JPH01307921A - 磁気ディスク製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、磁気ディスク装置に使用される磁気ディス
クの製造方法に関するものである。

［従来の技術］ 近年、コンピュータシステムにおける磁気ディスク装置
などの外部記憶装置の重要性が増大し、高記録密度に対
する要求はますます高まっている、磁気ディスク装置は
記録再生ヘッドおよび磁気ディスクの主構成部から構成
され、磁気ディスクは高速で回転し、記録再生ヘッド即
ち磁気ヘッドは磁気ディスクより微少間隔浮上している
。磁気記録装置の高性能化にともない、この浮上間隔を
小さくするために記録再生ヘッドの荷重を小さくすると
ともに、接触始動・停止（コンタクト・スタート・スト
ップ、Ｃ５５）型ヘッド浮上システムが採用されている
。磁気ディスク装置の高記録密度化・高性能化を図るた
めには、磁気記録媒体膜の薄膜化、均−一様化、磁気特
性の改良（保持力、角型比の向上）のみならず、低浮上
量における安定したヘッド浮上状態を確保し、ヘッドす
なわち磁気へラドスライダと磁気ディスクの衝突（ヘッ
ド、クラッシュ）を防上するための磁気ディスク表面精
度の向上や耐ヘツドクラツシユ性などの向上が重要で必
要なことである。特に、磁気ディスク表面精度の、向上
は著しく、従来の磁気ディスクのＲｍａには２０００Å
以上あったのが、現在ではＲｍａｘが１００人前後と１
桁以上良くなっている。

［発明が解決しようとする課Ｍ］ このように磁気ディスクの表面精度が年々向上すると、
磁気へラドスライダが磁気ディスクの表面に吸着し、磁
気ディスクが回転を始めても磁気へラドスライダが浮−
ヒできず、磁気へラドスライダ笠が破損するなどの間圧
点があった。これは例えば文献（Ｅ、Ｍ、Ｒｏｓｓ　ｉ
他、ジャーナル・オブ・アプライド・フィジックス、５
５巻、６号、２２５４頁）等に示されている。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、磁気ヘッドスライダの磁気ディスクに対する
吸着を防止し、信頼性の高い磁気ディスクを得ることを
目的とする。

なお、この技術分野に属する他の先行技術として特開昭
６０−３８７２０．６０−４０５２８．６１−２３０６
１８．６１−２３０６１９号広報等がある。

［：ａ題を解決するための手段］ この発明に係る磁気ディスクの製造方法は、合金基材上
にこれより硬い金属または合金の硬質膜を形成する工程
、上記硬質膜の表面にエツチングにより凹凸を設ける工
程、および上記凹凸を有する硬質膜上に磁気記録媒体膜
を形成する工程を順に施すものである。

［作用］ この発明における高硬度膜の表面に設けられた凹凸は、
＆ａ気へラドスライダが磁気ディスクに接触するときの
真実接触面積を減少させるので、摩擦力が小さくなり吸
着力が減少する。また、上記凹凸はエツチングにより設
けられるので、工作が容易で取れる（剥れる）心配もな
い。

［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はこの発明の一実施例による製造方法により得られた
磁気ディスクを示す断面図であり、図において、（１）
はＡｌ−Ｍｇ合金基材、（２）は合金基材（１）より硬
い金属または合金の硬質膜、例えばＮ１−Ｐメツキ膜、
（３）はエツチングにより形成された凹み、（４）は磁
気記録媒体膜である。

次に製造方法について説明する。Ａｌ−Ｍｇ合金基材（
１）の表面にＮ１−Ｐメツキ膜（２）を成膜し鏡面加工
しである基板は、通常サブストレイトと呼ばれ市販され
ている。市販サブストレイトを用いて以下のように作成
した。

実施例 エツチング液は５％Ｈ＊Ｏｇ＋２０％硝酸水溶液（１：
　ｌ）を使用した。上記サブストレイトをエツチング液
に入れてエツチングした。エツチング液の温度は２８℃
、エツチング時間は２０秒であった。この基板上にＣｏ
−Ｃｒ＆ｉ！気記録媒体をスパッタにより成膜して磁気
ディスクを得た。

比較例 市販サブストレイト上に、Ｃｏ−Ｃｒ磁気記録媒体をス
パッタにより成膜して磁気ディスクを得た。

これらの基板の表面粗さをタリステップで測定した。第
２図に上記実施例でエツチングしたサブストレイトの表
面粗さの特性図、第３図に上記実施例で得られた磁気デ
ィスクの表面粗さの特性図、第４図に市販サブストレイ
トの表面粗さの特性図を示す、第２図、第３図と第４図
との比較から、実施例の磁気ディスクの表面には微小な
凹凸が認められ、上記エツチングによりサブストレイト
表面に微小な凹凸が生成したことが分かる。また、磁気
記録媒体成膜後においても凹凸が保持されていることが
分かる。

また、実施例および比較例による基板および磁気ディス
クの表面に、３３８０型薄膜ヘツドを接触させて静摩擦
係数を測定した。実施例による基板では０．１９、ディ
スクでは０．１９、比較例すなわち市販サブストレイト
では０．３８、比較例によるディスクでは０．３８であ
り、この発明に係る基板およびディスクでは静摩擦係数
は小さくなった。

また、磁気ディスク表面に磁気へラドスライダを接触さ
せて温度６０℃、湿度８５％の状態で２４時間放置し、
静摩擦係数を測定した。実施例による磁気ディスクでは
０．２２と小さく、比較例による磁気ディスクでは０．
９を越えており吸着現象が認められた。

なお、−Ｅ記実施例ではエツチング液として５％ＨＲＯ
ｘ＋２０％硝酸水溶液（１：　１）を使用した場合につ
いて説明したが、これに限るものではなく、他のエツチ
ング液であってもよく上記実施例と同様の効果を奏する
。

また、上記実施例では硬質膜（２）がＮ１−Ｐの場合に
ついて説明したが、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｎｉ　−Ｃｕ　−Ｐ　
？？であってもよく、さらにメツキ以外の例えばスパッ
タ淳により設けられたものであっても上記実施例と同様
の効果を奏する。

また、磁気記録媒体膜（４）の上に保護膜を設けること
もある。

なお、参考として、上記実施例では化学エツチングによ
り硬質１１ｉ　（２）に凹凸を設ける場合について説明
したが、例えばスパッタエツチングのような物理エツチ
ングによりおこなうこともできる。

この場合も、化学エツチングによる場合と同様の効果が
得られることが確かめられた０例えば、市販サブストレ
イトをスパッタエツチング装置に入れ、エツチングガス
はＡｒ、ガス圧は５×１０″″３Ｔｏ　ｒ　ｒ、エツチ
ング時間は１５０秒でエツチングした。この基板上にＣ
ｏ−Ｃｒ媒体をスパッタにより成膜して磁気ディスクを
得た。この参考例による基板および磁気ディスクの表面
粗さを測定してそれぞれ第５図、第６図に示す、これら
の図よりエツチングによりサブストレイト表面に微小な
凹凸が生成し磁気記録媒体膜成膜後においても凹凸が保
持されていることが分かる。また、静摩擦係数の測定結
果は、基板、磁気ディスク共に０．２２と比較例にくら
べて小さかった。さらに、上記実施例および比較例と同
一条件で２４時間放置後の磁気ディスクの静摩擦係数も
０．２４と小さく吸着現象は認められなかった。

［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば、合金基材上にこれよ
り硬い金属または合金の硬質膜を形成する工程、上記硬
質膜の表面にエツチングにより凹凸を設ける工程、およ
び上記凹凸を有する硬質膜上に磁気記録媒体膜を形成す
る工程を順に施すので％磁気ディスクと磁気へラドスラ
イダ間の吸着力が小さく信頼性の高い磁気ディスクが容
易に得られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による製造方法で製造され
た磁気ディスクを示す断面図、第２図はこの発明の一実
施例に係るエツチング後のサブストレイトの表面粗さを
示す特性図、第３図はこの発明の一実施例で得られた磁
気ディスクの表面粗さを示す特性図、第４図は市販サブ
ストレイトの表面粗さを示す特性図、第５図はスパッタ
エツチングにより凹凸を設けたサブストレイトの表面粗
さを示す特性図、第６図は第５図のものに磁気記録媒体
膜を設けた磁気ディスクの表面粗さを示す特性図である
。 図において、（」）は合金基材、（２）は硬質膜、（３
）は凹み、（４）は磁気記録媒体膜である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）合金基材上にこれより硬い金属または合金の硬質
   膜を形成する工程、上記硬質膜の表面にエッチングによ
   り凹凸を設ける工程、および上記凹凸を有する硬質膜上
   に磁気記録媒体膜を形成する工程を順に施す磁気ディス
   クの製造方法。