JPS63285723A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
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- JPS63285723A JPS63285723A JP12170987A JP12170987A JPS63285723A JP S63285723 A JPS63285723 A JP S63285723A JP 12170987 A JP12170987 A JP 12170987A JP 12170987 A JP12170987 A JP 12170987A JP S63285723 A JPS63285723 A JP S63285723A
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 40
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 20
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 7
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 2
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000013441 quality evaluation Methods 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- IDLFZVILOHSSID-OVLDLUHVSA-N corticotropin Chemical compound C([C@@H](C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](CCSC)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1NC=NC=1)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC(O)=CC=1)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CC(N)=O)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(O)=O)NC(=O)[C@@H](N)CO)C1=CC=C(O)C=C1 IDLFZVILOHSSID-OVLDLUHVSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気的記憶装置である磁気ディスク装置に用い
られる磁気的記憶素子である磁気ディスクに関し、詳し
くは該磁気ディスクの保護潤滑膜に関する。
られる磁気的記憶素子である磁気ディスクに関し、詳し
くは該磁気ディスクの保護潤滑膜に関する。
主として固定式磁気ディスク装置に用いられる磁気ディ
スクは高記録密度化に伴い、従来の酸化物磁性体のコー
ティングタイプのものから金属磁性薄膜を媒体としたも
のの使用に移行しつつあるが、該金属磁性薄膜は腐食し
易いという欠点を持つため、腐食環境から保護するため
の保Ｆ！膜を必要とし、一方、磁気ヘッドとの繰り返し
の接触を伴う回転動作により磁気的記録がなされるため
、その接触動作であるＣ３Ｓ （コンタクト・スタート
・ストップ）の繰り返しに耐えることが要求されるため
、保護膜は潤滑性と耐摩耗性も兼ね備えていることが必
要である。
スクは高記録密度化に伴い、従来の酸化物磁性体のコー
ティングタイプのものから金属磁性薄膜を媒体としたも
のの使用に移行しつつあるが、該金属磁性薄膜は腐食し
易いという欠点を持つため、腐食環境から保護するため
の保Ｆ！膜を必要とし、一方、磁気ヘッドとの繰り返し
の接触を伴う回転動作により磁気的記録がなされるため
、その接触動作であるＣ３Ｓ （コンタクト・スタート
・ストップ）の繰り返しに耐えることが要求されるため
、保護膜は潤滑性と耐摩耗性も兼ね備えていることが必
要である。
従来保護潤滑膜として、スパッタリングによるカーボン
膜が公知の技術として用いられてるが、カーボンは結露
し易いという性質をもつために腐食環境中における放置
で下層の金属磁性薄膜媒体も腐食し易いということが知
られている。
膜が公知の技術として用いられてるが、カーボンは結露
し易いという性質をもつために腐食環境中における放置
で下層の金属磁性薄膜媒体も腐食し易いということが知
られている。
また、カーボンは、磁気ヘッドスライダ−材質が硬いコ
ンポジフトタイプヘッドや薄膜ヘッドに対しては非常に
摩耗し易いという欠点をもっている。
ンポジフトタイプヘッドや薄膜ヘッドに対しては非常に
摩耗し易いという欠点をもっている。
一方、混式法やスパッタリング法で作成した酸化ケイ素
膜も提案されており、これは耐摩耗性に優れるものの少
なくとも７００人程度以下では本来にピンホールが多い
ため防食効果が低い。したがって、ピンホール低減のた
めより膜厚を増やせばよいわけであるが、一方で媒体と
磁気ヘッド間の間隔が大きくなるため、結果的に媒体の
電磁変換特性の低下を招くという欠点を仔していた。
膜も提案されており、これは耐摩耗性に優れるものの少
なくとも７００人程度以下では本来にピンホールが多い
ため防食効果が低い。したがって、ピンホール低減のた
めより膜厚を増やせばよいわけであるが、一方で媒体と
磁気ヘッド間の間隔が大きくなるため、結果的に媒体の
電磁変換特性の低下を招くという欠点を仔していた。
上述のように従来の技術では金屑磁性薄膜媒体を存する
磁気ディスクについて、少なくとも電磁変換特性を大幅
に低下させずに耐食性、潤滑・耐摩耗性を確保すること
が困難であるという問題点を存していた。
磁気ディスクについて、少なくとも電磁変換特性を大幅
に低下させずに耐食性、潤滑・耐摩耗性を確保すること
が困難であるという問題点を存していた。
そこで本発明はこのような問題点を解決するためのもの
で、その目的とするところは、金属磁性薄膜上にスパッ
タリングによる多孔性の酸化ケイ素膜とフッ素系液体潤
滑剤を組み合わせた保護潤滑膜を形成することにより、
耐食性、潤滑耐摩耗性に優れた、金属磁性薄膜媒体を存
する磁気ディスクを提供することにある。
で、その目的とするところは、金属磁性薄膜上にスパッ
タリングによる多孔性の酸化ケイ素膜とフッ素系液体潤
滑剤を組み合わせた保護潤滑膜を形成することにより、
耐食性、潤滑耐摩耗性に優れた、金属磁性薄膜媒体を存
する磁気ディスクを提供することにある。
本発明の磁気ディスクは、金属磁性薄膜上に２００〜７
００人の膜厚の多孔性の酸化ケイ素膜を形成した後、該
保護膜上にフッ素系の液体潤滑剤を塗布することを特徴
とする。これにより、耐食性、潤滑耐摩耗性を向上され
た磁気ディスクを得ることができる。
００人の膜厚の多孔性の酸化ケイ素膜を形成した後、該
保護膜上にフッ素系の液体潤滑剤を塗布することを特徴
とする。これにより、耐食性、潤滑耐摩耗性を向上され
た磁気ディスクを得ることができる。
特性向上の原理としては、フッ素系液体潤滑剤は本来そ
の極めて強い接水性により、表面に水蒸気などの水分子
を近づけ難い性質をもち、これを金属磁性媒体上に塗布
すると、加湿環境下においても結露が極めて起こりにく
くなるため、下層の金属層の腐食が極めて起こりにくい
ことが認められた。一方便れた潤滑性も認められ、した
からで耐摩耗性のよい酸化ケイ素膜上に塗布すれば、磁
気ヘッドとのＣ８Ｓに十分効果が菖ると考えられるが、
実際には磁気ヘッドとのＣ８Ｓにより削取られ易く、ま
た、液体であるためにディスクの回転により徐々に外周
側にスピンオフするという欠点がある。したがって、こ
の点を解決するために酸化ケイ素膜を多孔性の状聾で被
復すれば、フッ素系液体潤滑剤はそのピンホール中に保
持されるのでスピンオフし難く、また、ピンホール部以
外の酸化ケイ素膜表面のフッ素系液体潤剤の一部が磁気
ヘッドに削り取られてもピンホール中に保持された潤滑
剤がそれをおぎなうため酸化ケイ素膜表面の潤滑性も維
持される。一方、酸化ケイ素の膜厚も薄くてよいので、
電磁変換特性の低下もない。以上の原理を用いることに
より、高耐食、高潤滑耐摩耗性を持つ磁気ディスクの作
成が可能になった。作成上の必要条件を以下に述べる。
の極めて強い接水性により、表面に水蒸気などの水分子
を近づけ難い性質をもち、これを金属磁性媒体上に塗布
すると、加湿環境下においても結露が極めて起こりにく
くなるため、下層の金属層の腐食が極めて起こりにくい
ことが認められた。一方便れた潤滑性も認められ、した
からで耐摩耗性のよい酸化ケイ素膜上に塗布すれば、磁
気ヘッドとのＣ８Ｓに十分効果が菖ると考えられるが、
実際には磁気ヘッドとのＣ８Ｓにより削取られ易く、ま
た、液体であるためにディスクの回転により徐々に外周
側にスピンオフするという欠点がある。したがって、こ
の点を解決するために酸化ケイ素膜を多孔性の状聾で被
復すれば、フッ素系液体潤滑剤はそのピンホール中に保
持されるのでスピンオフし難く、また、ピンホール部以
外の酸化ケイ素膜表面のフッ素系液体潤剤の一部が磁気
ヘッドに削り取られてもピンホール中に保持された潤滑
剤がそれをおぎなうため酸化ケイ素膜表面の潤滑性も維
持される。一方、酸化ケイ素の膜厚も薄くてよいので、
電磁変換特性の低下もない。以上の原理を用いることに
より、高耐食、高潤滑耐摩耗性を持つ磁気ディスクの作
成が可能になった。作成上の必要条件を以下に述べる。
酸化ケイ素膜は２００〜７００人の膜厚で形成する。元
来７００λ程度以下のピンホールが多いのが好ましく１
μｍ以下の径のピンホールが多数存在するが、より多孔
性にし、かつ膜質そのものかもろ（ならないようにスパ
ッタ圧は１．５Ｘ１０− ” 〜２．５Ｘ１０− ”
Ｔｏ ｒ ｒ程度がよい。
来７００λ程度以下のピンホールが多いのが好ましく１
μｍ以下の径のピンホールが多数存在するが、より多孔
性にし、かつ膜質そのものかもろ（ならないようにスパ
ッタ圧は１．５Ｘ１０− ” 〜２．５Ｘ１０− ”
Ｔｏ ｒ ｒ程度がよい。
また、２００Å以下では膜厚が小さすぎて、潤滑剤の保
持ができない。
持ができない。
フッ素系液体潤滑剤はいわゆるパーフロロポリエーテル
ならなんでもよいが、特に分子末端に官能基を持つもの
が酸化ケイ素膜表面との吸着性もあるのでより適する。
ならなんでもよいが、特に分子末端に官能基を持つもの
が酸化ケイ素膜表面との吸着性もあるのでより適する。
膜厚は、ピンホール部以外の酸化ケイ素膜表面の場合で
１０〜１００人程度にするのがよい。
１０〜１００人程度にするのがよい。
塗布方法はディッピング法、スピンコード法、スプレー
法など何でもよい。
法など何でもよい。
〔実施例１〕
３、］’径のアルミニウムディスク基板上に無電解Ｎｊ
−Ｐ非磁性メッキを約２０μｍの膜厚で形成し、メカノ
ケミカルポリッシングにより約１５μｍになるまで研磨
した。
−Ｐ非磁性メッキを約２０μｍの膜厚で形成し、メカノ
ケミカルポリッシングにより約１５μｍになるまで研磨
した。
続いて研磨したＮｆ−Ｐ上に金属磁性薄膜媒体として無
電解メッキによりＣｏ−Ｎ１−Ｐ膜を７００人の゛膜厚
で形成した。
電解メッキによりＣｏ−Ｎ１−Ｐ膜を７００人の゛膜厚
で形成した。
さらに、スパッタリングにより酸化ケイ素膜を２００人
形成した。このときスパッタ圧は２Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ
であった＠ 最後にディッピング法によりフッ素液体潤滑剤を塗布し
た。フッ素系液体潤滑剤は日本モノテジリン社製パーフ
ロロポリエーテル、７オンプリンＺＤＩＡＣを用いた。
形成した。このときスパッタ圧は２Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ
であった＠ 最後にディッピング法によりフッ素液体潤滑剤を塗布し
た。フッ素系液体潤滑剤は日本モノテジリン社製パーフ
ロロポリエーテル、７オンプリンＺＤＩＡＣを用いた。
膜厚はピンホール部以外の酸化ケイ素膜表面での平均膜
厚として１０人塗布した。
厚として１０人塗布した。
〔実施例２〕
実施例１と同じ条件で酸化ケイ素膜を５００人に変えた
ものを作成した。
ものを作成した。
〔実施例３〕
実施例１と同じ条件で酸化ケイ素膜を７００人に変えた
ものを作成した。
ものを作成した。
〔実施例４〕
実施例１と同様にして酸化ケイ素膜は５００人形成し、
フッ素系液体潤滑剤は日本モンテジリン社製パーフロロ
ポリエーテル、フォンブリンＺＤＯＬを用い、その膜厚
は１００人とした。
フッ素系液体潤滑剤は日本モンテジリン社製パーフロロ
ポリエーテル、フォンブリンＺＤＯＬを用い、その膜厚
は１００人とした。
〔実施例５〕
実施例１と同様にして、フッ素液体潤滑剤の膜厚を５０
λに変えたものを作成した。ただし、フッ素系液体潤滑
剤は日本モンテジリン社製パーフロロポリエーテル、７
オンプリンＡＭ２００１を用いた。
λに変えたものを作成した。ただし、フッ素系液体潤滑
剤は日本モンテジリン社製パーフロロポリエーテル、７
オンプリンＡＭ２００１を用いた。
〔実施例６〕
実施例５と同様にして、酸化ケイ素膜の膜厚のみ６００
人に変えたものを作成した。
人に変えたものを作成した。
〔実施例７〕
実施例５と同様にして、酸化ケイ素膜の膜厚のみ７００
人に変えたものを作成した。
人に変えたものを作成した。
〔比較例１〕
実施例１と同様にして、保護膜を酸化ケイ素のかわりに
５００人のアモルファスカーボンとしたものを形成した
。ただし、潤滑剤は塗布しない。
５００人のアモルファスカーボンとしたものを形成した
。ただし、潤滑剤は塗布しない。
〔比較例２〕
比較例１と同様にして、潤滑剤は高級アルコールを６０
人塗布したものを作成した。
人塗布したものを作成した。
〔比較例３〕
比較例１と同様にして、潤滑剤はフォンブリンＺＤＩＡ
Ｃを１０人塗布したものを作成した。
Ｃを１０人塗布したものを作成した。
〔比較例４〕
実施例１と同様にして、潤滑剤は高級アルコール５０人
を塗布したものを作成した。
を塗布したものを作成した。
以上の実施例の品質評価は、Ｃ８Ｓ試験と耐食性試験に
より実施した。
より実施した。
Ｃ８Ｓ試験は、磁気ディスクドライブ中に作成した磁気
ディスクをセットし行なった。磁気ヘッドは、アクトン
社製ミニコンポジットヘッドを用い、静摩擦係数を測定
評価した。
ディスクをセットし行なった。磁気ヘッドは、アクトン
社製ミニコンポジットヘッドを用い、静摩擦係数を測定
評価した。
耐食性試験は８０°Ｃ１８５％Ｒ，Ｈ，の環境下にディ
スクを放置し、一定時間ごとに記録再生ｇ＊を行ないミ
ッシングピットの増加時点を寿命とした。
スクを放置し、一定時間ごとに記録再生ｇ＊を行ないミ
ッシングピットの増加時点を寿命とした。
表１ 品質評価結果
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明により、耐食性と潤滑・耐摩
耗性を、飛躍的に向上させた金属磁性薄膜媒体を有する
磁気ディスクの提供が可能になった。
耗性を、飛躍的に向上させた金属磁性薄膜媒体を有する
磁気ディスクの提供が可能になった。
本発明は、もちろんスパッタリングにより金属磁性薄膜
媒体を形成した磁気ディスクにおいても同様の効果をも
つことはいうまでもない。
媒体を形成した磁気ディスクにおいても同様の効果をも
つことはいうまでもない。
以 上
Claims (1)
- 金属磁性薄膜上に２００〜７００Åの膜厚の多孔性酸化
ケイ素膜を保護膜として形成した後、該保護膜上にフッ
素系の潤滑剤を塗布したことを特徴とする磁気ディスク
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12170987A JPS63285723A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12170987A JPS63285723A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63285723A true JPS63285723A (ja) | 1988-11-22 |
Family
ID=14817936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12170987A Pending JPS63285723A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63285723A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02282922A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US5055359A (en) * | 1989-12-14 | 1991-10-08 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Magnetic recording medium with an intermediate protective layer of silicon dioxide and a perfluoroalkylpolyether lubricant layer |
-
1987
- 1987-05-19 JP JP12170987A patent/JPS63285723A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02282922A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US5055359A (en) * | 1989-12-14 | 1991-10-08 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Magnetic recording medium with an intermediate protective layer of silicon dioxide and a perfluoroalkylpolyether lubricant layer |
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