JPH0423223A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0423223A JPH0423223A JP12825590A JP12825590A JPH0423223A JP H0423223 A JPH0423223 A JP H0423223A JP 12825590 A JP12825590 A JP 12825590A JP 12825590 A JP12825590 A JP 12825590A JP H0423223 A JPH0423223 A JP H0423223A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、磁気ディスク装置などに用いられる磁気記
録媒体を製造する方法に係り、詳しくは、チタン基板を
使用し高い保磁力か得られるようにした、磁気記録媒体
の製造方法に関する。
録媒体を製造する方法に係り、詳しくは、チタン基板を
使用し高い保磁力か得られるようにした、磁気記録媒体
の製造方法に関する。
周知のように、磁気ディスクなとの磁気記録媒体におい
ては、その高記録密度化か進められている。一般に、磁
気記録媒体の性能を決定する因子として、次式■て表さ
れる磁化遷移幅a(μm)かある。
ては、その高記録密度化か進められている。一般に、磁
気記録媒体の性能を決定する因子として、次式■て表さ
れる磁化遷移幅a(μm)かある。
atxδ−Br/ (m −Hc) ■
なお、δは磁性体層膜厚(μm)、Brは残留磁束密度
(G) 、mは角形性に関する因子、Hcは保磁力(O
e)である。記録密度を向上させるには上記の式■て表
される磁化遷移幅aの値を小さくする必要かあり、磁性
体層の薄膜化とともに、保磁力の向上か育効な手段とな
っている。
なお、δは磁性体層膜厚(μm)、Brは残留磁束密度
(G) 、mは角形性に関する因子、Hcは保磁力(O
e)である。記録密度を向上させるには上記の式■て表
される磁化遷移幅aの値を小さくする必要かあり、磁性
体層の薄膜化とともに、保磁力の向上か育効な手段とな
っている。
この保磁力を向上させるようにした磁気記録媒体の作製
方法としては、例えば、NiPめっき基板(アルミニウ
ム合金基板の表面にNiPめっきを施した基板)上にこ
の基板を高温にした状態て例えはCo−Ni−Crなと
の磁性体層をスパッタ法により形成するようにした方法
(例えば、石川ら、第11回日本応用磁気学会学術講演
概要集、p18.1987、11)、あるいは、基板に
逆バイアス電圧を印加して磁性体層の成膜条件を最適化
するようにした方法(例えば、橋本ら、第35回応用物
理学関係連合講演予稿集、p57、]988.10)な
どが提案されている。
方法としては、例えば、NiPめっき基板(アルミニウ
ム合金基板の表面にNiPめっきを施した基板)上にこ
の基板を高温にした状態て例えはCo−Ni−Crなと
の磁性体層をスパッタ法により形成するようにした方法
(例えば、石川ら、第11回日本応用磁気学会学術講演
概要集、p18.1987、11)、あるいは、基板に
逆バイアス電圧を印加して磁性体層の成膜条件を最適化
するようにした方法(例えば、橋本ら、第35回応用物
理学関係連合講演予稿集、p57、]988.10)な
どが提案されている。
また、本出願人も、基板としてチタン基板を用い、チタ
ン基板上に磁性体層、保護潤滑層を順に形成した後、こ
れを所定の温度で加熱処理するようにした磁気記録媒体
の製造方法を先に提案している(特願平2−30055
号)。
ン基板上に磁性体層、保護潤滑層を順に形成した後、こ
れを所定の温度で加熱処理するようにした磁気記録媒体
の製造方法を先に提案している(特願平2−30055
号)。
しかしなから、上記紹介した、NiPめっき基板を高温
にした状態でこの基板上に磁性体層を形成する方法では
、基板温度を高めることによって保磁力か向上した磁気
記録媒体か得られてはいるか、基板を保持するだめのキ
ャリアか加熱によって変形し易くなる等の成膜装置上の
問題から、研究レベルではなく量産を行う場合には、基
板温度か250℃を超えた状態での磁性体層の形成は容
易でない。また、NiPめっき基板を使用する場合、2
50〜280℃以上になるとNiPめっき層か仕様限界
値を超えて磁化され磁性体層に悪影響を与えるとともに
、300℃以上に加熱されると基板自体の変形か生しる
という問題かある。さらに、基板としてアルミニウム合
金基板を使用する場合には、基板温度を250℃以上に
すると基板の変形か生しるという問題かある。
にした状態でこの基板上に磁性体層を形成する方法では
、基板温度を高めることによって保磁力か向上した磁気
記録媒体か得られてはいるか、基板を保持するだめのキ
ャリアか加熱によって変形し易くなる等の成膜装置上の
問題から、研究レベルではなく量産を行う場合には、基
板温度か250℃を超えた状態での磁性体層の形成は容
易でない。また、NiPめっき基板を使用する場合、2
50〜280℃以上になるとNiPめっき層か仕様限界
値を超えて磁化され磁性体層に悪影響を与えるとともに
、300℃以上に加熱されると基板自体の変形か生しる
という問題かある。さらに、基板としてアルミニウム合
金基板を使用する場合には、基板温度を250℃以上に
すると基板の変形か生しるという問題かある。
一方、基板に逆バイアス電圧を印加した状態で磁性体層
を形成する方法では、逆バイアス電圧を印加する必要か
あるため、成膜装置の構造か複雑になるという不具合か
ある。
を形成する方法では、逆バイアス電圧を印加する必要か
あるため、成膜装置の構造か複雑になるという不具合か
ある。
これに対して、チタン基板上に磁性体層、保護潤滑層を
順に形成した後、これを所定の温度で加熱処理するよう
にした方法では、基板の磁化、変形を生しさせることな
く保磁力を向上させた磁気記録媒体か得られるか、この
場合、例えは代表的材料のCからなるC保護潤滑層(カ
ーホン保護潤滑層)か加熱処理により酸素と反応してガ
ス化され、その厚みか減少したり、あるいは消失したり
するという不具合かある。
順に形成した後、これを所定の温度で加熱処理するよう
にした方法では、基板の磁化、変形を生しさせることな
く保磁力を向上させた磁気記録媒体か得られるか、この
場合、例えは代表的材料のCからなるC保護潤滑層(カ
ーホン保護潤滑層)か加熱処理により酸素と反応してガ
ス化され、その厚みか減少したり、あるいは消失したり
するという不具合かある。
この発明は、このような点に鑑みてなされたものであっ
て、製造過程において保護潤滑層の厚みの減少やその消
失を起こすことなく保磁力を向上させることかできる、
磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とする。
て、製造過程において保護潤滑層の厚みの減少やその消
失を起こすことなく保磁力を向上させることかできる、
磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とする。
ε課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するために、請求項1の発明による磁
気記録媒体の製造方法は、チタン基板上にCo基合金磁
性体層を形成した後、これを250〜885℃の温度て
加熱処理し、次いで加熱処理されたCo基合金磁性体層
上に保護潤滑層を形成することを特徴としている。
気記録媒体の製造方法は、チタン基板上にCo基合金磁
性体層を形成した後、これを250〜885℃の温度て
加熱処理し、次いで加熱処理されたCo基合金磁性体層
上に保護潤滑層を形成することを特徴としている。
また、請求項2の発明による磁気記録媒体の製造方法は
、チタン基板上にCr層、Co基合金磁性体層を順次形
成しt:のち、これを250〜885℃の温度て加熱処
理し、次いで加熱処理されたCo基合金磁性体層上に保
護潤滑層を形成することを特徴としている。
、チタン基板上にCr層、Co基合金磁性体層を順次形
成しt:のち、これを250〜885℃の温度て加熱処
理し、次いで加熱処理されたCo基合金磁性体層上に保
護潤滑層を形成することを特徴としている。
本願発明による方法においては、磁気記録媒体を構成す
る基板とし、てチタン基板を用いている。
る基板とし、てチタン基板を用いている。
これは、チタン基板は、■非磁性てあり、250℃以上
に加熱されても極めて変形しにくく高温での熱処理か可
能なこと、■硬度がアルミニウム合金のヒラカース硬度
H〜・=60程度に比へHv=200程度と高く、Ni
Pめっきを施すことな・(磁性体層を直接形成できるこ
と、■高温でも他元素との反応性か低いこと、■耐食性
に優れていること、などの本願発明による方法に適した
基板としての特性を有しているためである。なお、チタ
ン基板としては、エラーの原因となる晶出物なとの欠陥
の発生か少ない高純度チタンからなるものか望ましい。
に加熱されても極めて変形しにくく高温での熱処理か可
能なこと、■硬度がアルミニウム合金のヒラカース硬度
H〜・=60程度に比へHv=200程度と高く、Ni
Pめっきを施すことな・(磁性体層を直接形成できるこ
と、■高温でも他元素との反応性か低いこと、■耐食性
に優れていること、などの本願発明による方法に適した
基板としての特性を有しているためである。なお、チタ
ン基板としては、エラーの原因となる晶出物なとの欠陥
の発生か少ない高純度チタンからなるものか望ましい。
請求項1の発明による磁気記録媒体の製造方法二おいて
は、このような理由により定めたチタン基板上にCo−
Ni−Cr、 Co−Ni 、 Co−Ni−Pt、
Co−Cr、あるいはCo−Cr−Ta等のCO基合金
からなる磁性体層を形成した後、これを大気雰囲気中で
加熱処理すると、Co基合金磁性体層の粒界が選択的に
酸化され、さらにCrを含むCo基合金磁性体層てはC
rの粒界への偏析か促進される。その結果、Co基合金
磁性体層の結晶粒自体か単磁区粒子として振る舞うこと
により保磁力か向上するものと考えられる。また、真空
中、あるいは不活性ガス雰囲気中で加熱処理すると、C
o基合金磁性体層におけるCrの粒界への偏析か促進さ
れることにより保磁力か向上するものと考えられる。
は、このような理由により定めたチタン基板上にCo−
Ni−Cr、 Co−Ni 、 Co−Ni−Pt、
Co−Cr、あるいはCo−Cr−Ta等のCO基合金
からなる磁性体層を形成した後、これを大気雰囲気中で
加熱処理すると、Co基合金磁性体層の粒界が選択的に
酸化され、さらにCrを含むCo基合金磁性体層てはC
rの粒界への偏析か促進される。その結果、Co基合金
磁性体層の結晶粒自体か単磁区粒子として振る舞うこと
により保磁力か向上するものと考えられる。また、真空
中、あるいは不活性ガス雰囲気中で加熱処理すると、C
o基合金磁性体層におけるCrの粒界への偏析か促進さ
れることにより保磁力か向上するものと考えられる。
そして、上記加熱処理を行った後、保護潤滑層を形成す
るようにしている。このことにより、前記磁性体層上に
例えばC保護潤滑層を形成してから加熱処理をする場合
は、C保護潤滑層か、C+02−1−Co2のように、
酸素と反応してガス化され、その厚みか減少したり、あ
るいは消失したりするか、このようなことをなくすこと
かできる。
るようにしている。このことにより、前記磁性体層上に
例えばC保護潤滑層を形成してから加熱処理をする場合
は、C保護潤滑層か、C+02−1−Co2のように、
酸素と反応してガス化され、その厚みか減少したり、あ
るいは消失したりするか、このようなことをなくすこと
かできる。
また、C保護潤滑層の形成後に大気雰囲気中ではなく真
空中、あるいは不活性ガス雰囲気中で加熱処理する場合
には真空度や不活性ガスの置換状態か悪いことによって
上記のガス化反応によりC保護潤滑層の厚みか減少し易
いか、これをもなくすことかできる。
空中、あるいは不活性ガス雰囲気中で加熱処理する場合
には真空度や不活性ガスの置換状態か悪いことによって
上記のガス化反応によりC保護潤滑層の厚みか減少し易
いか、これをもなくすことかできる。
また、請求項2の発明による磁気記録媒体の製造方法に
おいては、チタン基板上にCr層とC。
おいては、チタン基板上にCr層とC。
基合金磁性体層とを順次形成した後、これを加熱処理す
ると、上述の保磁力向上作用に加え、Cr層の結晶格子
の(110)面か加熱処理により成長し、Co基合金磁
性体層の磁化容易軸CC軸)か面内に配向され易くなり
保磁力かより向上するものと考えられる。そして、上記
請求項1の製造方法と同様に、Co基合金磁性体層上に
保護潤滑層を形成するに先立って加熱処理を行うように
しているので、製造過程において保護潤滑層の厚みの減
少やその消失か発生することかない。
ると、上述の保磁力向上作用に加え、Cr層の結晶格子
の(110)面か加熱処理により成長し、Co基合金磁
性体層の磁化容易軸CC軸)か面内に配向され易くなり
保磁力かより向上するものと考えられる。そして、上記
請求項1の製造方法と同様に、Co基合金磁性体層上に
保護潤滑層を形成するに先立って加熱処理を行うように
しているので、製造過程において保護潤滑層の厚みの減
少やその消失か発生することかない。
また、本願発明においては加熱処理温度は250〜88
5℃の範囲か適当である。250’Cよtつ低い温度で
は上記保磁力向上効果か十分得られない。また、885
℃を超えて加熱処理すると、チタン基板の結晶構造かそ
れまてのH,C,P、 (13密六方格子)構造からB
、C,C,(体・し\六方格子)構造に変化し、チタン
基板表面上に形成されているCo基合金磁性体層、ある
いはCr層の表面に微細な凹凸か生し、これらの特性か
劣化するという悪影響かあるためである。
5℃の範囲か適当である。250’Cよtつ低い温度で
は上記保磁力向上効果か十分得られない。また、885
℃を超えて加熱処理すると、チタン基板の結晶構造かそ
れまてのH,C,P、 (13密六方格子)構造からB
、C,C,(体・し\六方格子)構造に変化し、チタン
基板表面上に形成されているCo基合金磁性体層、ある
いはCr層の表面に微細な凹凸か生し、これらの特性か
劣化するという悪影響かあるためである。
以下、実施例に基ついて本願発明を説明する。
第1実施例
まず、チタン材(神戸製鋼所要、純チタンKS40、J
ISI種)を厚さ]、27mm、直径35インチの磁気
ディスク用基板形状に成形し、これに所定の端面加工、
表面研磨を施し、磁気ディスク用基板とした。
ISI種)を厚さ]、27mm、直径35インチの磁気
ディスク用基板形状に成形し、これに所定の端面加工、
表面研磨を施し、磁気ディスク用基板とした。
そして、上記チタン基板l上に、厚さ3000人のCr
層2と厚さ600人のCoNiCr磁性体層3(組成
C062sNl+ocr7s )とをり、 C,7グ不
トロンスパノタ装置Iこより基板温度250″Cの条件
て順次形成した。次に、得られたものを大気雰囲気中に
て500℃×10分の条件で加熱処理した。
層2と厚さ600人のCoNiCr磁性体層3(組成
C062sNl+ocr7s )とをり、 C,7グ不
トロンスパノタ装置Iこより基板温度250″Cの条件
て順次形成した。次に、得られたものを大気雰囲気中に
て500℃×10分の条件で加熱処理した。
しかる後、CoNiCr磁性体層3上に厚さ300人の
C保護潤滑層4をり、Cマグ7、トロンスパッタ装置二
より基板温度250℃の条件て形成し、断面構成説明図
の第1図talに示すような構成の磁気ディスクを作製
した。また、比較のため、チタン基板1上に上記の各層
2〜4を順次連続して形成したものを、大気雰囲気中に
て上記と同様の条件で加熱処理して比較用の磁気ディス
クを作製した。
C保護潤滑層4をり、Cマグ7、トロンスパッタ装置二
より基板温度250℃の条件て形成し、断面構成説明図
の第1図talに示すような構成の磁気ディスクを作製
した。また、比較のため、チタン基板1上に上記の各層
2〜4を順次連続して形成したものを、大気雰囲気中に
て上記と同様の条件で加熱処理して比較用の磁気ディス
クを作製した。
次に得られた各磁気デイヌクの保磁力Hc、飽和磁束密
度Bsを振動試料型磁力計(VSM)によりそれぞれ測
定するとともに、C保護潤滑層4の厚みを表面粗さ計(
クリステツブ)に誹り測定した。また、温度65℃×湿
度85%の高温多湿雰囲気に作製し1こ各磁気ディスク
を1o日間放置するいわゆる環境試験を行った後、再度
、上記各層を測定した。これらの結果を第1表に示す。
度Bsを振動試料型磁力計(VSM)によりそれぞれ測
定するとともに、C保護潤滑層4の厚みを表面粗さ計(
クリステツブ)に誹り測定した。また、温度65℃×湿
度85%の高温多湿雰囲気に作製し1こ各磁気ディスク
を1o日間放置するいわゆる環境試験を行った後、再度
、上記各層を測定した。これらの結果を第1表に示す。
(以下、余白)
第1表
(以下、余白)
第1表から判るように、本実施例、及び比較例による方
法ともに加熱処理を行うことにより保磁力Hcか増大し
た磁気ディスクか得られた。
法ともに加熱処理を行うことにより保磁力Hcか増大し
た磁気ディスクか得られた。
しかし、比較例による方法においては、チタン基板l上
にCr層2、CoNiCr磁性体@3、及びC保護潤滑
層4を順次形成したものを、大気雰囲気中にて加熱処理
する工程としたので、この例の熱処理条件ではC保護潤
滑層4か高温酸化によってガス化され消失した。そのた
め、上記環境試験中i:coNicr磁性体層3か劣化
し、飽和磁束密度Bsの値か低下している。
にCr層2、CoNiCr磁性体@3、及びC保護潤滑
層4を順次形成したものを、大気雰囲気中にて加熱処理
する工程としたので、この例の熱処理条件ではC保護潤
滑層4か高温酸化によってガス化され消失した。そのた
め、上記環境試験中i:coNicr磁性体層3か劣化
し、飽和磁束密度Bsの値か低下している。
これに対してこの発明による方法ては、CoNiCr磁
性体層3上にC保護潤滑層4を形成するに先立ち加熱処
理を行うようにしたので、高い保磁力HCを有し、環境
試験後においてもC保護潤滑層4の不良による飽和磁束
密度Bsか低下することのない磁気ディスクか得られた
。
性体層3上にC保護潤滑層4を形成するに先立ち加熱処
理を行うようにしたので、高い保磁力HCを有し、環境
試験後においてもC保護潤滑層4の不良による飽和磁束
密度Bsか低下することのない磁気ディスクか得られた
。
第2実施例
第1実施例と同様にしてチタン基板1を用意し、このチ
タン基板1上に厚さ600人のCoNiCr磁性体層3
(組成 C0I25Nisocrt i )をり、 C
,7グネトロンスパツタ装置により基板温度250℃の
条件て形成し、しかるのち、これを大気雰囲気中にて温
度500℃て時間10分、600℃て1分及び3分の条
件で加熱処理した。次いで加熱処理されたCoNiCr
磁性体層3上に厚さ300人のC保護潤滑層4をり、C
マグネトロンスパッタ装置により基板温度250℃の条
件て形成し、断面構成説明図の第1図(blに示すよう
な構成の磁気ディスクを作製した。
タン基板1上に厚さ600人のCoNiCr磁性体層3
(組成 C0I25Nisocrt i )をり、 C
,7グネトロンスパツタ装置により基板温度250℃の
条件て形成し、しかるのち、これを大気雰囲気中にて温
度500℃て時間10分、600℃て1分及び3分の条
件で加熱処理した。次いで加熱処理されたCoNiCr
磁性体層3上に厚さ300人のC保護潤滑層4をり、C
マグネトロンスパッタ装置により基板温度250℃の条
件て形成し、断面構成説明図の第1図(blに示すよう
な構成の磁気ディスクを作製した。
また、チタン基板1上にCr層2とCoNiCr磁性体
層3(組成 C0625N1aocr7i )とをスパ
ッタ装置により基板温度250℃の条件て順次形成した
後、これを大気雰囲気中にて上記と同し条件で加熱処理
した。次いでこの加熱処理されたCoNiCr磁性体層
3上にC保護潤滑層4を形成し磁気ディスクを作製した
。なお、各層2〜4の厚みは第1実施例と同しである。
層3(組成 C0625N1aocr7i )とをスパ
ッタ装置により基板温度250℃の条件て順次形成した
後、これを大気雰囲気中にて上記と同し条件で加熱処理
した。次いでこの加熱処理されたCoNiCr磁性体層
3上にC保護潤滑層4を形成し磁気ディスクを作製した
。なお、各層2〜4の厚みは第1実施例と同しである。
そして、このようにして得られた各磁気ディスクの保磁
力HcをVSMにより測定した。これらの結果を第2図
に示す。なお、第2図において加熱処理なしの場合の保
磁力HcO値は、Cr層2を設けないもののそれを矢示
ASIで、Cr層2を有するもののそれを矢示AS2で
示している。
力HcをVSMにより測定した。これらの結果を第2図
に示す。なお、第2図において加熱処理なしの場合の保
磁力HcO値は、Cr層2を設けないもののそれを矢示
ASIで、Cr層2を有するもののそれを矢示AS2で
示している。
第2図から、この発明による方法で作製した磁気ディス
クは、Cr層2を有するものおよびCr層2のないもの
ともに加熱処理を行うことにより保磁力か従来のそれに
比へ向上している二とか判る。
クは、Cr層2を有するものおよびCr層2のないもの
ともに加熱処理を行うことにより保磁力か従来のそれに
比へ向上している二とか判る。
なお、上記の第1及び第2実施例のように、大気雰囲気
中にて加熱処理を行う場合には、Co基合金磁性体層の
酸化の進行によって飽和磁束密度Bsか低下する傾向か
あるので、同一保磁力Hcを得ようとするときは、高温
、短時間での加熱処理か望ましい。また、C保護潤滑層
の形成後に大気雰囲気中ではなく真空中、あるいは不活
性ガス雰囲気中で加熱処理する場合には真空度や不活性
ガスの置換状態か悪いことによって前述のガス化反応に
よりC保護潤滑層の厚みか減少し易いか、これをもなく
すことかできた。
中にて加熱処理を行う場合には、Co基合金磁性体層の
酸化の進行によって飽和磁束密度Bsか低下する傾向か
あるので、同一保磁力Hcを得ようとするときは、高温
、短時間での加熱処理か望ましい。また、C保護潤滑層
の形成後に大気雰囲気中ではなく真空中、あるいは不活
性ガス雰囲気中で加熱処理する場合には真空度や不活性
ガスの置換状態か悪いことによって前述のガス化反応に
よりC保護潤滑層の厚みか減少し易いか、これをもなく
すことかできた。
以上説明したように、請求項1の発明による磁気記録媒
体の製造方法ては、基板としてチタン基板を使用し、こ
のチタン基板上にCo基合金磁性体層を形成した後、こ
れを所定の温度て加熱処理するようにしたので、この加
熱処理によってC。
体の製造方法ては、基板としてチタン基板を使用し、こ
のチタン基板上にCo基合金磁性体層を形成した後、こ
れを所定の温度て加熱処理するようにしたので、この加
熱処理によってC。
基合金磁性体層の結晶粒自体か単磁区粒子として振舞う
ようになり、基板の磁化、変形を生じることなく保磁力
を向上させた磁気記録媒体か得られる。
ようになり、基板の磁化、変形を生じることなく保磁力
を向上させた磁気記録媒体か得られる。
請求項2の発明による磁気記録媒体の製造方法では、上
記の保磁力向上作用に加え、チタン基板とCo基合金磁
性体層の間に形成したCr層の結晶格子の(110)面
か加熱処理されることによって成長してCo基合金磁性
体層の磁化容易軸か面内に配向され易くなり、これによ
り、保磁力をより向上させた磁気記録媒体か得られる。
記の保磁力向上作用に加え、チタン基板とCo基合金磁
性体層の間に形成したCr層の結晶格子の(110)面
か加熱処理されることによって成長してCo基合金磁性
体層の磁化容易軸か面内に配向され易くなり、これによ
り、保磁力をより向上させた磁気記録媒体か得られる。
さらに、上記請求項I、2の製造方法では、加熱処理し
た後に保護潤滑層を形成する工程としたので、保護潤滑
層の形成後に加熱処理を行う場合において発生する保護
潤滑層の厚みの減少、あるいはその消失をなくすことか
できる。
た後に保護潤滑層を形成する工程としたので、保護潤滑
層の形成後に加熱処理を行う場合において発生する保護
潤滑層の厚みの減少、あるいはその消失をなくすことか
できる。
したかって、この発明によれは、従来より高い保磁力を
有する高記録密度化に適した磁気記録媒体を提供でき、
これにより、磁気ディスク装置の大型化を招くことなく
その大容量化に寄与することかできるとともに、広く使
用されているスパッタ装置なとの成膜装置かそのまま使
用できるという経済的効果をも得られる。
有する高記録密度化に適した磁気記録媒体を提供でき、
これにより、磁気ディスク装置の大型化を招くことなく
その大容量化に寄与することかできるとともに、広く使
用されているスパッタ装置なとの成膜装置かそのまま使
用できるという経済的効果をも得られる。
第1図fa)及び第1図(b)は本願発明に係る磁気デ
ィスクの断面構成説明図、第2図は本願発明による方法
により得られた磁気ディスクの保磁力の一例を示す図で
ある。 1 チタン基板、2 Cr層、3−CoNiCr磁性
体層、4 C保護潤滑層。 特許出願人 株式会社神戸製鋼所
ィスクの断面構成説明図、第2図は本願発明による方法
により得られた磁気ディスクの保磁力の一例を示す図で
ある。 1 チタン基板、2 Cr層、3−CoNiCr磁性
体層、4 C保護潤滑層。 特許出願人 株式会社神戸製鋼所
Claims (2)
- (1)チタン基板上にCo基合金磁性体層を形成した後
、これを250〜885℃の温度で加熱処理し、次いで
加熱処理されたCo基合金磁性体層上に保護潤滑層を形
成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (2)チタン基板上にCr層、Co基合金磁性体層を順
次形成した後、これを250〜885℃の温度で加熱処
理し、次いで加熱処理されたCo基合金磁性体層上に保
護潤滑層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12825590A JPH0423223A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12825590A JPH0423223A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0423223A true JPH0423223A (ja) | 1992-01-27 |
Family
ID=14980332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12825590A Pending JPH0423223A (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0423223A (ja) |
-
1990
- 1990-05-17 JP JP12825590A patent/JPH0423223A/ja active Pending
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