JPH1081540A - 情報記録媒体用基板に用いる材料、この材料を用いた情報記録媒体用基板及び磁気ディスク、並びにその製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用基板に用いる材料、この材料を用いた情報記録媒体用基板及び磁気ディスク、並びにその製造方法Info
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- JPH1081540A JPH1081540A JP8233935A JP23393596A JPH1081540A JP H1081540 A JPH1081540 A JP H1081540A JP 8233935 A JP8233935 A JP 8233935A JP 23393596 A JP23393596 A JP 23393596A JP H1081540 A JPH1081540 A JP H1081540A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面の平坦性及び機械的強度に優れたガラス
からなる情報記録媒体用基板に適した材料であって、磁
性層の磁気特性向上のためのより高い熱処理にも耐え得
る優れた特性を有する材料、この材料を用いた基板、こ
の基板を用いた磁気記録媒体及びその製造方法の提供。 【解決手段】 転移点温度が７５０℃以上であるガラス
からなり、かつ情報記録媒体用基板に用いられる、例え
ば、ガラスが、SiO2−Al2O3 −MgO −CaO 、SiO2−Al2O
3 −MgO −Y2O3、SiO2−Al2O3 −CaO −Y2O3、SiO2−Al
2O3 −MgO −CaO−Y2O3、及びSiO2−Al2O3 −M2O3（但
し、Ｍは三価金属）からなる群のいずれかの基本組成を
有する材料。この材料からなる情報記録媒体用基板。上
記の材料からなる基板上に、少なくとも磁性層を有する
磁気ディスク。上記の材料からなる基板上に少なくとも
磁性層を形成した後、前記材料の転移点温度より少なく
とも４０℃低い温度で熱処理して磁性層の保磁力を高め
る工程を有する磁気ディスクの製造方法。
からなる情報記録媒体用基板に適した材料であって、磁
性層の磁気特性向上のためのより高い熱処理にも耐え得
る優れた特性を有する材料、この材料を用いた基板、こ
の基板を用いた磁気記録媒体及びその製造方法の提供。 【解決手段】 転移点温度が７５０℃以上であるガラス
からなり、かつ情報記録媒体用基板に用いられる、例え
ば、ガラスが、SiO2−Al2O3 −MgO −CaO 、SiO2−Al2O
3 −MgO −Y2O3、SiO2−Al2O3 −CaO −Y2O3、SiO2−Al
2O3 −MgO −CaO−Y2O3、及びSiO2−Al2O3 −M2O3（但
し、Ｍは三価金属）からなる群のいずれかの基本組成を
有する材料。この材料からなる情報記録媒体用基板。上
記の材料からなる基板上に、少なくとも磁性層を有する
磁気ディスク。上記の材料からなる基板上に少なくとも
磁性層を形成した後、前記材料の転移点温度より少なく
とも４０℃低い温度で熱処理して磁性層の保磁力を高め
る工程を有する磁気ディスクの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク、光
ディスク等の情報記録媒体に用いられる基板に適したガ
ラスからなる材料関する。特に、平坦性及び強度に優れ
たガラスからなる材料であって、高い耐熱性を有し、磁
性層の保磁力を向上させるため、より高い温度での熱処
理にも耐え得る磁気記録媒体ディスク等の情報記録媒体
用の基板材料、その材料を用いた基板、さらにこの基板
を用いた情報記録媒体及びその製造方法に関する。
ディスク等の情報記録媒体に用いられる基板に適したガ
ラスからなる材料関する。特に、平坦性及び強度に優れ
たガラスからなる材料であって、高い耐熱性を有し、磁
性層の保磁力を向上させるため、より高い温度での熱処
理にも耐え得る磁気記録媒体ディスク等の情報記録媒体
用の基板材料、その材料を用いた基板、さらにこの基板
を用いた情報記録媒体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、磁気ディスク（ハードデ
ィスク）用のガラス基板としては、基板表面をイオン交
換で強化した化学強化ガラスや、基板表面に結晶化処理
を施した結晶化ガラス基板が知られている。例えば、化
学強化ガラス基板として、特開平１−２３９０３６号公
報（以下先行技術１という）には、重量％でSiO2を６０
〜７０％、Al2O3 を０．５〜１４％、R2O （ただしＲは
アルカリ金属）を１０〜３２％、ZnO を１〜１５％、B2
O3を１．１〜１４％含むガラスをイオン交換することに
より強化した磁気記録媒体用ガラス基板が開示されてい
る。また、結晶化ガラスとして、特開平７−１８７７１
１号公報（以下先行技術２という）に、重量％で、SiO2
を５０〜６５％、CaO を１８〜２５％、Na2Oを６〜１１
％、K2O を６〜１２％、Al2O3 を０〜２．５％、Ｆを５
〜９％含み、主結晶としてカナサイトを含む磁気記録媒
体用ガラス基板が開示されている。さらに、特開平８−
１６９７２４号公報（以下先行技術３という）には、Si
O2−Al2O3 −RO（ただしＲは二価金属）系ガラスにおい
て、必須成分の合計量が重量％で、SiO2＋Al2O3 35〜55
％で、CaO ＋BaO 40〜60％a 含有する組成であって、転
移温度(Tg)が650 ℃以上であって、かつ熱膨張係数
（α）が80〜110 ×10-7／℃の範囲である磁気記録媒体
ディスク等に用いられる高膨張耐熱ガラスが開示されて
いる。
ィスク）用のガラス基板としては、基板表面をイオン交
換で強化した化学強化ガラスや、基板表面に結晶化処理
を施した結晶化ガラス基板が知られている。例えば、化
学強化ガラス基板として、特開平１−２３９０３６号公
報（以下先行技術１という）には、重量％でSiO2を６０
〜７０％、Al2O3 を０．５〜１４％、R2O （ただしＲは
アルカリ金属）を１０〜３２％、ZnO を１〜１５％、B2
O3を１．１〜１４％含むガラスをイオン交換することに
より強化した磁気記録媒体用ガラス基板が開示されてい
る。また、結晶化ガラスとして、特開平７−１８７７１
１号公報（以下先行技術２という）に、重量％で、SiO2
を５０〜６５％、CaO を１８〜２５％、Na2Oを６〜１１
％、K2O を６〜１２％、Al2O3 を０〜２．５％、Ｆを５
〜９％含み、主結晶としてカナサイトを含む磁気記録媒
体用ガラス基板が開示されている。さらに、特開平８−
１６９７２４号公報（以下先行技術３という）には、Si
O2−Al2O3 −RO（ただしＲは二価金属）系ガラスにおい
て、必須成分の合計量が重量％で、SiO2＋Al2O3 35〜55
％で、CaO ＋BaO 40〜60％a 含有する組成であって、転
移温度(Tg)が650 ℃以上であって、かつ熱膨張係数
（α）が80〜110 ×10-7／℃の範囲である磁気記録媒体
ディスク等に用いられる高膨張耐熱ガラスが開示されて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気記録媒
体は、年々、高記録密度化が進められており、そのた
め、磁気記録媒体用ガラス基板の物性にも種々の要求が
ある。その１つに高い耐熱性がある。磁気記録媒体の記
録密度を高めるために、磁性層（磁気記録層）の保磁力
等の磁気特性を高める必要がある。磁性層の保磁力は、
使用する磁性材料によっても変化するが，同一の材料で
あっても、熱処理をすることで高めることができる。そ
のため、新たな磁性材料の開発とは別に、現有の材料を
用いてより高い保磁力を得る目的で、基板上に形成した
磁性層をより高い温度で熱処理することが望まれる。
体は、年々、高記録密度化が進められており、そのた
め、磁気記録媒体用ガラス基板の物性にも種々の要求が
ある。その１つに高い耐熱性がある。磁気記録媒体の記
録密度を高めるために、磁性層（磁気記録層）の保磁力
等の磁気特性を高める必要がある。磁性層の保磁力は、
使用する磁性材料によっても変化するが，同一の材料で
あっても、熱処理をすることで高めることができる。そ
のため、新たな磁性材料の開発とは別に、現有の材料を
用いてより高い保磁力を得る目的で、基板上に形成した
磁性層をより高い温度で熱処理することが望まれる。
【０００４】しかしながら、先行技術１に開示されてい
るような従来の化学強化ガラスは、ガラス転移点が５０
０℃前後である。それに対して、磁性層の保磁力等の磁
気特性の向上のためには、５００℃より、さらに高い温
度での熱処理が有効である。従って、先行技術１に記載
の化学強化ガラスではガラス自体の耐熱性が十分であ
る。また、化学強化ガラスは、一般にガラスの表面にア
ルカリ金属イオンのイオン交換層を設けたものである。
ところが、化学強化ガラスの表面に磁性層を形成し、熱
処理を施すと、イオン交換層中のイオンが磁性層に移動
して悪い影響を与えるという問題もある。アルカリ金属
イオンの磁性層への移動は温度が高くなる程活発にな
る。このようなアルカリ金属イオンの移動を抑制するた
めには、さらに低い温度での熱処理が好ましい。化学強
化ガラス基板を用いて、高い温度での熱処理による磁気
特性の向上は難しく、高保磁力を有する磁気記録媒体を
得ることが困難である。
るような従来の化学強化ガラスは、ガラス転移点が５０
０℃前後である。それに対して、磁性層の保磁力等の磁
気特性の向上のためには、５００℃より、さらに高い温
度での熱処理が有効である。従って、先行技術１に記載
の化学強化ガラスではガラス自体の耐熱性が十分であ
る。また、化学強化ガラスは、一般にガラスの表面にア
ルカリ金属イオンのイオン交換層を設けたものである。
ところが、化学強化ガラスの表面に磁性層を形成し、熱
処理を施すと、イオン交換層中のイオンが磁性層に移動
して悪い影響を与えるという問題もある。アルカリ金属
イオンの磁性層への移動は温度が高くなる程活発にな
る。このようなアルカリ金属イオンの移動を抑制するた
めには、さらに低い温度での熱処理が好ましい。化学強
化ガラス基板を用いて、高い温度での熱処理による磁気
特性の向上は難しく、高保磁力を有する磁気記録媒体を
得ることが困難である。
【０００５】さらに、先行技術２に開示されているよう
な従来の結晶化ガラスは、転移を起こさないために耐熱
性は優れている。しかし、磁気記録媒体用ガラス基板
は、高記録密度になればそれだけ、表面の平滑性が要求
される。これは、磁気記録媒体の高密度記録化のために
磁気ヘッドの低浮上化が必要だからである。しかるに、
結晶化ガラスは、多数の微細粒子を含有することから、
表面粗さ（Ra）を１０Å以下にすることは不可能であ
る。その結果、表面の平坦性が乏しく、磁気ディスクの
表面形状が悪化する。また、磁気ヘッドの磁気ディスク
への吸着を防止する目的で、例えば基板上に形成する凹
凸制御層を形成等を行う。しかし、結晶化ガラスを用い
た基板では、凹凸制御層の表面モホロジーの制御が困難
であるという問題もある。
な従来の結晶化ガラスは、転移を起こさないために耐熱
性は優れている。しかし、磁気記録媒体用ガラス基板
は、高記録密度になればそれだけ、表面の平滑性が要求
される。これは、磁気記録媒体の高密度記録化のために
磁気ヘッドの低浮上化が必要だからである。しかるに、
結晶化ガラスは、多数の微細粒子を含有することから、
表面粗さ（Ra）を１０Å以下にすることは不可能であ
る。その結果、表面の平坦性が乏しく、磁気ディスクの
表面形状が悪化する。また、磁気ヘッドの磁気ディスク
への吸着を防止する目的で、例えば基板上に形成する凹
凸制御層を形成等を行う。しかし、結晶化ガラスを用い
た基板では、凹凸制御層の表面モホロジーの制御が困難
であるという問題もある。
【０００６】先行技術３に記載のガラスは、最高で７３
０℃の転移温度を有するものである。通常、ガラス基板
は、その形状を変化させることなく熱処理するために、
転移温度より約４０℃以上低い温度での処理が必要であ
る。従って、上記７３０℃の転移温度を有するガラス
は、最高で６８０℃での熱処理に耐え得る。ところが、
次世代の磁気記録媒体においては、より過酷な磁気特性
が要求され、その結果、さらに高い温度、例えば、７０
０℃を超える温度での熱処理が必要となる。従って、上
記先行技術３に記載のガラスでは、そのような熱処理に
耐え得ない。
０℃の転移温度を有するものである。通常、ガラス基板
は、その形状を変化させることなく熱処理するために、
転移温度より約４０℃以上低い温度での処理が必要であ
る。従って、上記７３０℃の転移温度を有するガラス
は、最高で６８０℃での熱処理に耐え得る。ところが、
次世代の磁気記録媒体においては、より過酷な磁気特性
が要求され、その結果、さらに高い温度、例えば、７０
０℃を超える温度での熱処理が必要となる。従って、上
記先行技術３に記載のガラスでは、そのような熱処理に
耐え得ない。
【０００７】尚、耐熱性が優れた基板としては、例えば
特開平３―２７３５２５号公報に開示されているような
磁気記録媒体用のカーボン基板がある。しかしカーボン
基板は、ガラスよりも機械的強度が劣り、磁気ディスク
の小型化が進むにあたり要求されている基板の薄板化に
対応することが困難である。
特開平３―２７３５２５号公報に開示されているような
磁気記録媒体用のカーボン基板がある。しかしカーボン
基板は、ガラスよりも機械的強度が劣り、磁気ディスク
の小型化が進むにあたり要求されている基板の薄板化に
対応することが困難である。
【０００８】本発明は上述した事情に鑑みてなされたも
のであり、本発明の第１の目的は、表面の平坦性及び機
械的強度に優れたガラスからなる情報記録媒体用基板に
適した材料であって、磁性層の磁気特性向上のためのよ
り高い熱処理にも耐え得る優れた特性を有する材料と、
この材料を用いた基板を提供することにある。さらに、
本発明の第２の目的は、磁気ヘッドの低浮上化、即ち高
密度記録化が達成でき、さらに基板の薄板化、即ち小型
化が達成でき、さらに磁気特性の向上を最大限達成する
ことができる磁気記録媒体及びその製造方法を提供する
ことにある。
のであり、本発明の第１の目的は、表面の平坦性及び機
械的強度に優れたガラスからなる情報記録媒体用基板に
適した材料であって、磁性層の磁気特性向上のためのよ
り高い熱処理にも耐え得る優れた特性を有する材料と、
この材料を用いた基板を提供することにある。さらに、
本発明の第２の目的は、磁気ヘッドの低浮上化、即ち高
密度記録化が達成でき、さらに基板の薄板化、即ち小型
化が達成でき、さらに磁気特性の向上を最大限達成する
ことができる磁気記録媒体及びその製造方法を提供する
ことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、転移点温度が７５０℃以上であるガラスか
らなり、かつ情報記録媒体用基板に用いられることを特
徴とする材料〔請求項１〕、ガラスが、SiO2−Al2O3 −
MgO −CaO 、SiO2−Al2O3 −MgO −Y2O3、SiO2−Al2O3
−CaO −Y2O3、SiO2−Al2O3 −MgO −CaO −Y2O3、及び
SiO2−Al2O3 −M2O3（但し、Ｍは三価金属）からなる群
のいずれかの基本組成を有することを特徴とする上記材
料〔請求項２〕、前記の材料からなることを特徴とする
情報記録媒体用基板〔請求項３〕、高い表面平滑性を有
する上記情報記録媒体用基板〔請求項４〕、情報記録媒
体が磁気ディスクである前記の基板〔請求項５〕、前記
の材料からなる基板上に、少なくとも磁性層を有するこ
とを特徴とする磁気ディスク〔請求項６〕、磁性層が加
熱処理により保磁力を高めた磁性層である前記の磁気デ
ィスク〔請求項７〕、及び前記の材料からなる基板上に
少なくとも磁性層を形成した後、前記材料の転移点温度
より少なくとも４０℃低い温度で熱処理して磁性層の保
磁力を高める工程を有することを特徴とする磁気ディス
クの製造方法〔請求項８〕。
の本発明は、転移点温度が７５０℃以上であるガラスか
らなり、かつ情報記録媒体用基板に用いられることを特
徴とする材料〔請求項１〕、ガラスが、SiO2−Al2O3 −
MgO −CaO 、SiO2−Al2O3 −MgO −Y2O3、SiO2−Al2O3
−CaO −Y2O3、SiO2−Al2O3 −MgO −CaO −Y2O3、及び
SiO2−Al2O3 −M2O3（但し、Ｍは三価金属）からなる群
のいずれかの基本組成を有することを特徴とする上記材
料〔請求項２〕、前記の材料からなることを特徴とする
情報記録媒体用基板〔請求項３〕、高い表面平滑性を有
する上記情報記録媒体用基板〔請求項４〕、情報記録媒
体が磁気ディスクである前記の基板〔請求項５〕、前記
の材料からなる基板上に、少なくとも磁性層を有するこ
とを特徴とする磁気ディスク〔請求項６〕、磁性層が加
熱処理により保磁力を高めた磁性層である前記の磁気デ
ィスク〔請求項７〕、及び前記の材料からなる基板上に
少なくとも磁性層を形成した後、前記材料の転移点温度
より少なくとも４０℃低い温度で熱処理して磁性層の保
磁力を高める工程を有することを特徴とする磁気ディス
クの製造方法〔請求項８〕。
【００１０】
【発明の実施の態様】本発明の材料は、転移点温度が７
５０℃以上であるガラスからなり、かつ情報記録媒体用
基板に用いられることを特徴とする材料である。７５０
℃以上の転移点温度を有するため、約７００℃以上での
熱処理が可能であるという利点がある。７５０℃以上の
転移点温度を有するガラスは、例えば、基本組成が、Si
O2−Al2O3 −MgO −CaO 、SiO2−Al2O3 −MgO −Y2O3、
SiO2−Al2O3 −CaO −Y2O3、SiO2−Al2O3 −MgO −CaO
−Y2O3、及びSiO2−Al2O3 −M2O3（但し、Ｍは三価金
属）であるガラスから選ぶことができる。尚、SiO2−Al
2O3 −M2O3系ガラスにおけるＭ（三価金属）としては、
例えば、Ｙ、Nd、Gd、Ho、La、Ce、Yb等を用いることが
できる。これらのガラスは、いずれも、高い転移点温度
を有し、結晶化ガラスではないので、表面平滑性も高
い。本発明の材料は、好ましくは転移点温度が８００℃
以上のガラスである。また、多成分ガラスでは、転移点
温度は１０００℃以下が実用的である。
５０℃以上であるガラスからなり、かつ情報記録媒体用
基板に用いられることを特徴とする材料である。７５０
℃以上の転移点温度を有するため、約７００℃以上での
熱処理が可能であるという利点がある。７５０℃以上の
転移点温度を有するガラスは、例えば、基本組成が、Si
O2−Al2O3 −MgO −CaO 、SiO2−Al2O3 −MgO −Y2O3、
SiO2−Al2O3 −CaO −Y2O3、SiO2−Al2O3 −MgO −CaO
−Y2O3、及びSiO2−Al2O3 −M2O3（但し、Ｍは三価金
属）であるガラスから選ぶことができる。尚、SiO2−Al
2O3 −M2O3系ガラスにおけるＭ（三価金属）としては、
例えば、Ｙ、Nd、Gd、Ho、La、Ce、Yb等を用いることが
できる。これらのガラスは、いずれも、高い転移点温度
を有し、結晶化ガラスではないので、表面平滑性も高
い。本発明の材料は、好ましくは転移点温度が８００℃
以上のガラスである。また、多成分ガラスでは、転移点
温度は１０００℃以下が実用的である。
【００１１】また、上記基本組成以外に加えることがで
きる成分としては、TiO2、ZrO2、Li2O、As2O3 、Sb2O
3 、ZnO 、SrO 、NiO 、CoO 、Fe2O3 、CuO 、Cr2O3 、
B2O3、P2O5、V2O5等が挙げられる。TiO2は、ガラスの高
温粘性を低め熔融性を改善し、また構造の安定化や耐久
性を増す働きをするが、転移点温度を下げる作用がある
ため、加える場合は少量（例えば１０モル％以下）とす
ることが好ましい。ZrO2は、ガラスの結晶安定性や耐熱
性を向上する働きを有する。LiO2は、主にガラスの溶解
性を上げる作用を有するが、このようなアルカリ成分は
転移点温度を下げるので、加える場合は少量（例えば１
２モル％以下）とすることが好ましい。また、LiO2を含
有させる場合、ガラスの強度を高めるためにイオン交換
による化学強化処理を行うことが可能である。一方、Li
O2を含有しない無アルカリガラスの場合は、このガラス
からなる基板上に薄膜を形成した場合、アルカリ成分が
基板上に薄膜に拡散し、悪影響を及ぼすことを防止でき
る。As2O3 とSb2O3 はガラスの均質化を図るための脱胞
剤として少量（例えば３モル％以下）加えてもよい。Zn
O 、SrO 、NiO 、CoO 、Fe2O3 、CuO 、Cr2O3 、B2O3、
P2O5、V2O5等はガラスの高温溶解性や物理的な物性を調
整するために添加してもよい。また、少量のV2O5、Cr2O
3 、CuO 、CoO などの着色剤をガラスに添加する場合、
ガラスに赤外線吸収特性を持たせ、加熱ランプ照射によ
る磁性層の加熱処理を効果的に行うことができる。
きる成分としては、TiO2、ZrO2、Li2O、As2O3 、Sb2O
3 、ZnO 、SrO 、NiO 、CoO 、Fe2O3 、CuO 、Cr2O3 、
B2O3、P2O5、V2O5等が挙げられる。TiO2は、ガラスの高
温粘性を低め熔融性を改善し、また構造の安定化や耐久
性を増す働きをするが、転移点温度を下げる作用がある
ため、加える場合は少量（例えば１０モル％以下）とす
ることが好ましい。ZrO2は、ガラスの結晶安定性や耐熱
性を向上する働きを有する。LiO2は、主にガラスの溶解
性を上げる作用を有するが、このようなアルカリ成分は
転移点温度を下げるので、加える場合は少量（例えば１
２モル％以下）とすることが好ましい。また、LiO2を含
有させる場合、ガラスの強度を高めるためにイオン交換
による化学強化処理を行うことが可能である。一方、Li
O2を含有しない無アルカリガラスの場合は、このガラス
からなる基板上に薄膜を形成した場合、アルカリ成分が
基板上に薄膜に拡散し、悪影響を及ぼすことを防止でき
る。As2O3 とSb2O3 はガラスの均質化を図るための脱胞
剤として少量（例えば３モル％以下）加えてもよい。Zn
O 、SrO 、NiO 、CoO 、Fe2O3 、CuO 、Cr2O3 、B2O3、
P2O5、V2O5等はガラスの高温溶解性や物理的な物性を調
整するために添加してもよい。また、少量のV2O5、Cr2O
3 、CuO 、CoO などの着色剤をガラスに添加する場合、
ガラスに赤外線吸収特性を持たせ、加熱ランプ照射によ
る磁性層の加熱処理を効果的に行うことができる。
【００１２】本発明の情報記録媒体用基板は、上記の本
発明のガラスからなる材料からなることを特徴とする。
情報記録媒体としては、例えば、磁気記録媒体を挙げる
ことができ、磁気記録媒体としては、例えば、ハードデ
ィスク等の磁気ディスクを挙げることができる。基板の
サイズや形状は、用途に応じて適宜決定できる。さらに
本発明の基板は、高い表面平滑性を有することを特徴と
する。高い表面平滑性とは、具体的には、表面粗さ（R
a) が５Å以下であることを意味する。基板表面の平滑
性は、磁気ディスクとした場合の、磁気ヘッドと磁気デ
ィスクとの間隔を低減して、記録密度を高めることがで
きるという利点がある。
発明のガラスからなる材料からなることを特徴とする。
情報記録媒体としては、例えば、磁気記録媒体を挙げる
ことができ、磁気記録媒体としては、例えば、ハードデ
ィスク等の磁気ディスクを挙げることができる。基板の
サイズや形状は、用途に応じて適宜決定できる。さらに
本発明の基板は、高い表面平滑性を有することを特徴と
する。高い表面平滑性とは、具体的には、表面粗さ（R
a) が５Å以下であることを意味する。基板表面の平滑
性は、磁気ディスクとした場合の、磁気ヘッドと磁気デ
ィスクとの間隔を低減して、記録密度を高めることがで
きるという利点がある。
【００１３】本発明のガラスからなる材料及び基板の製
造方法は、特に限定されず、公知の各種ガラス及び基板
の製造方法をそのまま用いることができる。例えば、高
温溶融法、即ち所定の割合のガラス原料を空気中又は不
活性ガス雰囲気中で溶解し、バブリングや脱泡剤の添加
や攪拌などによってガラスの均質化を行い、周知のプレ
ス法やダウンドーロ成形などの方法により板ガラスに成
形され、その後、研削、研磨などの加工が施され所望の
サイズ、形状の基板とされる。なお、研磨ではラッピン
グ及び酸化セリウムなどの研磨粉によるポリッシング加
工を行うことで、表面粗さ(Ra)を、例えば３〜５Åの範
囲にすることができる。
造方法は、特に限定されず、公知の各種ガラス及び基板
の製造方法をそのまま用いることができる。例えば、高
温溶融法、即ち所定の割合のガラス原料を空気中又は不
活性ガス雰囲気中で溶解し、バブリングや脱泡剤の添加
や攪拌などによってガラスの均質化を行い、周知のプレ
ス法やダウンドーロ成形などの方法により板ガラスに成
形され、その後、研削、研磨などの加工が施され所望の
サイズ、形状の基板とされる。なお、研磨ではラッピン
グ及び酸化セリウムなどの研磨粉によるポリッシング加
工を行うことで、表面粗さ(Ra)を、例えば３〜５Åの範
囲にすることができる。
【００１４】また、本発明は、上記本発明の基板に主表
面に、少なくとも磁性層を形成した磁気ディスクであ
る。磁気ディスクとしては、ハードディスクを挙げるこ
とができる。特に本発明は、本発明の基板上に直接又は
間接的に磁性層を形成した磁気ディスクであって、前記
磁性層が、熱処理により保磁力を高めたものである。こ
の熱処理は、例えば、５００℃以上の温度、好ましく
は、６００℃以上の温度、より好ましくは、７００℃以
上の温度、さらに好ましくは８００℃以上の温度であっ
て、材料の転移温度より４０℃以上低い温度、好ましく
は６０℃以上低い温度で行うことが適当である。
面に、少なくとも磁性層を形成した磁気ディスクであ
る。磁気ディスクとしては、ハードディスクを挙げるこ
とができる。特に本発明は、本発明の基板上に直接又は
間接的に磁性層を形成した磁気ディスクであって、前記
磁性層が、熱処理により保磁力を高めたものである。こ
の熱処理は、例えば、５００℃以上の温度、好ましく
は、６００℃以上の温度、より好ましくは、７００℃以
上の温度、さらに好ましくは８００℃以上の温度であっ
て、材料の転移温度より４０℃以上低い温度、好ましく
は６０℃以上低い温度で行うことが適当である。
【００１５】磁性層以外の層としては、公知の各種の層
を必要により適宜設けることができる。そのような層
は、機能面から、下地層、保護層、潤滑層、凹凸制御層
などが挙げられる。これらの各層の形成には各種薄膜形
成技術が利用される。磁性層の材料は特に制限されな
い。磁性層としては、例えば、Co系の他、フェライト
系、鉄―希土類系などが挙げられる。磁性層は、水平磁
気記録、垂直磁気記録のいずれの磁性層でもよい。磁性
層としては、具体的には、例えば、Coを主成分とするCo
Pt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCrやCoNiCrPt、
CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiO などの磁性薄膜が挙げ
られる。また、磁性層を非磁性層で分割してノイズ低減
を図った多層構成としてもよい。磁性層における下地層
は、磁性層に応じて選択される。下地層としては、例え
ば、Cr、Mo、Ta、Ti、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Alなどの非磁性金属
から選ばれる少なくとも一種以上の材料、又はそれらの
金属の酸化物、窒化物、炭化物等からなる下地層等が挙
げられる。Coを主成分とする磁性層の場合には、磁気特
性向上の観点からCr単体やCr合金であることが好まし
い。下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層
した複数層構造とすることもできる。例えば、Al／Cr／
CrMo、Al／Cr／Cr等の多層下地層等が挙げられる。
を必要により適宜設けることができる。そのような層
は、機能面から、下地層、保護層、潤滑層、凹凸制御層
などが挙げられる。これらの各層の形成には各種薄膜形
成技術が利用される。磁性層の材料は特に制限されな
い。磁性層としては、例えば、Co系の他、フェライト
系、鉄―希土類系などが挙げられる。磁性層は、水平磁
気記録、垂直磁気記録のいずれの磁性層でもよい。磁性
層としては、具体的には、例えば、Coを主成分とするCo
Pt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCrやCoNiCrPt、
CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtSiO などの磁性薄膜が挙げ
られる。また、磁性層を非磁性層で分割してノイズ低減
を図った多層構成としてもよい。磁性層における下地層
は、磁性層に応じて選択される。下地層としては、例え
ば、Cr、Mo、Ta、Ti、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Alなどの非磁性金属
から選ばれる少なくとも一種以上の材料、又はそれらの
金属の酸化物、窒化物、炭化物等からなる下地層等が挙
げられる。Coを主成分とする磁性層の場合には、磁気特
性向上の観点からCr単体やCr合金であることが好まし
い。下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層
した複数層構造とすることもできる。例えば、Al／Cr／
CrMo、Al／Cr／Cr等の多層下地層等が挙げられる。
【００１６】また、基板と磁性層の間又は磁性層の上部
に、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着することを防止す
るための凹凸制御層を設けてもよい。この凹凸制御層を
設けることによって、磁気ディスクの表面粗さは適度に
調整されるので、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着する
ことがなくなり、信頼性の高い磁気ディスクが得られ
る。凹凸制御層の材料及び形成方法は多種知られてお
り、特に制限されない。例えば、凹凸制御層の材料とし
ては、Al、Ag、Ti、Nb、Ta、Bi、Si、Zr、Cr、Cu、Au、
Sn、Pd、Sb、Ge、Mgなどから選ばれる少なくとも一種以
上の金属、又はそれらの合金、あるいは、それらの酸化
物、窒化物、炭化物等からなる下地層等が挙げられる。
形成が容易であるという観点からは、Al単体やAl合金、
酸化Al、窒化AlといったAlを主成分とする金属であるこ
とが望ましい。また、ヘッドスティクションを考慮する
と、凹凸形成層の表面粗さは、Rmax＝５０〜３００Åで
あることが好ましい。より好ましい範囲は、Rmax＝１０
０〜２００Åである。Rmaxが５０Å未満の場合、磁気デ
ィスク表面が平坦に近いため、磁気ヘッドと磁気ディス
クが吸着し、磁気ヘッドや磁気ディスクが吸着し、磁気
ヘッドや磁気ディスクが傷ついてしまったり、吸着によ
るヘッドクラッシュを起こすので好ましくない。また、
Rmaxが３００Åを超える場合、グライド高さ（グライド
ハイト）が大きくなり記録密度の低下を招くので好まし
くない。
に、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着することを防止す
るための凹凸制御層を設けてもよい。この凹凸制御層を
設けることによって、磁気ディスクの表面粗さは適度に
調整されるので、磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着する
ことがなくなり、信頼性の高い磁気ディスクが得られ
る。凹凸制御層の材料及び形成方法は多種知られてお
り、特に制限されない。例えば、凹凸制御層の材料とし
ては、Al、Ag、Ti、Nb、Ta、Bi、Si、Zr、Cr、Cu、Au、
Sn、Pd、Sb、Ge、Mgなどから選ばれる少なくとも一種以
上の金属、又はそれらの合金、あるいは、それらの酸化
物、窒化物、炭化物等からなる下地層等が挙げられる。
形成が容易であるという観点からは、Al単体やAl合金、
酸化Al、窒化AlといったAlを主成分とする金属であるこ
とが望ましい。また、ヘッドスティクションを考慮する
と、凹凸形成層の表面粗さは、Rmax＝５０〜３００Åで
あることが好ましい。より好ましい範囲は、Rmax＝１０
０〜２００Åである。Rmaxが５０Å未満の場合、磁気デ
ィスク表面が平坦に近いため、磁気ヘッドと磁気ディス
クが吸着し、磁気ヘッドや磁気ディスクが吸着し、磁気
ヘッドや磁気ディスクが傷ついてしまったり、吸着によ
るヘッドクラッシュを起こすので好ましくない。また、
Rmaxが３００Åを超える場合、グライド高さ（グライド
ハイト）が大きくなり記録密度の低下を招くので好まし
くない。
【００１７】尚、凹凸制御層を設けずに、ガラス基板表
面に、エッチング処理やレーザー光の照射等の手段で凹
凸を付け、テクスチャリング処理を施してもよい。保護
層としては、例えば、Cr膜、Cr合金膜、炭素膜、ジルコ
ニア膜、シリカ膜等が挙げられる。これらの保護膜は、
下地層、磁性層等とともにインライン型スパッタ装置等
で連続して形成できる。また、これらの保護膜は、単層
としてもよく、あるいは、同一又は異種の膜からなる多
層構成としてもよい。上記保護層上に、あるいは上記保
護膜に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、
上記保護層上にテトラアルコキシランをアルコール系の
溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散し
て塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（SiO2）膜を形成
してもよい。この場合、保護膜と凹凸制御層の両方の機
能を果たす。潤滑層としては多種多様な提案がなされて
いるが、一般的には、液体潤滑剤であるパーフルオロポ
リエーテルをフレオン系などの溶媒で希釈し、媒体表面
にディッピング法、スピンコート法、スプレイ法によっ
て塗布し、必要に応じて加熱処理を行って形成する。
面に、エッチング処理やレーザー光の照射等の手段で凹
凸を付け、テクスチャリング処理を施してもよい。保護
層としては、例えば、Cr膜、Cr合金膜、炭素膜、ジルコ
ニア膜、シリカ膜等が挙げられる。これらの保護膜は、
下地層、磁性層等とともにインライン型スパッタ装置等
で連続して形成できる。また、これらの保護膜は、単層
としてもよく、あるいは、同一又は異種の膜からなる多
層構成としてもよい。上記保護層上に、あるいは上記保
護膜に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、
上記保護層上にテトラアルコキシランをアルコール系の
溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散し
て塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（SiO2）膜を形成
してもよい。この場合、保護膜と凹凸制御層の両方の機
能を果たす。潤滑層としては多種多様な提案がなされて
いるが、一般的には、液体潤滑剤であるパーフルオロポ
リエーテルをフレオン系などの溶媒で希釈し、媒体表面
にディッピング法、スピンコート法、スプレイ法によっ
て塗布し、必要に応じて加熱処理を行って形成する。
【００１８】また、本発明は、上記本発明の磁気ディス
クの製造も提供する。この製造方法では、本発明の基板
に少なくとも磁性層を形成した後、基板のガラス転移点
より低い温度で熱処理する。このような条件での熱処理
により、基板の変形等がおこることがなく、磁性層の保
磁力をより高めることができる。熱処理温度は、好まし
くは基板の転移点温度よりも４０℃以下の温度に設定す
ることが好ましく、さらに好ましくは６０℃以下とする
ことにより、基板の熱による影響を抑えることができ
る。例えば、従来の化学強化ガラスからなる基板を用い
た磁気ディスクの場合、ガラス転移点が高くても５００
℃程度であるため、３００〜４００℃程度の熱処理しか
行うことができなかったが、本発明の基板を用いた場
合、５００〜８００℃程度の熱処理が行うことができ
る。
クの製造も提供する。この製造方法では、本発明の基板
に少なくとも磁性層を形成した後、基板のガラス転移点
より低い温度で熱処理する。このような条件での熱処理
により、基板の変形等がおこることがなく、磁性層の保
磁力をより高めることができる。熱処理温度は、好まし
くは基板の転移点温度よりも４０℃以下の温度に設定す
ることが好ましく、さらに好ましくは６０℃以下とする
ことにより、基板の熱による影響を抑えることができ
る。例えば、従来の化学強化ガラスからなる基板を用い
た磁気ディスクの場合、ガラス転移点が高くても５００
℃程度であるため、３００〜４００℃程度の熱処理しか
行うことができなかったが、本発明の基板を用いた場
合、５００〜８００℃程度の熱処理が行うことができ
る。
【００１９】
【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに具体
的に説明する。磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 以下、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明する。 実施例１〜３２ 出発原料として、SiO2、Al2O3 、Al(OH)3 、MgO 、CaCO
3 、Y2O3、TiO2、ZrO2 、Li2O3 などを用いて、所定の割
合に２５０〜３００ｇ秤量し、十分に混合して調合バッ
チと成し、これを白金るつぼに入れ、１５５０℃で空気
中３〜５時間ガラスの熔融を行った。熔融後、ガラス融
液を所定のカーボン金型に流し、ガラスの転移点温度ま
で放冷してから直ちにアニール炉に入れ、ガラスの転移
温度範囲で約１時間アニールにて炉内で室温まで放冷し
た。得られたガラスは顕微鏡で観察できる結晶が析出し
なかった。得られたガラス試料をディスク状に切断し、
主表面を酸化セリウムにてポリッシング加工することに
よって磁気ディスク用ガラス基板を得た。得られた磁気
ディスク用ガラス基板の組成、転移点温度、表面粗さ
（Ｒａ）の測定結果を表１〜表５に示す。 表１：SiO2−Al2O3 −MgO −CaO 系のガラス 表２：SiO2−Al2O3 −MgO −Y2O3系のガラス 表３：SiO2−Al2O3 −CaO −Y2O3系のガラス 表４：SiO2−Al2O3 −MgO −CaO −Y2O3系のガラス 表５：SiO2−Al2O3 ―M2O3系（但し、Ｍは三価金属）の
ガラス
的に説明する。磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 以下、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明する。 実施例１〜３２ 出発原料として、SiO2、Al2O3 、Al(OH)3 、MgO 、CaCO
3 、Y2O3、TiO2、ZrO2 、Li2O3 などを用いて、所定の割
合に２５０〜３００ｇ秤量し、十分に混合して調合バッ
チと成し、これを白金るつぼに入れ、１５５０℃で空気
中３〜５時間ガラスの熔融を行った。熔融後、ガラス融
液を所定のカーボン金型に流し、ガラスの転移点温度ま
で放冷してから直ちにアニール炉に入れ、ガラスの転移
温度範囲で約１時間アニールにて炉内で室温まで放冷し
た。得られたガラスは顕微鏡で観察できる結晶が析出し
なかった。得られたガラス試料をディスク状に切断し、
主表面を酸化セリウムにてポリッシング加工することに
よって磁気ディスク用ガラス基板を得た。得られた磁気
ディスク用ガラス基板の組成、転移点温度、表面粗さ
（Ｒａ）の測定結果を表１〜表５に示す。 表１：SiO2−Al2O3 −MgO −CaO 系のガラス 表２：SiO2−Al2O3 −MgO −Y2O3系のガラス 表３：SiO2−Al2O3 −CaO −Y2O3系のガラス 表４：SiO2−Al2O3 −MgO −CaO −Y2O3系のガラス 表５：SiO2−Al2O3 ―M2O3系（但し、Ｍは三価金属）の
ガラス
【００２０】
【表１】
【００２１】
【表２】
【００２２】
【表３】
【００２３】
【表４】
【００２４】
【表５】
【００２５】比較例１〜２ 比較のため、特開平１―２３９０３６号公報（先行技術
１）に記載されたイオン交換による化学強化ガラス基板
（比較例１）と、特開平７―１９７７１１号公報（先行
技術２）に記載された結晶化ガラス基板（比較例２）と
の組成及び特性を表６に示す。
１）に記載されたイオン交換による化学強化ガラス基板
（比較例１）と、特開平７―１９７７１１号公報（先行
技術２）に記載された結晶化ガラス基板（比較例２）と
の組成及び特性を表６に示す。
【００２６】
【表６】
【００２７】表１〜５から明らかなように、実施例１〜
３２のガラスは、転移点温度が７５０℃以上あり、耐熱
性に優れている。また、表面粗さも５Å以下とすること
ができ、平坦性に優れているので、高記録密度化を図る
ことができ、磁気ディスク用ガラス基板として有用であ
る。また、本実施例におけるガラスは、アルカリを含ま
ないか、含んでも微量のため、ガラス中のアルカリイオ
ンが基板上に形成した薄膜中に拡散して特性を変えてし
まうことがないという利点がある。これに対して、比較
例１の化学強化ガラス基板は、平坦性に優れているもの
の、耐熱性が本発明の基板に比べ著しく劣る。従って、
磁気ディスクを製造する際、高い保磁力を得るためえに
行う磁性層に対する熱処理を高い温度（例えば５００℃
以上）で行うことができず、高保磁力を有する磁気ディ
スクが得らない。また、比較例２の結晶化ガラス基板
は、転移点温度を有しないため耐熱性は優れているもの
の、平坦性が本発明のガラス基板に比べて著しく劣るた
め、高密度化を図ることができない。
３２のガラスは、転移点温度が７５０℃以上あり、耐熱
性に優れている。また、表面粗さも５Å以下とすること
ができ、平坦性に優れているので、高記録密度化を図る
ことができ、磁気ディスク用ガラス基板として有用であ
る。また、本実施例におけるガラスは、アルカリを含ま
ないか、含んでも微量のため、ガラス中のアルカリイオ
ンが基板上に形成した薄膜中に拡散して特性を変えてし
まうことがないという利点がある。これに対して、比較
例１の化学強化ガラス基板は、平坦性に優れているもの
の、耐熱性が本発明の基板に比べ著しく劣る。従って、
磁気ディスクを製造する際、高い保磁力を得るためえに
行う磁性層に対する熱処理を高い温度（例えば５００℃
以上）で行うことができず、高保磁力を有する磁気ディ
スクが得らない。また、比較例２の結晶化ガラス基板
は、転移点温度を有しないため耐熱性は優れているもの
の、平坦性が本発明のガラス基板に比べて著しく劣るた
め、高密度化を図ることができない。
【００２８】磁気ディスクの製造方法 図１に示すように、本発明の磁気ディスク１は、実施例
16のガラス基板２上に、順次、凹凸制御層３、下地層
４、磁性層５、保護層６、潤滑層７を形成したものであ
る。各層について具体的に説明すると、基板１は、外径
６５ｍｍφ、中心部の穴径２０ｍｍφ、厚さ０．３８１
ｍｍの円板上に加工したものであって、その両主表面を
表面粗さがRa＝４Å、Rmax＝４０Åとなるように精密研
磨したものである。凹凸制御層は、平均粗さ５０Å、表
面粗さRmaxが１５０Å、窒素の含有量が５〜３５％のAl
Ｎの薄膜である。下地層は、厚さ約６００ÅのCrＶの薄
膜で、組成比はCr：８３ａｔ％、Ｖ：１７ａｔ％であ
る。磁性層は、厚さ約３００ÅのCoPtCrの薄膜で、組成
比はCo：７６ａｔ％、Pt：６．６ａｔ％、Cr：１７．４
ａｔ％である。保護層は、厚さ約１００Åのカーボン薄
膜である。潤滑層は、パーフルオロポリエーテルからな
る潤滑層をスピンコート法によって、カーボン保護層上
に塗布して厚さ８Åに形成したものである。
16のガラス基板２上に、順次、凹凸制御層３、下地層
４、磁性層５、保護層６、潤滑層７を形成したものであ
る。各層について具体的に説明すると、基板１は、外径
６５ｍｍφ、中心部の穴径２０ｍｍφ、厚さ０．３８１
ｍｍの円板上に加工したものであって、その両主表面を
表面粗さがRa＝４Å、Rmax＝４０Åとなるように精密研
磨したものである。凹凸制御層は、平均粗さ５０Å、表
面粗さRmaxが１５０Å、窒素の含有量が５〜３５％のAl
Ｎの薄膜である。下地層は、厚さ約６００ÅのCrＶの薄
膜で、組成比はCr：８３ａｔ％、Ｖ：１７ａｔ％であ
る。磁性層は、厚さ約３００ÅのCoPtCrの薄膜で、組成
比はCo：７６ａｔ％、Pt：６．６ａｔ％、Cr：１７．４
ａｔ％である。保護層は、厚さ約１００Åのカーボン薄
膜である。潤滑層は、パーフルオロポリエーテルからな
る潤滑層をスピンコート法によって、カーボン保護層上
に塗布して厚さ８Åに形成したものである。
【００２９】次に、本発明の一実施例に係る磁気ディス
クの製造方法について説明する。まず、本実施例で製造
したガラスを、外径６５ｍｍφ、中心部の穴径２０ｍｍ
φ、厚さ０．３８１ｍｍの円板上に研削加工し、その両
主表面を表面粗さがＲａ＝４Å、Rmax＝４０Åとなるよ
うに精密研磨して磁気ディスク用ガラス基板を得る。次
いで、上記ガラス基板を基板ホルダーにセットした後、
インラインスパッタ装置の仕込み室に送り込む。続い
て、ガラス基板のセットされたホルダーを、Alターゲッ
トがエッチされた第一チャンバーに送り込み、圧力４mt
orr 、基板温度３５０℃、Ar＋N2ガス（N2＝４％）雰囲
気でスパッタリングする。その結果、ガラス基板上に、
表面粗さRmax＝１５０Å、膜厚５０ÅのAlＮ薄膜（凹凸
形成層）が得られた。
クの製造方法について説明する。まず、本実施例で製造
したガラスを、外径６５ｍｍφ、中心部の穴径２０ｍｍ
φ、厚さ０．３８１ｍｍの円板上に研削加工し、その両
主表面を表面粗さがＲａ＝４Å、Rmax＝４０Åとなるよ
うに精密研磨して磁気ディスク用ガラス基板を得る。次
いで、上記ガラス基板を基板ホルダーにセットした後、
インラインスパッタ装置の仕込み室に送り込む。続い
て、ガラス基板のセットされたホルダーを、Alターゲッ
トがエッチされた第一チャンバーに送り込み、圧力４mt
orr 、基板温度３５０℃、Ar＋N2ガス（N2＝４％）雰囲
気でスパッタリングする。その結果、ガラス基板上に、
表面粗さRmax＝１５０Å、膜厚５０ÅのAlＮ薄膜（凹凸
形成層）が得られた。
【００３０】次に、AlＮが成膜されたガラス基板のセッ
トされたホルダーを、CrＶ（Cr：８３ａｔ％、Ｖ：１７
ａｔ％）ターゲットが設置された第二チャンバー、CoPt
Cr（Co：７６ａｔ％、Pt：６．６ａｔ％、Cr：１７．４
ａｔ％）ターゲットが設置された第三チャンバーに連続
的に順次送り込み、基板上に成膜する。これらの膜は、
圧力２mtorr 、基板温度３５０℃、Ａｒ雰囲気中でスパ
ッタリングし、膜厚約６００ÅのCrＶ下地層、膜厚約３
００ÅのCoPtCr磁性層を得る。次いで、凹凸制御層、下
地層、磁性層が形成された積層体を、加熱処理するため
の加熱ヒーターが設けられた第四チャンバーに送り込
む。このとき第四チャンバー内をArガス（圧力２mtorr
）雰囲気にし、表７に示すように、熱処理温度を４０
０℃から８００℃に変化させて熱処理を行う。上記基板
をカーボンターゲットが設置された第五チャンバーに送
り込み、Ar＋H2ガス（H2＝６％）雰囲気中で成膜したこ
と以外は上記CrＶ下地層及びCoPtCr磁性層と同じ成膜条
件で、膜厚約１００Åのカーボン保護層を得る。最後
に、カーボン保護層の形成までを終えた基板を上記イン
ラインスパッタ装置から取り出し、そのカーボン保護層
の表面に、ディッピング法によってパーフルオロポリエ
ーテルを塗布して厚さ８Åの潤滑層を形成して磁気記録
媒体を得た。
トされたホルダーを、CrＶ（Cr：８３ａｔ％、Ｖ：１７
ａｔ％）ターゲットが設置された第二チャンバー、CoPt
Cr（Co：７６ａｔ％、Pt：６．６ａｔ％、Cr：１７．４
ａｔ％）ターゲットが設置された第三チャンバーに連続
的に順次送り込み、基板上に成膜する。これらの膜は、
圧力２mtorr 、基板温度３５０℃、Ａｒ雰囲気中でスパ
ッタリングし、膜厚約６００ÅのCrＶ下地層、膜厚約３
００ÅのCoPtCr磁性層を得る。次いで、凹凸制御層、下
地層、磁性層が形成された積層体を、加熱処理するため
の加熱ヒーターが設けられた第四チャンバーに送り込
む。このとき第四チャンバー内をArガス（圧力２mtorr
）雰囲気にし、表７に示すように、熱処理温度を４０
０℃から８００℃に変化させて熱処理を行う。上記基板
をカーボンターゲットが設置された第五チャンバーに送
り込み、Ar＋H2ガス（H2＝６％）雰囲気中で成膜したこ
と以外は上記CrＶ下地層及びCoPtCr磁性層と同じ成膜条
件で、膜厚約１００Åのカーボン保護層を得る。最後
に、カーボン保護層の形成までを終えた基板を上記イン
ラインスパッタ装置から取り出し、そのカーボン保護層
の表面に、ディッピング法によってパーフルオロポリエ
ーテルを塗布して厚さ８Åの潤滑層を形成して磁気記録
媒体を得た。
【００３１】表７に、熱処理温度と保磁力の関係を示
す。尚、表７の実施例３３〜３７は、表３に示す実施例
１６の組成のガラスを基板として用いたときのデータで
あり、比較例３は、表６の比較例１の化学強化ガラスを
基板として用いたときのデータである。
す。尚、表７の実施例３３〜３７は、表３に示す実施例
１６の組成のガラスを基板として用いたときのデータで
あり、比較例３は、表６の比較例１の化学強化ガラスを
基板として用いたときのデータである。
【００３２】
【表７】
【００３３】表７から明らかなように、本発明のガラス
基板を用いて４００〜８００℃の熱処理を行うことによ
り、従来の化学強化ガラス基板を用いて低い熱処理温度
を強いられた場合に比べて、高い保磁力が得られること
がわかる。また、実施例３３〜３７の磁気ディスクとヘ
ッドとの関係は、動摩擦係数が０．２であり、静摩擦係
数が０．２５であった。さらに、ＣＳＳ（contact star
t/stop）耐久試験（１０万回）を行ったが全く問題な
く、その時のグライド高さも０．０１５μｍ以下であ
り、高記録密度でかつ信頼性の高い磁気ディスクである
ことが分かった。以上、好ましい実施例を挙げて本発明
を説明したが、本発明は上記実施例に限定されるもので
はない。例えば、磁性層の熱処理は、磁性層の成膜後で
あって保護層の形成前に行ったが、保護層を形成するた
めの第五チャンバーに加熱処理するためのヒーターを設
け、保護層成膜後に加熱処理を行ってもよい。また、熱
処理における雰囲気も圧力１mtorr 〜大気圧であれば同
様の効果が得られる。
基板を用いて４００〜８００℃の熱処理を行うことによ
り、従来の化学強化ガラス基板を用いて低い熱処理温度
を強いられた場合に比べて、高い保磁力が得られること
がわかる。また、実施例３３〜３７の磁気ディスクとヘ
ッドとの関係は、動摩擦係数が０．２であり、静摩擦係
数が０．２５であった。さらに、ＣＳＳ（contact star
t/stop）耐久試験（１０万回）を行ったが全く問題な
く、その時のグライド高さも０．０１５μｍ以下であ
り、高記録密度でかつ信頼性の高い磁気ディスクである
ことが分かった。以上、好ましい実施例を挙げて本発明
を説明したが、本発明は上記実施例に限定されるもので
はない。例えば、磁性層の熱処理は、磁性層の成膜後で
あって保護層の形成前に行ったが、保護層を形成するた
めの第五チャンバーに加熱処理するためのヒーターを設
け、保護層成膜後に加熱処理を行ってもよい。また、熱
処理における雰囲気も圧力１mtorr 〜大気圧であれば同
様の効果が得られる。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、情報記録
媒体用基板として、転移点温度が７５０℃以上のガラス
を用いることにより、耐熱性、平坦性に優れ、かつカー
ボン基板より強度の大きい情報記録媒体用基板を得るこ
とができる。また、本発明の磁気ディスクの製造方法に
よれば、基板の耐熱性が優れているため、磁性層の特性
向上に必要な高温の熱処理を行うことができ、磁性層の
特性向上を最大限に図ることができる。
媒体用基板として、転移点温度が７５０℃以上のガラス
を用いることにより、耐熱性、平坦性に優れ、かつカー
ボン基板より強度の大きい情報記録媒体用基板を得るこ
とができる。また、本発明の磁気ディスクの製造方法に
よれば、基板の耐熱性が優れているため、磁性層の特性
向上に必要な高温の熱処理を行うことができ、磁性層の
特性向上を最大限に図ることができる。
【図１】 ガラス基板２上に、順次、凹凸制御層３、下
地層４、磁性層５、保護層６、潤滑層７を形成した本発
明の磁気ディスク１の概略断面図。
地層４、磁性層５、保護層６、潤滑層７を形成した本発
明の磁気ディスク１の概略断面図。
Claims (8)
- 【請求項１】 転移点温度が７５０℃以上であるガラス
からなり、かつ情報記録媒体用基板に用いられることを
特徴とする材料。 - 【請求項２】 ガラスが、SiO2−Al2O3 −MgO −CaO 、
SiO2−Al2O3 −MgO −Y2O3、SiO2−Al2O3 −CaO −Y
2O3、SiO2−Al2O3 −MgO −CaO −Y2O3、及びSiO2−Al2
O3 −M2O3（但し、Ｍは三価金属）からなる群のいずれ
かの基本組成を有することを特徴とする請求項１記載の
材料。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の材料からなるこ
とを特徴とする情報記録媒体用基板。 - 【請求項４】 高い表面平滑性を有する請求項３に記載
の基板。 - 【請求項５】 情報記録媒体が磁気ディスクである請求
項３または４に記載の基板。 - 【請求項６】 請求項１又は２に記載の材料からなる基
板上に、少なくとも磁性層を有することを特徴とする磁
気ディスク。 - 【請求項７】 磁性層が加熱処理により保磁力を高めた
磁性層である請求項６に記載の磁気ディスク。 - 【請求項８】 請求項１又は２に記載の材料からなる基
板上に少なくとも磁性層を形成した後、前記材料の転移
点温度より少なくとも４０℃低い温度で熱処理して磁性
層の保磁力を高める工程を有することを特徴とする磁気
ディスクの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23393596A JP3989988B2 (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 情報記録媒体用基板及び磁気ディスク、並びにその製造方法 |
| US08/923,142 US6063470A (en) | 1996-09-04 | 1997-09-04 | Substrate for information recording media and magnetic disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23393596A JP3989988B2 (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 情報記録媒体用基板及び磁気ディスク、並びにその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1081540A true JPH1081540A (ja) | 1998-03-31 |
| JP3989988B2 JP3989988B2 (ja) | 2007-10-10 |
Family
ID=16962926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23393596A Expired - Lifetime JP3989988B2 (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 情報記録媒体用基板及び磁気ディスク、並びにその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6063470A (ja) |
| JP (1) | JP3989988B2 (ja) |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3989988B2 (ja) | 2007-10-10 |
| US6063470A (en) | 2000-05-16 |
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