JPS63234408A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は情報処理装置に用いられる磁気記録媒体の保護
潤滑膜に関する。
潤滑膜に関する。
第３図に従来用いられている磁気記録媒体の模型的な構
成断面図を示す。第３図の磁気記録媒体は基板ｌ上にＮ
１−ＰめつきＮ２を被覆し、このめっき膜２の上にさら
にＣｒ下地膜３を介して磁性膜４を被着し、磁性膜４上
に保護膜５を設けてあり、基板ｌにＮ１−Ｐめつき膜２
から保護膜５までをこの符号順に積み重ねたように構成
したものである〇基板１は非磁性体であり、例えばセラ
ミックやプラスチックのような非金属板やＡＩ、ステン
レスなどの金属板が用いられる。磁性膜４は従来ｒ−Ｆ
ｅ２０３． Ｃ０を含んだｒ Ｆｅ２Ｏ３，ＣｒＯ２ま
たは強磁性体合金などの微小粉末磁性材料を塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体やエポキシ樹脂などの有機バイン
ダ中に分散させ、基板１上に塗布、乾燥させる塗布型の
ものが広く使用されてきたが、近年高記録密度の要求が
高まるとともに、スパッタ、真空蒸着、プラズマＣＶＤ
などのように減圧雰囲気中で分子または原子の飛散によ
り成膜される蒸着型の磁性薄膜、例えばＣｏ−Ｎｉ合金
磁性薄膜などが実用化されつつある。しかし磁性膜４は
蒸着型の方が塗布型に比べて媒体の走行中に磁気ヘッド
との接触によって剥離や傷の発生が多く、これを改良す
るために磁性膜４に潤滑材として高分子材料や界面活性
剤などを塗布する方法もあるが、これらは湿式法である
から、膜厚数百Ａ以下の超薄膜を効率よく均一な厚さに
形成することがむづかしく、さらに潤滑材は液体である
という点から使用中に蒸発により失われることもある０
そとで最近では磁性膜４の上にスパッタ法などにより、
カーボン、 ５ＸＯ２やＳｉ３Ｎ、のようなシリコン
化合物もしくはＣｒを保護膜５として形成している。
成断面図を示す。第３図の磁気記録媒体は基板ｌ上にＮ
１−ＰめつきＮ２を被覆し、このめっき膜２の上にさら
にＣｒ下地膜３を介して磁性膜４を被着し、磁性膜４上
に保護膜５を設けてあり、基板ｌにＮ１−Ｐめつき膜２
から保護膜５までをこの符号順に積み重ねたように構成
したものである〇基板１は非磁性体であり、例えばセラ
ミックやプラスチックのような非金属板やＡＩ、ステン
レスなどの金属板が用いられる。磁性膜４は従来ｒ−Ｆ
ｅ２０３． Ｃ０を含んだｒ Ｆｅ２Ｏ３，ＣｒＯ２ま
たは強磁性体合金などの微小粉末磁性材料を塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体やエポキシ樹脂などの有機バイン
ダ中に分散させ、基板１上に塗布、乾燥させる塗布型の
ものが広く使用されてきたが、近年高記録密度の要求が
高まるとともに、スパッタ、真空蒸着、プラズマＣＶＤ
などのように減圧雰囲気中で分子または原子の飛散によ
り成膜される蒸着型の磁性薄膜、例えばＣｏ−Ｎｉ合金
磁性薄膜などが実用化されつつある。しかし磁性膜４は
蒸着型の方が塗布型に比べて媒体の走行中に磁気ヘッド
との接触によって剥離や傷の発生が多く、これを改良す
るために磁性膜４に潤滑材として高分子材料や界面活性
剤などを塗布する方法もあるが、これらは湿式法である
から、膜厚数百Ａ以下の超薄膜を効率よく均一な厚さに
形成することがむづかしく、さらに潤滑材は液体である
という点から使用中に蒸発により失われることもある０
そとで最近では磁性膜４の上にスパッタ法などにより、
カーボン、 ５ＸＯ２やＳｉ３Ｎ、のようなシリコン
化合物もしくはＣｒを保護膜５として形成している。
次にこの磁気記録媒体の製造方法について簡単に触れて
おく。
おく。
まず外径９５ｓ＊φ、内径２５！ＩＩφのＡＩ基板１に
厚さ約２０μｍのＮ１−Ｐめつき膜２を形成し、このめ
っき膜２０表面を研磨した後、さらに平均粗さ０．０５
μｍ以下となるまで鏡面研磨を行なう。次にめっき膜２
の上に厚さ０．２５μｍのＣｒ下地膜３を形成し、その
上に厚さ０．０５μｍのＣｏ−Ｎｉ磁性膜４と引続き磁
性膜４上に例えば０．０３μｍのカーボン保護膜５など
をスパッタ法で形成することＫよ抄、第３図に示した磁
気記録媒体を得ることができる。
厚さ約２０μｍのＮ１−Ｐめつき膜２を形成し、このめ
っき膜２０表面を研磨した後、さらに平均粗さ０．０５
μｍ以下となるまで鏡面研磨を行なう。次にめっき膜２
の上に厚さ０．２５μｍのＣｒ下地膜３を形成し、その
上に厚さ０．０５μｍのＣｏ−Ｎｉ磁性膜４と引続き磁
性膜４上に例えば０．０３μｍのカーボン保護膜５など
をスパッタ法で形成することＫよ抄、第３図に示した磁
気記録媒体を得ることができる。
なお磁性膜４はめつき法でも形成することができる。
以上第３図を参照して従来の磁気記録媒体について述べ
たが、問題は保護膜５の潤滑性にある。
たが、問題は保護膜５の潤滑性にある。
すなわち、カーボン膜などを保護膜５として形成したと
き、その表面に形成される水分子層の存在によって潤滑
性が大きく異なり、磁気ヘッドとの連続的な摺動によっ
て保護膜５が損なわれ、磁性膜４に摩耗や傷を生ずるこ
とである。このことは保護Ｍ５にシリコン化合物やＣｒ
を用いても同様である。そのほか真空蒸着法、プラズマ
ＣＶＤ法などで保護膜５を形成する方法もあるが、いず
れもいまだに十分な潤滑性を得るに至っていない。
き、その表面に形成される水分子層の存在によって潤滑
性が大きく異なり、磁気ヘッドとの連続的な摺動によっ
て保護膜５が損なわれ、磁性膜４に摩耗や傷を生ずるこ
とである。このことは保護Ｍ５にシリコン化合物やＣｒ
を用いても同様である。そのほか真空蒸着法、プラズマ
ＣＶＤ法などで保護膜５を形成する方法もあるが、いず
れもいまだに十分な潤滑性を得るに至っていない。
したがって本発明の目的は上述の欠点を除去し、従来の
保護膜に代わり、保護および潤滑性能にすぐれた保護潤
滑膜をもつ磁気記録媒体を提供することにある。
保護膜に代わり、保護および潤滑性能にすぐれた保護潤
滑膜をもつ磁気記録媒体を提供することにある。
本発明は基板上にめっき膜、下地膜および磁性膜をこの
順に堆積した磁気記録媒体の磁性膜上に成膜するぶつ化
カーボンをＣＦ２＋ＣＦ３／ＣＦ〉１の組成比をもつよ
うに保護潤滑膜として形成することＫより達成すること
ができる・ 〔作 用〕 本発明の磁気記録媒体に形成されたふつ化カーボンの保
護潤滑膜は組成をＣＦ２＋ＣＦ３／ＣＦ〉１とするとき
、ＡＮＳ Ｉ規格に基づく媒体と磁気ヘッドとの回転数
３８１■／ ｓｅｅの摺動に対する摩擦係数が従来の媒
体に形成されている保護膜に比べて非常に小さく、すぐ
れた潤滑性を示すように作用するものである。
順に堆積した磁気記録媒体の磁性膜上に成膜するぶつ化
カーボンをＣＦ２＋ＣＦ３／ＣＦ〉１の組成比をもつよ
うに保護潤滑膜として形成することＫより達成すること
ができる・ 〔作 用〕 本発明の磁気記録媒体に形成されたふつ化カーボンの保
護潤滑膜は組成をＣＦ２＋ＣＦ３／ＣＦ〉１とするとき
、ＡＮＳ Ｉ規格に基づく媒体と磁気ヘッドとの回転数
３８１■／ ｓｅｅの摺動に対する摩擦係数が従来の媒
体に形成されている保護膜に比べて非常に小さく、すぐ
れた潤滑性を示すように作用するものである。
以下本発明を実施例に基づき説明する。
第１図は本発明により得られた磁気記録媒体の模型的な
構成断面図を示したものであり、第３図と共通部分を同
一符号で表わしである。第１図が第３図と異なる点は保
護膜５の代りに保護潤滑膜６を形成したことにある。す
なわち、基板１から保護膜５までを符号順に積層した従
来の磁気記録ｌ薬体に対して本発明の磁気記録媒体は保
護膜５を形成することなく、磁性膜４上に保護潤滑膜６
としてふり化カーボン膜を設けたものである。
構成断面図を示したものであり、第３図と共通部分を同
一符号で表わしである。第１図が第３図と異なる点は保
護膜５の代りに保護潤滑膜６を形成したことにある。す
なわち、基板１から保護膜５までを符号順に積層した従
来の磁気記録ｌ薬体に対して本発明の磁気記録媒体は保
護膜５を形成することなく、磁性膜４上に保護潤滑膜６
としてふり化カーボン膜を設けたものである。
製造方法については第３図の場合と説明が重複しないよ
うに、ぶつ化カーボン保護潤滑膜６についてのみ述べる
が、ぶつ化カーボン保護潤滑膜６を形成するＫは、よく
知られたスパッタ法、プラズマＣＶＤ法、真空蒸着法な
どが適用可能である。
うに、ぶつ化カーボン保護潤滑膜６についてのみ述べる
が、ぶつ化カーボン保護潤滑膜６を形成するＫは、よく
知られたスパッタ法、プラズマＣＶＤ法、真空蒸着法な
どが適用可能である。
スパッタの場合は、ターゲットにフッ素樹脂を用いると
きはＡｒやＮ２などの不活性ガスを供給し、ターゲット
をカーボンとするときはＣＦ、ガスを供給する。プラズ
マＣＶＤの場合は供給ガスＩｃ ＣＦ４゜ＳＦ６などを
用いる。スパッタとプラズマＣＶＤのいずれの場合もガ
ス圧はグロー放電が生じる範囲であればよいが、１０−
３〜１ ｔｏｒｒとするのが望ましい。
きはＡｒやＮ２などの不活性ガスを供給し、ターゲット
をカーボンとするときはＣＦ、ガスを供給する。プラズ
マＣＶＤの場合は供給ガスＩｃ ＣＦ４゜ＳＦ６などを
用いる。スパッタとプラズマＣＶＤのいずれの場合もガ
ス圧はグロー放電が生じる範囲であればよいが、１０−
３〜１ ｔｏｒｒとするのが望ましい。
蒸着の場合は蒸着源としてフッ素樹脂を用いることがで
きる。
きる。
以上のような製造法により基板１から磁性膜４までを符
号順に形成した積層体の磁性膜４の上に種々のふつ化カ
ーボン保護潤滑膜６を形成するが、はじめにこの積層体
の磁性膜４に０．０２μｍのカーボン膜をスパッタ形成
した後、このものをＦ２ガス中でふつ化処理することに
よりぶつ化カーボン保護潤滑膜６を得ることができる。
号順に形成した積層体の磁性膜４の上に種々のふつ化カ
ーボン保護潤滑膜６を形成するが、はじめにこの積層体
の磁性膜４に０．０２μｍのカーボン膜をスパッタ形成
した後、このものをＦ２ガス中でふつ化処理することに
よりぶつ化カーボン保護潤滑膜６を得ることができる。
この際ぶつ化処理によって生ずるぶつ化カーボンの化合
物形態はＣＦ、ＣＦ２．ＣＦ３であり、保護潤滑Ｍ６中
に含まれるこれらの比率はふつ化処理温度によって異な
る。
物形態はＣＦ、ＣＦ２．ＣＦ３であり、保護潤滑Ｍ６中
に含まれるこれらの比率はふつ化処理温度によって異な
る。
処理温度が１８０℃のとき、ＣＦの量ｈ１とするとＣＦ
２は０．５であり、ＣＦ３は０．２となる。このように
して得られた磁気記録媒体をＡとする。同様にしてぶつ
化処理温度を２５０℃とした場合、保護潤滑膜６中のふ
つ化カーボンはＣＦｉｌに対してＣＦ２は０．８．ＣＦ
３は０．３である。このとき得られた磁気記録媒体をＢ
とする〇 次に基板１から魯滑１膜１短ら一磁性膜４１での積層体
の磁性膜４上にプラズマＣＶＤによりＣＦ４ガス中でぶ
つ化カーボンの保護潤滑膜６を０．０３μｍの厚さに形
成し、得られた磁気記録媒体をＣとする。
２は０．５であり、ＣＦ３は０．２となる。このように
して得られた磁気記録媒体をＡとする。同様にしてぶつ
化処理温度を２５０℃とした場合、保護潤滑膜６中のふ
つ化カーボンはＣＦｉｌに対してＣＦ２は０．８．ＣＦ
３は０．３である。このとき得られた磁気記録媒体をＢ
とする〇 次に基板１から魯滑１膜１短ら一磁性膜４１での積層体
の磁性膜４上にプラズマＣＶＤによりＣＦ４ガス中でぶ
つ化カーボンの保護潤滑膜６を０．０３μｍの厚さに形
成し、得られた磁気記録媒体をＣとする。
このとき保護潤滑膜６のふつ化カーボン構成割合はＣＦ
量１に対してＣＦ２は１．０．ＣＦ３は０．４である。
量１に対してＣＦ２は１．０．ＣＦ３は０．４である。
さらにＲＦスパッタ法では積層体の磁性膜４の上に、カ
ーボンをターゲットとしてＣＦ４ガス中で０．０３μｍ
厚さのふつ化カーボン保護潤滑膜６を形成し、得られた
媒体をＤとする。ぶつ化カーボンの構成比はＣＦ １．
ＣＦ２Ｏ，９，ＣＦ３０．５となる。ＲＦスパッタ法
ではフッ素樹脂をターゲットとしてＡｒガス中で０．０
２μｍの厚さの保護潤滑膜６の形成も行なった。得られ
た媒体をＥとする。このときぶつ化カーボンの構成比は
ＣＦＩに対してＣＦ２１．３゜ＣＦ３０．８である。
ーボンをターゲットとしてＣＦ４ガス中で０．０３μｍ
厚さのふつ化カーボン保護潤滑膜６を形成し、得られた
媒体をＤとする。ぶつ化カーボンの構成比はＣＦ １．
ＣＦ２Ｏ，９，ＣＦ３０．５となる。ＲＦスパッタ法
ではフッ素樹脂をターゲットとしてＡｒガス中で０．０
２μｍの厚さの保護潤滑膜６の形成も行なった。得られ
た媒体をＥとする。このときぶつ化カーボンの構成比は
ＣＦＩに対してＣＦ２１．３゜ＣＦ３０．８である。
以上のごとく種々のふつ化カーボン保護潤滑膜６を有す
るＡ−Ｅの磁気記録媒体を作製したが、それぞれのふつ
化カーボン構成比をまとめて第１表に示した。
るＡ−Ｅの磁気記録媒体を作製したが、それぞれのふつ
化カーボン構成比をまとめて第１表に示した。
第１表
以上の磁気記録媒体Ａ−Ｅに形成された保護潤滑膜を評
価するためにＡＮＳＩ規格による摩擦係数の測定と膜面
の傷の有無を観察した。摩擦係数はＭｎ−Ｚｎ磁気ヘッ
ドを用いて相対速度３８１■／ｓｅｅで回転させながら
測定し、時間経過に対する変化を求め、その結果を第２
図に示した。第２図の線図には比較のため従来のカーボ
ン保護膜をもつ磁気記録媒体Ｓについても併記しである
が、各曲線は磁気記録媒体の記号Ａ−ＥおよびＳＩＣ対
応するように同じ記号で表示しである。
価するためにＡＮＳＩ規格による摩擦係数の測定と膜面
の傷の有無を観察した。摩擦係数はＭｎ−Ｚｎ磁気ヘッ
ドを用いて相対速度３８１■／ｓｅｅで回転させながら
測定し、時間経過に対する変化を求め、その結果を第２
図に示した。第２図の線図には比較のため従来のカーボ
ン保護膜をもつ磁気記録媒体Ｓについても併記しである
が、各曲線は磁気記録媒体の記号Ａ−ＥおよびＳＩＣ対
応するように同じ記号で表示しである。
第２図の結果から実用的に有効とみられる６０分経過後
の摩擦係数０．５以下を保つものはＢ−Ｅであり、Ａは
摩擦係数が０．５を超え、Ｓはさらに変化が大きくなる
。このことは保護潤滑膜のふつ化カーボンのＣＦ、 Ｃ
Ｆ２ 、 ＣＦ３の構成比の点からみると、第１表のご
とく摩擦係数の変化が大きいＡは全体のほぼ１４はＣＦ
であるのに対して、摩擦係数の変化の小さいＢ−ＥはＣ
Ｆ２とＣＦ３の合計がＣＦより大きい、すなわち保護潤
滑膜の摩擦係数の安定性はＣＦ２とＣＦ３の存在が寄与
しており、これらの全量がＣＦより多いとき保護潤滑膜
の潤滑性能が向上することがわかる。すなわちこの条件
はＣＦ２＋ＣＦ３／ＣＦ＞ １である。またＳ、Ａの媒
体表面には傷が生じたがＢ−Ｅではいずれも傷はみられ
なかった。
の摩擦係数０．５以下を保つものはＢ−Ｅであり、Ａは
摩擦係数が０．５を超え、Ｓはさらに変化が大きくなる
。このことは保護潤滑膜のふつ化カーボンのＣＦ、 Ｃ
Ｆ２ 、 ＣＦ３の構成比の点からみると、第１表のご
とく摩擦係数の変化が大きいＡは全体のほぼ１４はＣＦ
であるのに対して、摩擦係数の変化の小さいＢ−ＥはＣ
Ｆ２とＣＦ３の合計がＣＦより大きい、すなわち保護潤
滑膜の摩擦係数の安定性はＣＦ２とＣＦ３の存在が寄与
しており、これらの全量がＣＦより多いとき保護潤滑膜
の潤滑性能が向上することがわかる。すなわちこの条件
はＣＦ２＋ＣＦ３／ＣＦ＞ １である。またＳ、Ａの媒
体表面には傷が生じたがＢ−Ｅではいずれも傷はみられ
なかった。
なお本発明の磁気記録媒体に形成されるぶつ化カーボン
保護潤滑膜６の厚さは磁性膜４を保護するに足る膜面強
度と磁気ヘッドに対する摺動時の滑り性が良好であれば
、とくに限定する必要はないが、できるだけ薄い方が好
ましい。
保護潤滑膜６の厚さは磁性膜４を保護するに足る膜面強
度と磁気ヘッドに対する摺動時の滑り性が良好であれば
、とくに限定する必要はないが、できるだけ薄い方が好
ましい。
以上実施例で述べたごとく、本発明の磁気記録媒体は従
来の媒体に形成されているカーボンなどの保護膜の代り
にふつ化カーボンの保護潤滑膜を形成し、ぶつ化カーボ
ン化合物の構成比をＣＦ２＋ＣＦ３／ＣＦ’〉１とする
ことによりＣＦ２ ＊ ＣＦ３がこの磁気記録媒体の潤
滑性を高め、長期間にわたって良好な耐摩耗性を持続し
、媒体表面に傷を生ずることもない。とくに固定ディス
ク装置などに用いて微小間隔で浮上滑空する磁気ヘッド
に対して媒体を保護し、すぐれた潤滑性を発揮するもの
として極めて有効である。
来の媒体に形成されているカーボンなどの保護膜の代り
にふつ化カーボンの保護潤滑膜を形成し、ぶつ化カーボ
ン化合物の構成比をＣＦ２＋ＣＦ３／ＣＦ’〉１とする
ことによりＣＦ２ ＊ ＣＦ３がこの磁気記録媒体の潤
滑性を高め、長期間にわたって良好な耐摩耗性を持続し
、媒体表面に傷を生ずることもない。とくに固定ディス
ク装置などに用いて微小間隔で浮上滑空する磁気ヘッド
に対して媒体を保護し、すぐれた潤滑性を発揮するもの
として極めて有効である。
第１図は本発明の磁気記録媒体の模型的な構成断面図、
第２図は本発明と従来の各磁気記録媒体を摩擦係数の時
間変化で比較した線図、第３図は従来の磁気記録媒体の
模型的な構成断面図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・めっき膜、３・・
・・・・下地膜。 ４・・・・・・磁性膜、５・・・・・・保獲膜、６・・
・・・・保護潤滑膜。 代押入介、庁士 山 ヮ 嶽 ゝ・５、己、・第１
図 第２図
第２図は本発明と従来の各磁気記録媒体を摩擦係数の時
間変化で比較した線図、第３図は従来の磁気記録媒体の
模型的な構成断面図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・めっき膜、３・・
・・・・下地膜。 ４・・・・・・磁性膜、５・・・・・・保獲膜、６・・
・・・・保護潤滑膜。 代押入介、庁士 山 ヮ 嶽 ゝ・５、己、・第１
図 第２図
Claims (1)
- １）基板上にめっき膜、下地膜および磁性膜をこの順に
堆積形成した積層体の前記磁性膜上にふっ化カーボン化
合物の含有量がＣＦ＿２＋ＣＦ＿３／ＣＦ≧１なるふっ
化カーボン保護潤滑膜を形成したことを特徴とする磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6677687A JPS63234408A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6677687A JPS63234408A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63234408A true JPS63234408A (ja) | 1988-09-29 |
Family
ID=13325603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6677687A Pending JPS63234408A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63234408A (ja) |
-
1987
- 1987-03-20 JP JP6677687A patent/JPS63234408A/ja active Pending
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