JP2786621B2 - 水平記録用磁気記録ディスク及び製造方法 - Google Patents
水平記録用磁気記録ディスク及び製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水平記録用薄膜合
金磁気記録ディスク及び薄膜磁気記録ディスクの製造方
法に関するものであり、より具体的には、高い記録線密
度でも固有の媒体ノイズの少ないＣｏＰｔ合金のディス
クに関するものである。
金磁気記録ディスク及び薄膜磁気記録ディスクの製造方
法に関するものであり、より具体的には、高い記録線密
度でも固有の媒体ノイズの少ないＣｏＰｔ合金のディス
クに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＣｏＰｔ媒体を含む薄膜合金媒体の問題
点の１つは、記録線密度が上昇すると固有の媒体ノイズ
が増大することである。媒体ノイズは、磁気遷移の不規
則性によって生じ、リードバック信号のピークの不規則
なシフトの原因となる。この不規則なシフトを、「ピー
ク・ジッタ」または「時間ジッタ」という。したがっ
て、媒体ノイズが高いほど、ビット・エラー率も高くな
る。したがって、データが最大の線密度で記録できるよ
うに、発生するノイズが最大許容レベルより低い薄膜合
金媒体を開発することが望ましい。ピーク・ジッタおよ
び媒体のＳ／Ｎ比(ＳＮＲ)で表した固有媒体ノイズの、
磁気記録システムのビット・エラー率に対する影響につ
いては、カッツ(Katz)等の論文「磁気記録のエラー率に
対するビット・シフト分布の影響 (Effect of Bitshif
t Distribution on Error Rate inMagnetic Recordin
g）」、IEEE Transactions on Magnetics、Vol.MAG-1
5、pp.1050〜1053、1979年に記載されている。媒体Ｓ／
Ｎ比の測定については、ベルク(Belk)等の論文「高性能
剛性記録媒体の固有Ｓ／Ｎ比の測定(Measurement of th
e Intrinsic Signal-to-Noise Ratio for High Perform
ance Rigid Recording Media) 」、J.Appl. Physics、5
9 (2) 、1986年1月15日、pp.557〜562に記載されてい
る。
点の１つは、記録線密度が上昇すると固有の媒体ノイズ
が増大することである。媒体ノイズは、磁気遷移の不規
則性によって生じ、リードバック信号のピークの不規則
なシフトの原因となる。この不規則なシフトを、「ピー
ク・ジッタ」または「時間ジッタ」という。したがっ
て、媒体ノイズが高いほど、ビット・エラー率も高くな
る。したがって、データが最大の線密度で記録できるよ
うに、発生するノイズが最大許容レベルより低い薄膜合
金媒体を開発することが望ましい。ピーク・ジッタおよ
び媒体のＳ／Ｎ比(ＳＮＲ)で表した固有媒体ノイズの、
磁気記録システムのビット・エラー率に対する影響につ
いては、カッツ(Katz)等の論文「磁気記録のエラー率に
対するビット・シフト分布の影響 (Effect of Bitshif
t Distribution on Error Rate inMagnetic Recordin
g）」、IEEE Transactions on Magnetics、Vol.MAG-1
5、pp.1050〜1053、1979年に記載されている。媒体Ｓ／
Ｎ比の測定については、ベルク(Belk)等の論文「高性能
剛性記録媒体の固有Ｓ／Ｎ比の測定(Measurement of th
e Intrinsic Signal-to-Noise Ratio for High Perform
ance Rigid Recording Media) 」、J.Appl. Physics、5
9 (2) 、1986年1月15日、pp.557〜562に記載されてい
る。
【０００３】米国特許第4789598号明細書には、Ｃｒ濃
度を高めることにより、高記録密度における固有媒体ノ
イズを減少させる、コバルト・白金・クロム(ＣｏＰｔ
Ｃｒ)合金磁気記録ディスクが記載されている。
度を高めることにより、高記録密度における固有媒体ノ
イズを減少させる、コバルト・白金・クロム(ＣｏＰｔ
Ｃｒ)合金磁気記録ディスクが記載されている。
【０００４】特開昭61-276116号には、Ｓ／Ｎ比の高い
コバルト・ニッケル(ＣｏＮｉ)合金ディスクが開示され
ている。ディスクの基板にアルマイトをコーティング
し、酸素または窒素の存在下でＣｏＮｉ磁気皮膜をスパ
ッタ付着させた後、ディスクを熱処理して、ＣｏＮｉ磁
気皮膜中に２０〜５０原子パーセントの酸素または窒素
を有するディスクを形成する。
コバルト・ニッケル(ＣｏＮｉ)合金ディスクが開示され
ている。ディスクの基板にアルマイトをコーティング
し、酸素または窒素の存在下でＣｏＮｉ磁気皮膜をスパ
ッタ付着させた後、ディスクを熱処理して、ＣｏＮｉ磁
気皮膜中に２０〜５０原子パーセントの酸素または窒素
を有するディスクを形成する。
【０００５】他の３つの参照文献に、様々の量の酸素ま
たは窒素を磁気皮膜中に含有すると思われる各種のコバ
ルト合金薄膜ディスクが記載されているが、磁気皮膜の
Ｓ／Ｎ比を改善する目的で、スパッタリング中に酸素を
故意に導入することは教示されていない。たとえば、特
開昭61-142523号には、窒素の存在下で磁気皮膜をスパ
ッタリングした後、熱処理して、皮膜を結晶化させると
ともに窒素を放出させて、0.5〜5原子パーセントの窒素
を含有するＣｏＰｔ皮膜を形成させたＣｏＰｔディスク
が記載されている。特開昭61-253622号には、磁気皮膜
中に5原子パーセント以下の酸素または窒素が存在する
ＣｏＣｒＸ(Ｘ＝Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｐｄ、Ｉｒ等)合金
ディスクが記載されている。米国特許第4749459号明細
書には、磁気皮膜のスパッタ付着中に、得られたＣｏＰ
ｔ皮膜の保磁力を減少させる目的で、少量の窒素または
酸素を含有するガスを導入して形成した、ＣｏＰｔディ
スクが記載されている。
たは窒素を磁気皮膜中に含有すると思われる各種のコバ
ルト合金薄膜ディスクが記載されているが、磁気皮膜の
Ｓ／Ｎ比を改善する目的で、スパッタリング中に酸素を
故意に導入することは教示されていない。たとえば、特
開昭61-142523号には、窒素の存在下で磁気皮膜をスパ
ッタリングした後、熱処理して、皮膜を結晶化させると
ともに窒素を放出させて、0.5〜5原子パーセントの窒素
を含有するＣｏＰｔ皮膜を形成させたＣｏＰｔディスク
が記載されている。特開昭61-253622号には、磁気皮膜
中に5原子パーセント以下の酸素または窒素が存在する
ＣｏＣｒＸ(Ｘ＝Ｐｔ、Ｒｈ、Ｒｅ、Ｐｄ、Ｉｒ等)合金
ディスクが記載されている。米国特許第4749459号明細
書には、磁気皮膜のスパッタ付着中に、得られたＣｏＰ
ｔ皮膜の保磁力を減少させる目的で、少量の窒素または
酸素を含有するガスを導入して形成した、ＣｏＰｔディ
スクが記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、固有
媒体ノイズを低減した水平記録用の剛性磁気記録ディス
クを提供することを目的とする。さらに、本発明は、固
有媒体ノイズを低減した磁気記録ディスクの製造方法を
提供することを目的とする。
媒体ノイズを低減した水平記録用の剛性磁気記録ディス
クを提供することを目的とする。さらに、本発明は、固
有媒体ノイズを低減した磁気記録ディスクの製造方法を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、水平記録用の
改良されたＣｏＰｔ合金磁気記録ディスクに関するもの
で、ディスク中の磁気記録層は、５原子パーセント以上
３０原子パーセント未満の酸素を有する。ディスクは、
ＣｏＰｔ合金磁気層のスパッタ付着中に、アルゴンに酸
素を導入することにより形成する。得られたディスク構
造は、高い記録線密度でも、同様の条件で、ただしＣｏ
Ｐｔ合金磁気層のスパッタ付着中に酸素を導入せずに形
成したディスク構造に比べて、固有媒体ノイズがかなり
少ない。スパッタ付着工程後、このディスクを熱処理す
ることにより、Ｓ／Ｎ比はさらに改良される。
改良されたＣｏＰｔ合金磁気記録ディスクに関するもの
で、ディスク中の磁気記録層は、５原子パーセント以上
３０原子パーセント未満の酸素を有する。ディスクは、
ＣｏＰｔ合金磁気層のスパッタ付着中に、アルゴンに酸
素を導入することにより形成する。得られたディスク構
造は、高い記録線密度でも、同様の条件で、ただしＣｏ
Ｐｔ合金磁気層のスパッタ付着中に酸素を導入せずに形
成したディスク構造に比べて、固有媒体ノイズがかなり
少ない。スパッタ付着工程後、このディスクを熱処理す
ることにより、Ｓ／Ｎ比はさらに改良される。
【０００８】
【発明の実施の形態】酸素を磁気層に導入したＣｏＰｔ
合金ディスクの改善されたＳ／Ｎ比を説明するため、同
一の条件で２種類のＣｏＰｔＣｒディスクを製作した。
ただし、一方のディスクには、スパッタリング中に酸素
を導入した。
合金ディスクの改善されたＳ／Ｎ比を説明するため、同
一の条件で２種類のＣｏＰｔＣｒディスクを製作した。
ただし、一方のディスクには、スパッタリング中に酸素
を導入した。
【０００９】これらのディスクは、ＲＦ−ＤＣマグネト
ロン・スパッタリング装置（VarianS-gun）を用いて製
作した。基本圧力は、付着前は約３×１０−７トルで、
各付着工程では、アルゴンを約６ｍトルに保持した。装
置への電力は、５００Ｗ、Ａｒの流速は４０ｓｃｃｍと
した。付着はすべて、基板を加熱しないで行った。基板
は、５．２５インチのＡｌＭｇ／ＮｉＰディスクを使用
した。基板の表面は、高周波放電洗浄を行い、ＮｉＰ表
面被覆の上に厚さ７５０オングストロームのＣｒ下部層
を形成した。Ｃｒ下部層の上に、金属組成がＣｏ７７Ｐ
ｔ６Ｃｒ１７の磁気層を、１６０オングストロームの厚
さに形成した。その後、ＣｏＰｔＣｒ磁気層の上に、厚
さ２５０オングストロームの炭素の保護オーバコートを
形成した。１例では、スパッタリング・チェンバ中に、
Ａｒの流速の約５％の流速で酸素を導入した。
ロン・スパッタリング装置（VarianS-gun）を用いて製
作した。基本圧力は、付着前は約３×１０−７トルで、
各付着工程では、アルゴンを約６ｍトルに保持した。装
置への電力は、５００Ｗ、Ａｒの流速は４０ｓｃｃｍと
した。付着はすべて、基板を加熱しないで行った。基板
は、５．２５インチのＡｌＭｇ／ＮｉＰディスクを使用
した。基板の表面は、高周波放電洗浄を行い、ＮｉＰ表
面被覆の上に厚さ７５０オングストロームのＣｒ下部層
を形成した。Ｃｒ下部層の上に、金属組成がＣｏ７７Ｐ
ｔ６Ｃｒ１７の磁気層を、１６０オングストロームの厚
さに形成した。その後、ＣｏＰｔＣｒ磁気層の上に、厚
さ２５０オングストロームの炭素の保護オーバコートを
形成した。１例では、スパッタリング・チェンバ中に、
Ａｒの流速の約５％の流速で酸素を導入した。
【００１０】これら２種類のディスクの固有媒体ノイズ
の比較を第１図に示す。ＳｏＮＲのＳＮＲ項は、２０ｌ
ｏｇ（Ｖｓ／Ｖｎ）で定義される。ただし、Ｖｓは分離
された信号の振幅、Ｖｎは媒体の積分されたＲＭＳノイ
ズである。ＣｏＰｔＣｒ磁気層に酸素を導入して作成し
たディスクは、すべての記録密度で、ＳｏＮＲの顕著な
改善を示し、２４００ｆｒ／ｍｍでは、４．４ｄＢの改
善（３８．５ｄＢ対３４．１ｄＢ）であった。
の比較を第１図に示す。ＳｏＮＲのＳＮＲ項は、２０ｌ
ｏｇ（Ｖｓ／Ｖｎ）で定義される。ただし、Ｖｓは分離
された信号の振幅、Ｖｎは媒体の積分されたＲＭＳノイ
ズである。ＣｏＰｔＣｒ磁気層に酸素を導入して作成し
たディスクは、すべての記録密度で、ＳｏＮＲの顕著な
改善を示し、２４００ｆｒ／ｍｍでは、４．４ｄＢの改
善（３８．５ｄＢ対３４．１ｄＢ）であった。
【００１１】磁気層のＳ／Ｎ比の酸素含有量に対する依
存度を決定するために、上記と同様のスパッタリング条
件で、酸素流量のみを変化させて各種のディスクを製作
した。ディスクの構造も、厚さ１０００オングストロー
ムのＣｒ下部層の上に、厚さ約６０００オングストロー
ムのＣｏＰｔＣｒ磁気層を形成した点以外は上記と同じ
にした。ディスクの一部は、同じ記録結果を与える研磨
したＡｌＭｇ／ＮｉＰに加えて、半導体グレードの単結
晶シリコン上に製造した。シリコン基板の表面は平滑
で、天然の酸化物により非晶質であるため、本明細書に
記載する結果は、ガラスまたはガラス・セラミック基板
にも適用することができると思われる。酸素含有量は、
ラザフォードのバックスキャッタリングにより測定し
た。ＳｏＮＲで測定したＳ／Ｎ比に対する酸素含有量の
依存度を、第２図のグラフに示す。これらのディスクの
他の磁気特性の酸素含有量に対する依存度を、第３図、
第４図および第５図に示す。酸素が約３０原子パーセン
トになると、ディスクの磁気特性、特に保磁力Ｈｃの点
で、ディスクは磁気記録媒体としては実質的に使用でき
なくなる。
存度を決定するために、上記と同様のスパッタリング条
件で、酸素流量のみを変化させて各種のディスクを製作
した。ディスクの構造も、厚さ１０００オングストロー
ムのＣｒ下部層の上に、厚さ約６０００オングストロー
ムのＣｏＰｔＣｒ磁気層を形成した点以外は上記と同じ
にした。ディスクの一部は、同じ記録結果を与える研磨
したＡｌＭｇ／ＮｉＰに加えて、半導体グレードの単結
晶シリコン上に製造した。シリコン基板の表面は平滑
で、天然の酸化物により非晶質であるため、本明細書に
記載する結果は、ガラスまたはガラス・セラミック基板
にも適用することができると思われる。酸素含有量は、
ラザフォードのバックスキャッタリングにより測定し
た。ＳｏＮＲで測定したＳ／Ｎ比に対する酸素含有量の
依存度を、第２図のグラフに示す。これらのディスクの
他の磁気特性の酸素含有量に対する依存度を、第３図、
第４図および第５図に示す。酸素が約３０原子パーセン
トになると、ディスクの磁気特性、特に保磁力Ｈｃの点
で、ディスクは磁気記録媒体としては実質的に使用でき
なくなる。
【００１２】酸素を含有する雰囲気中で形成したＣｏＰ
ｔＣｒ層のＳ／Ｎ比は、完成したディスクをアニーリン
グすることによりさらに改善される。１つの実験ではＡ
ｌＭｇ／ ＮｉＰ基板上に直接形成したＣｏ７５Ｐｔ
１２Ｃｒ１３磁気層を有するディスクを、２３２℃で９
０分加熱し、常温まで徐冷した。この熱処理は、空気中
および、最初にオーブンを窒素でパージした実質的に酸
素を含有しない雰囲気中で行なった。得られたディスク
は、熱処理を行なわない同じディスクに比べて、９．８
μＶのＲＭＳノイズの減少と、２４００ｆｒ／ｍｍで
３．６ｄＢのＳ／Ｎ比の増大を示した。
ｔＣｒ層のＳ／Ｎ比は、完成したディスクをアニーリン
グすることによりさらに改善される。１つの実験ではＡ
ｌＭｇ／ ＮｉＰ基板上に直接形成したＣｏ７５Ｐｔ
１２Ｃｒ１３磁気層を有するディスクを、２３２℃で９
０分加熱し、常温まで徐冷した。この熱処理は、空気中
および、最初にオーブンを窒素でパージした実質的に酸
素を含有しない雰囲気中で行なった。得られたディスク
は、熱処理を行なわない同じディスクに比べて、９．８
μＶのＲＭＳノイズの減少と、２４００ｆｒ／ｍｍで
３．６ｄＢのＳ／Ｎ比の増大を示した。
【００１３】上記の説明は、記録媒体の一部を形成する
本発明の構造にのみ関するものであり、媒体および媒体
製造工程の、従来の周知の部分に関するものではない。
たとえば、薄膜合金ディスクの製造において、磁気皮膜
上に、スパッタリングした炭素等の保護オーバコートを
設けることが知られている。また、磁性層を構成する合
金としてはＣｏＰｔＣｒ合金を用いた実験で説明した
が、本発明の効果を奏するにはＣｒを含まないＣｏＰｔ
だけの合金に酸素を導入することでよい。
本発明の構造にのみ関するものであり、媒体および媒体
製造工程の、従来の周知の部分に関するものではない。
たとえば、薄膜合金ディスクの製造において、磁気皮膜
上に、スパッタリングした炭素等の保護オーバコートを
設けることが知られている。また、磁性層を構成する合
金としてはＣｏＰｔＣｒ合金を用いた実験で説明した
が、本発明の効果を奏するにはＣｒを含まないＣｏＰｔ
だけの合金に酸素を導入することでよい。
【００１４】本発明の好ましい実施例について詳細に説
明したが、本発明の範囲から逸脱することなく、これら
の実施例に修正を加えることが可能なことは、当業者に
は明らかである。
明したが、本発明の範囲から逸脱することなく、これら
の実施例に修正を加えることが可能なことは、当業者に
は明らかである。
【図１】図１は、磁気層に酸素を取り入れたＣｏＰｔＣ
ｒディスク及び酸素を取り入れないＣｏＰｔＣｒディス
クの、ＳｏＮＲと記録線密度の比較を示す図である。
ｒディスク及び酸素を取り入れないＣｏＰｔＣｒディス
クの、ＳｏＮＲと記録線密度の比較を示す図である。
【図２】図２は、ＣｏＰｔＣｒディスクの酸素含有量に
対して、ＳｏＮＲを１ｍｍ当たり１０００磁束反転(ｆ
ｒ／ｍｍ)でプロットした図である。
対して、ＳｏＮＲを１ｍｍ当たり１０００磁束反転(ｆ
ｒ／ｍｍ)でプロットした図である。
【図３】図３は、ＣｏＰｔＣｒディスクの酸素含有量に
対する残留磁気Ｍｒのグラフである。
対する残留磁気Ｍｒのグラフである。
【図４】図４は、ＣｏＰｔＣｒディスクの酸素含有量に
対する保磁力矩形性Ｓ*のグラフである。
対する保磁力矩形性Ｓ*のグラフである。
【図５】図５は、ＣｏＰｔＣｒディスクの酸素含有量に
対する飽和保磁力Ｈｃのグラフである。
対する飽和保磁力Ｈｃのグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 タダシ・ヨギ アメリカ合衆国、カリフォルニア州サ ン・ノゼ、アンジョウ・クリーク・サー クル7100番地 (56)参考文献 特開 昭58−32234（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−17224（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−63031（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−116925（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01F 10/16 H01F 41/18
Claims (5)
- 【請求項１】剛性の基板と、 上記基板の上にスパッタ付着により形成され、コバル
ト、白金および酸素を含む組成を有する磁気層とを有
し、該酸素は該磁気層中に５原子パーセント以上３０原
子パーセント未満含まれている水平記録用の磁気記録デ
ィスク。 - 【請求項２】上記磁気層がクロムを含む請求項１に記載
の磁気記録ディスク。 - 【請求項３】上記磁気層上に保護用のオーバーコートを
有する請求項１に記載の磁気記録ディスク。 - 【請求項４】コバルトと白金を含みスパッタ付着により
形成される磁気層を有する薄膜磁気記録ディスクを製造
する方法において上記磁気層中に５原子パーセント以上
３０原子パーセント未満の量の酸素を導入するのに十分
な量の酸素を、スパッタ付着中にスパッタ付着環境に導
入するステップを有することを特徴とする製造方法。 - 【請求項５】上記磁気層のスパッタ付着後に上記ディス
クを熱処理するステップを含む請求項４に記載の方法。
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| JPH09190945A JPH09190945A (ja) | 1997-07-22 |
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| EP0443478A3 (en) * | 1990-02-19 | 1992-03-11 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium and method for preparing the same |
| DE69130441T2 (de) * | 1990-08-07 | 1999-04-08 | Hitachi Maxell, Ltd., Ibaraki, Osaka | Magnetooptischer Aufzeichnungsträger |
| US5906880A (en) * | 1990-11-30 | 1999-05-25 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
| JPH05109046A (ja) * | 1990-12-13 | 1993-04-30 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| EP1160782A3 (en) * | 1991-12-27 | 2004-09-22 | Honeywell International Inc. | Multilayered magnetooptical recording medium and manufacturing method |
| US5466524A (en) * | 1992-05-07 | 1995-11-14 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Barium hexaferrite-silicon nitride-carbon magnetic recording medium |
| US5478661A (en) * | 1993-04-01 | 1995-12-26 | Ag Technology Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method for its production |
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| JPH0850715A (ja) * | 1994-01-28 | 1996-02-20 | Komag Inc | 低ノイズ，高い保磁力および優れた方形度を有する磁気記録媒体および磁気記録媒体形成方法 |
| US5846648A (en) * | 1994-01-28 | 1998-12-08 | Komag, Inc. | Magnetic alloy having a structured nucleation layer and method for manufacturing same |
| US5658659A (en) | 1994-01-28 | 1997-08-19 | Komag, Inc. | Magnetic alloy and method for manufacturing same |
| US5736013A (en) * | 1994-04-06 | 1998-04-07 | Komag, Inc. | Method for forming an improved magnetic media including sputtering of selected oxides or nitrides in the magnetic layer, and apparatus for same |
| US5567523A (en) * | 1994-10-19 | 1996-10-22 | Kobe Steel Research Laboratories, Usa, Applied Electronics Center | Magnetic recording medium comprising a carbon substrate, a silicon or aluminum nitride sub layer, and a barium hexaferrite magnetic layer |
| US5830569A (en) * | 1995-09-12 | 1998-11-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium containing CoPtO-based alloy magnetic film |
| US6413608B1 (en) | 1999-06-18 | 2002-07-02 | International Business Machines Corporation | Seed layer and underlayer with high and low oxygen concentration portions for hand disk magnetic recording medium on a glass substrate |
| ATE333487T1 (de) * | 2000-02-07 | 2006-08-15 | Nagoya Oilchemical | Harzzusammensetzung, formmaterial und geformter gegenstand |
| JP2003123220A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-04-25 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体、その製造方法、および、磁気記録装置 |
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| US6780291B2 (en) * | 2002-06-07 | 2004-08-24 | Seagate Technology Llc | Self-annealed thin film deposition process |
| US7314675B1 (en) | 2003-01-30 | 2008-01-01 | Seagate Technology Llc | Magnetic media with high Ms magnetic layer |
| US20050202287A1 (en) * | 2004-03-10 | 2005-09-15 | Seagate Technology Llc | Thermally isolated granular media for heat assisted magnetic recording |
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| US7491452B2 (en) | 2005-08-12 | 2009-02-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording disk with recording layer containing selected metal oxides and formed on a reduced-thickness exchange-break layer |
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| JPS5961105A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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| DE3546325C2 (de) * | 1985-01-17 | 1994-06-01 | Hitachi Metals Ltd | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
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-
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