JPH0827940B2 - 磁気記憶体およびその製造方法 - Google Patents

磁気記憶体およびその製造方法

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JPH0827940B2 JP62099899A JP9989987A JPH0827940B2 JP H0827940 B2 JPH0827940 B2 JP H0827940B2 JP 62099899 A JP62099899 A JP 62099899A JP 9989987 A JP9989987 A JP 9989987A JP H0827940 B2 JPH0827940 B2 JP H0827940B2
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    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
    • G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、磁気記録装置に用いられている磁気ディス
ク、磁気ドラム、磁気テープ等の磁気記憶体およびその
製造方法に関する。
［従来の技術］ 近年、高密度磁気記憶体の記憶媒体として磁性金属薄
膜を使用したハードディスク、フロッピーディスクが急
速に普及し、それに伴って磁気記録装置に対する高記録
密度化の要求は年々増大してきている。高記録密度を達
成する手段の一つに磁気ヘッドと磁性媒体間の分離長の
低減があり、磁気ヘッドの低浮上量化や保護膜の薄膜化
が実用化に向けての重要な課題となっている。
磁性媒体上に設けられる保護膜には主に次のような性
能が求められている。一つは、記録装置の起動、停止時
に生じる磁気ヘッドとの摩擦接触に耐えるための耐摩耗
性であり、他の一つは磁性薄膜を腐食から守るための防
食性を有することである。このような特性を有する保護
膜として従来はSiO2等の酸化膜（特公昭58−185029号公
報）やカーボン等の固体潤滑膜（特公昭60−23406号公
報）が実用化されている。
［発明が解決しようとする課題］ 近年の高記録密度磁気記憶体に対する社会的要請は前
述したように保護膜の著しい薄膜化を要求しており、50
KBPI以上の記録密度を得るためには保護膜の膜厚を少な
くとも50nm以下にする必要があるとされている。そのよ
うな低膜厚の保護膜によって機械的耐久性や耐候性を保
証することは技術的にみて著しい困難を伴うものであ
り、特に耐食性に問題のある金属薄膜を磁性媒体に使用
した磁気記憶体においては腐食に起因するビットエラー
の発生を完全に抑えることは現在の保護膜材料では至難
の技ともいえる。
本発明は以上述べたような従来の問題点を解決するた
めになされたもので、磁性媒体の防食性に優れ、かつ機
械的耐久性にも優れた保護膜を有する磁気記憶体および
その製造方法を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段］ 本発明において上記の問題点を解決するための手段
は、下地体上に形成された磁性媒体上に、少なくとも１
種の非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物よりなる層
が形成されてなることを特徴とする磁気記憶体であり、
その製造方法は、下地体上に形成された磁性媒体上に、
少なくとも１種の非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合
物よりなる層を共スパッタ法により形成したことを特徴
とする。
本発明は作用の項に後述するような極めて安定した化
学的性質と良好な層間性を有する弗化黒鉛を保護膜材料
の主成分とすることにより磁気記憶体に優れた耐候性と
摩擦特性を付与することを特徴とするものである。
また、弗化黒鉛が層間材料であるがゆえに必然的に比
較的低い機械的強度と耐摩耗性を示すことを考慮して、
非金属硬質化合物、たとえば無機酸化物、無機窒化物も
しくは無機炭化物を混合することにより、優れた機械的
耐久性をも有する磁気記憶体を提供することを意図して
いる。
本発明の磁気記録体を製造するにあたっては、弗化黒
鉛を含む層の形成を弗素ガスを含有する雰囲気中で行う
のが好ましい。
［作用］ 弗化黒鉛、すなわち弗化炭素高分子体の主な性質を列
挙すると、（１）現在製造可能なあらゆる物質の中で最
も低い表面エネルギーを有すること、および（２）耐酸
性、耐アルカリ性等の面でポリテトラフロロエチレン
（PTFE、商品名テフロン）に匹敵する化学的安定性を有
すると同時に、PTFEを凌ぐ撥水性を有し、高湿度条件下
での磁性媒体の腐食を防止する保護作用が極めて高いこ
とが予想される。
弗化黒鉛にはこのような優れた効果が期待できる反
面、層間材料であり、ｃ軸方向の結合力がファンデルワ
ールス的であるために、高い機械的強度が得がたく、そ
の結果耐摩耗性、耐ヘッドクラッシュ性などの機械的耐
久性に問題がある。そこで、弗化黒鉛中に硬質化合物を
分散させることによって、保護膜全体の機械的強度の向
上を達成し、それによって磁気ディスクの機械的耐久性
を向上せしめるものである。
［実施例］ 次に本発明を実施例によって説明する。
第１図は本発明の一実施例である磁気ディスクの部分
断面図である。図中、１は下地体、２は磁性媒体層、３
は非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物からなる混合
物層である。
下地体１はディスク状のアルミニウム合金基板上にNi
−Ｐ非磁性合金を無電解めっき法により厚さ80μｍ被覆
し、このNi−Ｐ膜に研磨とポリシング加工を施すことに
より表面粗さを約20nmとしたものである。その上に磁性
媒体層２として無電解Co−Ni−Ｐめっき合金を厚さ60nm
被覆した。以後に示す実施例では、すべてこの磁性媒体
層２および下地体１としてのアルミニウム合金基板を使
用した。
実施例１〜６ 上記した基体上に、弗化黒鉛とSiO2のそれぞれ２枚の
ターゲットを用いた共スパッタ法により弗化黒鉛とSiO2
の混合物層を厚さ40nm被覆した。スパッタガスはアルゴ
ン、メタンおよび弗素の混合気体とした。同様にして表
−１に示す弗化黒鉛と硬質物、および膜厚の混合物層を
形成し、実施例２〜６の磁気ディスクを製造した。硬質
物との体積混合比はおおよそ1:3で硬質物を多くした。
さらに、SiO2をスパッタ法（比較試料１）とスピンコ
ート法（比較試料２）により前述した下地体上に膜厚50
nmで成膜した磁気ディスクを作製し、比較試料とした。
また、比較試料３として磁性媒体上に弗化黒鉛をスパッ
タ法により厚さ50nm被覆した磁気ディスクを作製した。
前記磁気ディスクを温度80℃、相対湿度85％の環境試
験器内に250時間放置し、耐食性試験前後のビットエラ
ー数を測定することにより本発明による弗化黒鉛系の保
護膜の防食性を調べた。表−２に一括してその結果を示
す。
次に、各磁気ディスクについてCSS（コンタクト・ス
タート・ストップ）試験を行い、保護膜の機械的耐久性
を比較した。CSS試験は、アルミナとチタンカーバイト
の硬質セラミック製スライダーからなる磁気ヘッドを使
用し、磁気ヘッドの押付け荷重18g、ヘッド浮上量0.12
μｍの条件下で行った。比較試料１および２は５千回の
CSS試験で摩耗粉の発生が認められ、比較試料３は２千
回で弗化黒鉛層の保護膜に著しい損傷が認められた。
一方、本発明に基づいた磁気ディスクは潤滑剤を塗布
することなく、すべて３万回以上のCSS試験に耐えるこ
とから、弗化黒鉛と硬質物の混合が耐久性の向上に極め
て有効であることが分かった。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明は従来の磁気ディスクの
保護膜に比較して磁性媒体の防食性が高く、しかも弗化
黒鉛の固体潤滑性と硬質成分の耐摩耗効果によりその機
械的耐久性も著しく向上している。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す磁気ディスクの模式的
部分断面図である。 １……下地体、２……磁性媒体層 ３……混合物層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】下地体上に形成された磁性媒体上に、少な
    くとも１種の非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物よ
    りなる層が形成されてなることを特徴とする磁気記憶
    体。
  2. 【請求項２】下地体上に形成された磁性媒体上に、少な
    くとも１種の非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物よ
    りなる層を共スパッタ法により形成したことを特徴とす
    る磁気記憶体の製造方法。
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