JPH02110828A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH02110828A JPH02110828A JP26453088A JP26453088A JPH02110828A JP H02110828 A JPH02110828 A JP H02110828A JP 26453088 A JP26453088 A JP 26453088A JP 26453088 A JP26453088 A JP 26453088A JP H02110828 A JPH02110828 A JP H02110828A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する磁気記録媒体の製造
方法に関する。
方法に関する。
従来の技術
磁気記録媒体を高めようとの要求は継続的にあって、最
近では、高密度記録に適する強磁性金属薄膜を磁気記録
層とする磁気記録媒体の実用化が強く望まれている〔ア
イイーイーイー トクンザクションズ オン マグネテ
ィクス (IIEEKTRANSACTIONS O
N MAGNIcTIO8)’101. MAG−2
1、No −3、P、P、 1 217〜1220(
15aes ))。
近では、高密度記録に適する強磁性金属薄膜を磁気記録
層とする磁気記録媒体の実用化が強く望まれている〔ア
イイーイーイー トクンザクションズ オン マグネテ
ィクス (IIEEKTRANSACTIONS O
N MAGNIcTIO8)’101. MAG−2
1、No −3、P、P、 1 217〜1220(
15aes ))。
強磁性金属薄膜群の中で有望なものは、Go −Or等
の垂直磁化膜〔特公昭58−91号公報、特開昭61−
120331号公報〕やCo−Ni、Go−N1−〇
等の斜め蒸着僕や湿式めっき膜〔特公昭41−1938
9号公報、特開昭53−42010号公報〕等があり、
現在主たる改善検討は高密度磁気記録特性を低下させな
いか、低下量を実用上無視できるような保護潤滑層の形
成にあり、一般によく知られるメチルインブチルケトン
、メタノール、)/L/エン等の溶剤中に潤滑剤を含ま
せて、塗布乾燥する方法〔特開昭57−179948号
公報、特開昭81−178718号公報〕では、スピン
コード法、デイツプ法、リバースロールコート法等の方
法の如何を問わず、潤滑剤の種頌と瓜と溶液をうまく組
み合わせれば、磁気ディスク。
の垂直磁化膜〔特公昭58−91号公報、特開昭61−
120331号公報〕やCo−Ni、Go−N1−〇
等の斜め蒸着僕や湿式めっき膜〔特公昭41−1938
9号公報、特開昭53−42010号公報〕等があり、
現在主たる改善検討は高密度磁気記録特性を低下させな
いか、低下量を実用上無視できるような保護潤滑層の形
成にあり、一般によく知られるメチルインブチルケトン
、メタノール、)/L/エン等の溶剤中に潤滑剤を含ま
せて、塗布乾燥する方法〔特開昭57−179948号
公報、特開昭81−178718号公報〕では、スピン
コード法、デイツプ法、リバースロールコート法等の方
法の如何を問わず、潤滑剤の種頌と瓜と溶液をうまく組
み合わせれば、磁気ディスク。
磁気テープのいずれの形態でも摩擦、摩耗特性を改善で
きる。
きる。
発明が解決しようとする課題
更に最近では一層耐久性を向上すべく提案されている酸
化物と潤滑剤層の組み合わせ(特開昭61−16183
0号公報)スパッタ法で形成した有機薄膜と含フツ素潤
滑油層の積1m(特開昭61−137219号公報)等
の中で、カーボン膜と70ロカーボン系(特開昭61−
142525号公報)の組み合わせをはじめカーボン膜
の採用が磁気ディスクを中心に進んでいるが潤滑剤の均
一性、耐久性が通常法で得たものは不十分でデイツプ法
で超音波印加する方法〔特開昭63−177314号公
報〕やカーボン膜上にアミド系潤滑剤及びカップリング
剤を塗布した後加熱処理する等の改善が行われている。
化物と潤滑剤層の組み合わせ(特開昭61−16183
0号公報)スパッタ法で形成した有機薄膜と含フツ素潤
滑油層の積1m(特開昭61−137219号公報)等
の中で、カーボン膜と70ロカーボン系(特開昭61−
142525号公報)の組み合わせをはじめカーボン膜
の採用が磁気ディスクを中心に進んでいるが潤滑剤の均
一性、耐久性が通常法で得たものは不十分でデイツプ法
で超音波印加する方法〔特開昭63−177314号公
報〕やカーボン膜上にアミド系潤滑剤及びカップリング
剤を塗布した後加熱処理する等の改善が行われている。
しかしながらカーボン膜でも特にダイヤモンド状又はダ
イヤモンドに近いカーボン薄膜を配した上に各種の潤滑
剤を均一く付与しようとすると従来法では不十分で、耐
久性の向上に課題が残されている。本発明は上記した事
情に鑑みなされたもので、潤滑性、耐摩耗特性に優れた
高密度磁気記録媒体を製造する方法を提供するものであ
る。
イヤモンドに近いカーボン薄膜を配した上に各種の潤滑
剤を均一く付与しようとすると従来法では不十分で、耐
久性の向上に課題が残されている。本発明は上記した事
情に鑑みなされたもので、潤滑性、耐摩耗特性に優れた
高密度磁気記録媒体を製造する方法を提供するものであ
る。
課題を解決するための手段
上記した課題を解決するため本発明の磁気記録媒体の製
造方法は粒状突起を有する強磁性金属薄膜上にカーボン
膜を配した被処理体をP (Torr )の真空中で巻
摩りながら、潤滑剤をV(人/5ec)で蒸着する際P
/v値を10 以下に保つようにしたものである。
造方法は粒状突起を有する強磁性金属薄膜上にカーボン
膜を配した被処理体をP (Torr )の真空中で巻
摩りながら、潤滑剤をV(人/5ec)で蒸着する際P
/v値を10 以下に保つようにしたものである。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記した構成により
、潤滑剤がカーボン膜を均一に被覆できるようになり、
潤滑漠の破れによるカーボン膜の破壊並びに強磁性金属
薄膜の破壊を防止でき耐久性が改善されることになる。
、潤滑剤がカーボン膜を均一に被覆できるようになり、
潤滑漠の破れによるカーボン膜の破壊並びに強磁性金属
薄膜の破壊を防止でき耐久性が改善されることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。図は本発明の磁気記録媒体の製造方法によって製
造される磁気記録媒体の拡大断面図である。図で1はポ
リエチレンテレフタレート。
する。図は本発明の磁気記録媒体の製造方法によって製
造される磁気記録媒体の拡大断面図である。図で1はポ
リエチレンテレフタレート。
ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド、ポリイ
ミド等の高分子フィルムやムト1g。
ド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド、ポリイ
ミド等の高分子フィルムやムト1g。
ムl −Si合金等の非磁性基板から成る基板で、2は
微粒子層で5i02 、ム120s 、 Boo 、T
lO2゜Cr2O5、ZrO2、MoCj 、 MnO
2、CaF2 、 テア o ン粉末、アクリル樹脂ビ
ーズ等を塗布したものや、プラズマ重合条件の制御によ
り粒状突起を形成するようにしたもの等が用いられる。
微粒子層で5i02 、ム120s 、 Boo 、T
lO2゜Cr2O5、ZrO2、MoCj 、 MnO
2、CaF2 、 テア o ン粉末、アクリル樹脂ビ
ーズ等を塗布したものや、プラズマ重合条件の制御によ
り粒状突起を形成するようにしたもの等が用いられる。
3はCo −Ni 。
Co−Cx 、 co−Ti 、 Go−Mo 、 C
o−P 、 Go−Ta。
o−P 、 Go−Ta。
Co−W 、 Go−Ni−P 、 Cjo −Ni−
0、Co−0r −Ntl等の強磁性金属薄膜で電子ビ
ーム蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリング
法等で形成する。
0、Co−0r −Ntl等の強磁性金属薄膜で電子ビ
ーム蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリング
法等で形成する。
4はカーボン膜で、スパッタリング法、イオンビームデ
ボジ°シロン法、プラズマアシスト法等で形成されるも
ので特にダイヤモンド状硬質炭素膜。
ボジ°シロン法、プラズマアシスト法等で形成されるも
ので特にダイヤモンド状硬質炭素膜。
ダイヤモンド膜、或いはこれらの混合体に後述する方法
を適用することでの効果が大きいが、グラファイト等の
炭素状態でも効果を確認することができるものであるの
は勿論である。6は潤滑剤層で、脂肪酸、テレピン油、
ステアリン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルポリエ
ーテル、パーフルオロアルキルカルボン酸、アルキル変
性シラン。
を適用することでの効果が大きいが、グラファイト等の
炭素状態でも効果を確認することができるものであるの
は勿論である。6は潤滑剤層で、脂肪酸、テレピン油、
ステアリン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルポリエ
ーテル、パーフルオロアルキルカルボン酸、アルキル変
性シラン。
シランカップリング剤等で必要であれば、極圧潤滑剤、
防錆剤として一般に整理されているものの混合体でもよ
い。
防錆剤として一般に整理されているものの混合体でもよ
い。
本発明は磁気テープ、磁気ディスクのいずれでもよいが
以下更に具体的な実施例てついて比較例との対比で磁気
ディスクについて説明する。
以下更に具体的な実施例てついて比較例との対比で磁気
ディスクについて説明する。
厚み26μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に直径120人のTlO2を平均2oケ4μm)2配し
その上に高周波スパッタリング法によりC。
に直径120人のTlO2を平均2oケ4μm)2配し
その上に高周波スパッタリング法によりC。
−0r(Or:20wt%)垂直磁化膜を1800fん
配し、その上に、高周波スパッタリング法でグラファイ
トをターゲットにして、ムr+H2”0.07(Tor
r ) 、ムr : H2’= 1: 4 、13.5
6 (Mllz ) 。
配し、その上に、高周波スパッタリング法でグラファイ
トをターゲットにして、ムr+H2”0.07(Tor
r ) 、ムr : H2’= 1: 4 、13.5
6 (Mllz ) 。
1200(W)の条件でダイヤモンド状硬質炭素膜を1
05(A)配し、その上に潤滑剤を蒸着し、3.6イン
チのフロッピーディスクに加工し特性比較を行った。
05(A)配し、その上に潤滑剤を蒸着し、3.6イン
チのフロッピーディスクに加工し特性比較を行った。
〔実施例−1〕
ダイヤモンド状硬質炭素膜を形成後、別の室で真空度C
P)をp = I Q (Torr)とし、ステアリ
ン酸を蒸着速度(イ)を変えて蒸着してから3.6イン
チのフロッピーディスクを加工した。
P)をp = I Q (Torr)とし、ステアリ
ン酸を蒸着速度(イ)を変えて蒸着してから3.6イン
チのフロッピーディスクを加工した。
〔実施例−2〕
P = 10 (TOrr)とし、ステアリン酸をV
を変えて蒸着してから3.6インチのフロッピーディス
クを加工した。
を変えて蒸着してから3.6インチのフロッピーディス
クを加工した。
〔実施例−3〕
P = 10 (Torr)でミリスチン酸アミドを
Vを変えて蒸着してから3.6インチのフロッピーディ
スクを加工した。
Vを変えて蒸着してから3.6インチのフロッピーディ
スクを加工した。
尚比較例も含めて、条件と特性について表にまとめて示
した。特性は、ギャップ長0.13μmのメタルインギ
ヤラフ型アモルファスヘノ)”Kより)ラック幅10μ
mでビット長0.2μ論を記録し、40℃85%RHで
保存時間を変化させ、保存した後、再生出力が3(dB
)低下するまでの耐久時間を比較した。
した。特性は、ギャップ長0.13μmのメタルインギ
ヤラフ型アモルファスヘノ)”Kより)ラック幅10μ
mでビット長0.2μ論を記録し、40℃85%RHで
保存時間を変化させ、保存した後、再生出力が3(dB
)低下するまでの耐久時間を比較した。
上表に示した以外でもPを10 (Torr)〜10
(Torr)の範囲で各種の材料について実施した結
果P/v値か10 以下であれば、経時変化がなく、耐
久性も良いことを確かめである。
(Torr)の範囲で各種の材料について実施した結
果P/v値か10 以下であれば、経時変化がなく、耐
久性も良いことを確かめである。
発明の効果
以上のように本発明によれば、耐久性が良好な磁気記録
媒体を製造できるといったすぐれた効果がある。
媒体を製造できるといったすぐれた効果がある。
図は本発明の方法によって製造される磁気記録媒体の拡
大断面図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・微粒子層、3・・
・・・・強磁性金属薄膜、4・・・・・・ダイヤモンド
状硬質炭素膜、6・・・・・潤滑剤層。
大断面図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・微粒子層、3・・
・・・・強磁性金属薄膜、4・・・・・・ダイヤモンド
状硬質炭素膜、6・・・・・潤滑剤層。
Claims (1)
- 粒状突起を有する強磁性金属薄膜上にカーボン膜を配し
た被処理体をP(Torr)の真空中で巻き取りながら
潤滑剤をV(Å/sec)で蒸着する際P/Vを10^
−^5以下に保持することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26453088A JPH02110828A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26453088A JPH02110828A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02110828A true JPH02110828A (ja) | 1990-04-24 |
Family
ID=17404539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26453088A Pending JPH02110828A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02110828A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0414619A (ja) * | 1990-05-07 | 1992-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61214132A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-24 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS61216125A (ja) * | 1985-03-22 | 1986-09-25 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS61227230A (ja) * | 1985-04-01 | 1986-10-09 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS63121120A (ja) * | 1986-11-10 | 1988-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-10-20 JP JP26453088A patent/JPH02110828A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61214132A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-24 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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