一例を示す図である
。 1−カーボン基板、2−Cr下地層、 3−・CoNiCr磁性体層、4−C保護潤滑層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)カーボン基板上に順にCo基合金からなる磁性体
    層と、保護潤滑層とを有する磁気記録媒体の製造方法に
    おいて、前記カーボン基板上に前記Co基合金磁性体層
    を形成した後、これを250〜1450℃の温度で加熱
    処理し、次いで前記保護潤滑層を形成することを特徴と
    する磁気記録媒体の製造方法。
  2. (2)カーボン基板上に順にCrからなる下地層、Co
    基合金からなる磁性体層、及び保護潤滑層を有する磁気
    記録媒体の製造方法において、前記カーボン基板上に前
    記Cr下地層と前記Co基合金磁性体層とを形成した後
    、これを250〜1450℃の温度で加熱処理し、次い
    で前記保護潤滑層を形成することを特徴とする磁気記録
    媒体の製造方法。
JP7392590A 1989-10-27 1990-03-23 磁気記録媒体の製造方法 Expired - Lifetime JPH0719372B2 (ja)

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