JPH02282922A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体に関する。

従来の技術 記録、再生機器の小型化、高性能化の為に記録密度向と
の努力は継続的に行われており、最近では強磁性金属薄
膜を磁気記録層として実用化することが待望されるに至
っている〔アイイーイーイトランザクシヲンズ　オン　
マグネティクス（ＩＥＥＥ　ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ
　ＯＮ　ＭＡＧＮＥＴＩＣＳ）ｖｏｔ、　ＭＡＧ　−２
１、＆−３、ｐ、ｐ、　１２１７〜１２２０（１９８５
）〕。強磁性金属薄膜は材料としての組合わせは多数考
えられるが、現実的な可能性が示されているものは少く
、Ｃｏ−Ｃｒ等の垂直磁化膜〔特公昭５８−９１号公報
、特開昭６１−１２０３３１号公報〕やＣｏ−Ｎｆ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−０等の斜め蒸着膜や湿式めっき膜〔特公昭４
１−１９３８９号公報、特開昭５３−４２０１０号公報
〕等で、実用化の目的で最近ではもっばら、保護潤滑層
の開発が検討の中心となっている。現状ではポリエチレ
ンテレフタレートフィルム等のに分子フィルム上に直接
あるいは微粒子などの下塗りを行った後、電子ビーム蒸
着法やスパッタリング法で強磁性金属薄膜を配し、その
面に直接溶剤に脂肪酸やパーフルオロポリエーテル等の
潤滑剤を溶かした溶液を塗布乾燥する方法〔特開昭５７
−１７９９４８号公報、特開昭６１−１７８７１８号公
報〕や、酸化膜を介して潤滑剤を配する〔特開昭６１−
１５１８３０号公報〕こ号公報法素膜とフロロカーボン
系の組み合わせ〔特開昭１３１−１４２６２５号公報〕
等が提案され、磁気ディスクではまだ炭素膜が厚いとは
いうものの一部実用化され、炭素質についても検討が進
み硬度を高めることの有用性〔米国特許第４，７１７，
６２２号明細書〕も知られるに至っている。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、短波長化をおしすすめていくと、へ、ド
・テープ間に非磁性の空間が、磁束微分型の記録再生方
式では、垂直記録１面内記録の如何を問わず、重大な損
失をもたらすことになシ、従来構成では、記録再生を十
分な質を確保して行なおうとするとＣ、／　Ｎが不足す
るといった課題があり改善が望まれていた。本発明は上
記した事情に鑑みなされたもので、耐久性とＣ／Ｎのバ
ランスをとった磁気記録媒体を提供するものである。

課題を解決するための手段 上記した課題を解決するため本発明の磁気記録媒体は、
強磁性金属薄膜上に多孔質の硬質膜を配し、その上で、
潤滑剤を配したものである。

作　　用 本発明の磁気記録媒体は上記した構成により、スペーシ
ング損失が改善できＣ／Ｎを向上させることができる。

即ち、強磁性金属薄膜上に配した硬質膜は多孔質であり
、その構造上、実質的な硬さは、材料のもつ硬さを上ま
わり、膜厚を小さくしても耐久性を確保できる。又従来
のように層状に配された潤滑剤と異なり、多孔質の硬質
膜にしみ込んだ潤滑剤は、ヘッドとの高速摺動下でも長
時間、潤滑作用を維持できる。走行上ハリツキ現象をお
こすことなく、潤滑剤を表面に保有する量が増やせるの
で潤滑剤によるスペーシング損失も改善できる。

北記したことから、耐久性とＣ／Ｎｔ−バランスをとっ
て改善できるといえる。

実施例 以下、図面を参照しながら、本発明の磁気記録媒体につ
いて説明する。

〔実施例−１〕 第１図は本発明の磁気記録媒体の第１の実施例の拡大断
面図である。第１図で１はポリエチレンテレフタレート
、ポリフェニレンサルファイド。

ポリエーテルサルフォノ。ポリエーテルエーテルケトン
、ポリアミドイミド、ポリイミド等の高分子フィルムで
、必要に応じてミミズ状の下塗多層や、微粒子を分散さ
せた下塗９層を配したものを用いてもよい。２はＣｏ、
Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ。

Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｇｏ−Ｒｕ、Ｃ
。

−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−５ｍ、Ｃｏ−Ｖ
。

Ｃｏ−Ｔａ、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｂ、Ｃｏ−ＮＬ
−０等の強磁性金属薄膜で、積層構造としてもよいし、
下地層を介して構成してもよい。強磁性金属薄膜の製法
はスパッタリング法、電子ビーム蒸着法、イオンブレー
ティング法等によるもので、構成厚みは０．０６μｍか
ら０．４μｍが好ましい。

３は多孔質硬質膜で、硬質の目安はヌープ硬度１６ｏＯ
ｃＫ９／ｍａｌ）以上、好ましくは２００ＱＣＫ９／ｍ
ｊ〕以上で、多孔質の目安は、ｖｏｔ％で２０％から４
０チであり、製法は材料により適した方法を選ぶものと
する。用いることの出来る硬質ｆＪｉｊは５ｉｎ２，５
ｔ３Ｎ４．ＴｉＮ、ＷＣ，ＭｏＣ，炭素膜などを基本と
するもので、化学量論的に完全であることは必要なく、
実際は製膜条件にもよるので適宜実験から好ましい条件
を選んで実施すればよい。

多孔質化するのに好ましい方法は低沸点の材料。

不活性ガス等が多量に混入する条件で上記した膜を形成
する方法であるが、特に製法を限定するものではない。

膜厚は８０人から１６０人の範囲が好ましい範囲である
が勿論所期の目標性能を満足できる系として最適化すれ
ばよいのであって、これに限定されるものではない。

４は潤滑剤で、真空蒸着法、溶液塗布法等で配された、
０．４〜ＢＣ”ｆ／ｄ〕のバーフｌレオロポリエーテル
、パーフルオロカルボン酸、シリコーンオイル、脂肪酸
、脂肪酸アミド等から成るものである。

６はバックコート層で公知技術を適用して構成すればよ
いし、ディスク状として実施する場合は不要である。

以下、本発明について更に具体的に比較例との対比で説
明する。

厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（
表面粗さ３０人）上に直径１ｏｏへのＳ　ｉＯ２微粒子
を１ｏＯケ／（μｍ　）　２　配した下塗り層を構成し
、直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、Ｃｏ　−Ｎｉ　（
Ｃｏ　：　８０　ｗｔ　ｑ６　）を最小入射角４６度。

酸素分圧ｓ　ｘ　１０　　（Ｔｏｒｒ）で電子ビーム蒸
着し、０．１６μｍのＣｏ　−Ｎ　ｉ−○膜を形成し、
その上に、多孔質の硬質膜を形成し、バックコート層０
．４μｍと潤滑層を配し８ミリテープとした。多孔質硬
質膜を形成する方法として、カソードを４ヶ配し、夫４
に直径２０１の円筒キャンを対向配設し、スパッタリン
グ膜を４回積層とする方法を用いた。尚多孔質化するた
め、ＡｔＯ工膜（、＝１．１〜１．３５）の場合は、Ａ
ｔカソードを用い、放電ガスとしてＫｒとＯを混合しく
Ｋｒ：０２＝１０：１〜６　：　１）Ａｔのレイトを調
整し、硬質炭素膜の場合は、グラファイトをターゲット
としＡｒ　＋Ｈ２で放電ガスを構成し、スパッタ蒸着を
行い、ｏ２ガスを用い、高速でスパッタエツチングし、
それを４回くシ返すことで多孔質の条件を変えた。媒体
の主要構成条件と、特性評価結果を第１表に示した。特
性は改造した８ミリビデオにより、ハイバンド仕様、Ｌ
Ｐモードで７　（ＭＨｚ　）のＣ／Ｎを比較したもので
ある。尚多孔質の度合は、比較例を１とし、Ｃ○２ガス
の吸着を計測し、吸着面積の倍率で表わした。

第１表より明らかなように、テープ１〜８の実施例は、
比較例である９〜１２に比し、Ｃ／Ｎの低下も少なく、
初期のＣ／Ｎも良いことからくり返し使用での実際に生
じるＣ／Ｎの差は大きいものである。

〔実施例−２〕 本実施例では、更にスペーシング損失の改良をおし進め
た構成に関するもので、耐久性とＣ／Ｎをより改善する
こと全目的とした磁気記録媒体について説明する。

第２図は、本発明の実施例の磁気記録媒体の要部拡大断
面図である。第２図で６は柱状微粒子で、強磁性金属薄
膜を構成するもので、７は多孔質酸化膜部分で８は通常
の酸化膜で、９は多孔質の硬質膜で１０は潤滑剤である
。６は、Ｃｏ　−０、Ｃ。

−Ｎｉ　−０、Ｃｏ　−Ｃｒ　−０、Ｃｏ　−Ｒｕ　−
０。

Ｃｏ−Ｎｂ−○、　Ｃｏ　−Ｖ　−０、Ｃｏ−Ｂ　−０
。

Ｃｏ−Ｗ−０等を構成元素とするもので、蒸着中に酸素
を導入して、柱状微粒子の表面全体が酸化膜でおおわれ
たものは勿論のこと、蒸着後表面酸化したものも含まれ
る。

尚膜の表面側の酸化層を多孔質にするには、電子ビーム
蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリング法等
で製膜する場合、表面側になる位置近くからガス導入す
るようにし、且つ酸素ガスと共にＸｅ、Ｋｒ　等の原子
又はイオンを照射し、製膜後真空中で加熱し、Ｘｅ、Ｋ
ｒ等を放出させる方法がよい。酸化層の厚みは、耐久性
とスペーシング損失の兼ねあいから５０人から１５０人
の範囲とするのが好ましい。又多孔質の目安はｖｏｅチ
で２０〜４０チの範囲が好ましい。９．１０は実施例−
１で述べたものから適宜選択すればよい。

以下、更に具体的に本発明の実施例について比較例との
対比で説明する。

厚み１０μｍｏポリエチレンテレフタレートフィルム上
に直径７ｏ入のＳｉｏ２微粒子を１００ケ／（μｍ　）
　２配し、その上に直径１ｍの円筒キャン（キャン温度
ｅｏ’ｃ　）に沿わせて、最小入射角６６度、酸素分圧
を１×１０−５〜９Ｘ１０−５（Ｔｏｒｒ）の範囲でＣ
ｏ　−Ｎｉ　（Ｃｏ　：　８０　ｗｔ　％　）を０．２
ｆｉｍ電子ビーム蒸着した。表面酸化層形成部にＫｒイ
オンを３　ＫｅＶ　〜１０ＫｅＶ　、　２０〜２６０　
（μＡ／Ｔｒ？）の範囲で条件を選んで照射を蒸着と同
時過程で行い、その直後に１４０ｔ’で真空加熱し、表
面部の酸化層を多孔質化しその上に多孔質化した硬質膜
を配し、潤滑剤を配し、０．４μｍのバンクコート層を
配し、８ミリテープとした。夫々のテープの主な構成要
件と、８ミリビデオで７　（ＭＨｚ　）ＬＰモードのＣ
／Ｎと、ＰＣＭエラー率でみた耐久性の比較結果を第２
表にまとめて示した。

第２表より、表面酸化層を多孔質化し、かつ硬質膜を多
孔質化することで、トータルの非磁性層を薄くできるの
でスペーシング損失を改良できることがわかる。又、こ
こに示した比１咬例（９゜１０．１１）では、耐久性に
ついても劣り、耐久性を改善すると、Ｃ／Ｎ差はこの表
以上に開くことから本発明の有価値性が明らかである。

〔実施例−３〕 実施例−１，実施例−２で述べた構成により、本発明の
目的である耐久性とＣ／Ｎをバランスよく改善すること
は果すことができたことは具体例から明らかである。こ
れらは基本的に多孔質による構造上からの膨強化をベー
スにしているもので、通常の実使用であれば全く問題な
いが、市販のＭＰテープ等でも保存上問題になる腐食性
の強い環境での保存性が十分でないことがある。本実施
例は耐久性、Ｃ／Ｎを殆んど変化させずに、保存性を更
に改善することの出来る構成を示すものである。

本発明は、第１図、第２図に示した磁気記録媒体で多孔
質の硬質膜３，９と、潤滑剤４，１Ｑの間に、プラズマ
重合膜を配するようにしだものである。プラズマ重合膜
は、３人から２０への範囲が好ましい。３八以下では保
存が改善されないのと、２Ｑ八以上では、かえって耐久
性が低下し、目づまりを起こしたり、スペーシングが増
えて、Ｃ／Ｎが低下するからである。但しこの範囲は、
用いるモノマーガスやプラズマ重合条件により、多少は
変えてもよいのは勿論であり、通常行われる磁気記録媒
体の諸特性のバランヌ調整範囲で動かすのは構わない。

用いることの出来るモノマーガスは、例えばＣ２Ｆ４．
Ｃ２Ｈ２Ｆ、Ｃ２Ｈ２Ｆ２．Ｃ２Ｆ６ＩＣ４Ｆ８゜ＣＦ
３Ｎ０等のふっ素含有化合物、メチルアミン。

ジメチルアミン、トリメチルアミン、ジエチルアミン、
トリーｎ−プロピルアミン、ラウリンアミン、アニリン
等の有機アミン化合物、トリメチルクロロ７ラン、テト
ラメトキシシラン、トリメトキシンラン、メチルジクロ
ロシラン及ヒコレラノ加水分解縮合物としてのオルガノ
シロキサン等の有機ケイ素化合物、エチレン、プロピレ
ン、アセチレン、塩化ビニル、アクリル酸、シクロヘキ
サノール。ナフタリン等の有機不飽和化合物、テトラメ
チルシクロジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザ
ン、オクタメチルシクロテトラシラザン等のシラザン化
合物等でこれらのガス単独又は複合、又は他のガス（キ
ャリアーガス、例えばＡｒ、Ｎ２．Ｎ２，０２等）との
混合ガス中でグロー放電を行い、その励起モノマーから
誘導される重合膜を用いるのである。

本発明は上記した構成により、プラズマ重合膜が多孔質
の硬質酸化膜と機械的に強固に組み合わされると共に、
プラズマ重合膜のもつ連続性で、腐食性ガスの侵入率を
小さくし、保存特性と耐久性の改善がなされる。又プラ
ズマ重合膜は薄いので硬質膜の多孔性も残るので潤滑剤
の保持性は殆んど変らないし、スペーシング損失増加も
なくＣ／Ｎも維持できることになる。以下、更に具体的
な実施例について比較例との対比で説明する。

実施例−１のテープ４の構成で、硬質膜と潤滑剤の間に
プラズマ重合膜を配した以外は同一のテープを試作した
。プラズマ重合膜の出発物質のモ厚１０人）、エタノー
ルアミンを用いたものを３０（膜厚１８人）、アミノア
セタールヲ用いたものｆ　３　Ｄ　（膜厚３人）、アリ
ルトリエトキシシランを用いたものを３Ｅ（膜厚１１人
）、ビニ）ｖメチルジクロロシランを用いたものを５Ｆ
（ｆｌ厚１６人）、フタル酸を用いたものをｓＧ（膜厚
２ＯＡ）へキサメチルジシラザンを用いたものを３Ｈ（
膜厚４人）として試作した。

又実施例−１のテープ８の構成で、硬質膜と潤滑剤の間
に、プラズマ重合膜を配した群も試作した。モ／　−’
；’−カストシて、ヘキサメチルシクロトリシラザンを
用いたものを３Ｉ（膜厚１３人）。

ＣＦ３Ｎｏを用いたものを３１（膜厚７人）カプロンア
ミドを用いたものを３Ｋ（膜Ｊ７５人）として試作した
。

更に実施例−２のテープ五４の構成で同じく、プラズマ
重合膜を配した群を試作した。プラズマ重合に用いたモ
ノマーガスで、Ｃ２Ｆ６を用いたものを３Ｌ（膜厚１１
人）、ジェタノールアミンを用いたものを３Ｍ（膜厚４
人）、トリメチルメトキンシランを用いたものをｓＮ（
膜厚１８人）として試作し、実施例−２のテープＡ８の
構成で、七ツマーガスとして、Ｃ２Ｈ２Ｆ２を用いたも
のを３０（膜厚９人）、エチレンイミンを用いたもの３
Ｐ（Ｉｌｉｆｉ１ｓ人）、テトラメチルンクロジンラザ
ンを用いたものを３０（膜厚３人）として試作した。

夫々のテープを実施例−１で述べたと同様の評価に加え
て保存後のメチル特性を比較した。メチル時間は、出力
が３ｄＢ低下する時間で示した。

メチルを測定した環境は２０℃Ｔｏ％ＲＨである。

結果を第３表にまとめて示した。（メチルは夫々３回測
定し最小時間で示した。） 第３表より明らかなように本発明の構成のものは型持（
Ｃ／Ｎ　）　、耐久性がバランスとれている上、更にプ
ラズマ重合膜の作用で、保存後の耐久性も向上している
ことがわかる。

〔実施例−４〕 本発明の課題を解決する別の手段は、これまでのべた潤
滑剤に樹脂粒子を分散させることである。

樹脂粒子を分散させた潤滑剤は、多孔質の硬質膜を薄く
することができＣ／Ｎを改善できるのと、樹脂粒子がク
ツションになって働くので、硬質膜に欠陥があってもそ
こをきっかけにして破損することが殆んどないため、よ
りスチル耐久性の信頼度が改善できるものである。潤滑
剤中に分散させることのできる樹脂粒子は、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリアクリル酸エヌテル、ポリウレタン、ポリイ
ソプレン、アクリロ・ニトリル・ブタジェン共重合体、
スチレン・ブタジェン共重合体、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリメチルメタクリレート。

ポリアクリロニトリル、ポリサルフオン、ポリアミドイ
ミド、ポリイミド等の球状のものが好ましい。粒子径は
５ｏ八へ３００人で平均的な分散密度は０．０６〜１０
ケ／（μｍ）が好ましい。

以下、更に具体的な実施例について説明する。

厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に高さ８０人のミミズ状隆起層を配し、その上に実施例
−１，実施例−２の蒸Ｒを行い、潤滑剤を配する前まで
の加工を、実施例−１，２゜３群より選んだ条件で行っ
たものを準備し、樹脂粒子を分散させた潤滑剤を配し、
バックコート層を配し、夫々８ミリテープとした。テー
プの構成要件と、８ミリデツキを用い（ＥＶ−Ａａｏｏ
ソニー（製））たスチル特性を第４表に示した。スチル
特性は出力が３（ｄＢ）低下するまでの時間で、測定は
１０回行い、平均値を最短、最長時間で整理した。測定
環境は３°Ｃ８％ＲＨである。

第４表より明らかなように、樹脂粒子をｌ閏滑剤分赦さ
せることで、スチル耐久性は安定することがわかる。

実施例−１，実施例−２について代表例をテープ１４．
１５で示したが、メチル耐久性がやや劣るのと、バラツ
キも大きくなる。しかしそのレベルは市販のビデオマシ
ンはメチル解除が６〜１０分の範囲で動作するので実用
上全く問題にはならない。従って、ここでのべた本発明
の実施は、業務用途や１／２　インチ系のインタフェー
ス条件の厳しい系で特徴が生かせるものと考えられるも
のでちる。

ちなみにＣ／Ｎの低下は測定誤差内で殆んどみらルない
ことから本発明の有価値性は大きい。

尚Ｃ／Ｎはテープ１４で、第１表−８のテープより更に
０．６高いが、これは、ベースフィルム上に突起を配し
たものと、ミミズ状隆起層を配したものの差で、その分
スチル持性が実用水準にはあるが低目となっているので
ある。

樹脂粒子は、ミミズ状隆起層の間の谷の部分に落ちてコ
ロとして作用するので、良好なＣ／Ｎが得られているの
である。

〔実施例−５〕 課題を解決する別の手段は、強磁性金属薄膜上に、不連
続のＡ７．Ｐｂ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ。

Ｒｈ、Ｉｒより選ばれた１柿の薄膜を配してから、多孔
質硬質膜を配するようにしたものである。本発明の磁気
記録媒体はこの様な構成にょシ、多孔質硬質膜にかかる
応力で弱点部が欠落する現象を防止し、より耐久信頼性
をあげることができるものである。本発明は高分子フィ
ルム」ユに微粒子塗布層を配したものでもよいが、超平
滑フィルムの上に強磁性金属薄膜を配したものでも、上
記した不連続薄１摸の形成する凹凸により、多孔質硬質
膜にも凹凸ができ、それにより耐久性を確保できるので
、Ｃ／Ｎをより高めることが可能である。

上記した構成では多孔質硬質膜突起にかかる応力がＡｔ
他の材料のもつ物性の原子レベルでのスベリ性の良さで
吸収されることで応力集中による膜破壊がなく耐久性が
よくなるのである。第３図は本発明の一実施例の拡大断
面図である。第３図で１１は高分子フィルムでポリエチ
レンテレフタレートをはじめ、実施例−１でのべたいず
れのフィルムでもよいが、フィラーを含まない超平滑フ
ィルムが好ましい。或いは１００Å以下、更に好ましく
は６０Å以下のミミズ状等の凹凸があってもよいし、Ｃ
／Ｎに余裕があればこれまでのべたものと同じような微
粒子塗布層を配したものでもよいし、フィラーを添加し
た高分子フィルムであってもよいのは当然である。１２
は強磁性金属薄膜で、表面酸化層が多孔質であるものは
部分酸化膜の時はより望ましいものである。１３は、Ａ
ｔ。

Ｐｂ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ　よ
り選ばれた１種の不連続膜で、スパッタ法、イオンブレ
ーティング法、電子ビーム蒸着法のいずれかの方法で形
成したものが付着強度と不連続性の保てる厚みが小さく
できることから望ましい。１４は多孔質硬質膜で、１６
は潤滑剤である。既にのべたように、１４と１５の間に
極めて薄いプラズマ重合膜を配したシ、潤滑剤に樹脂粒
子を分散させることはこれまでのべたと同じような改善
が本構成に於いてももたらされるのは勿論である。

以下更に最も高いＣ／Ｎが得られる系で、どの程度の耐
久性が得られるかを比較例との対比で具体的に説明する
。

厚み１０μｍでフィラーを含まないポリエチレンテレフ
タレートフィルム（最大粗さ４０Ａ）上に、直径１ｍの
円筒キャンに沿わせて、実施例−２でのべた条件範囲内
で、最小入射角６６度で、表面酸化層厚が６０入で多孔
質塵が２４　（ｖｏｔ％）ノ部分酸化Ｃｏ−ＮＬ（Ｃｏ
：　８０ｗｔ％）膜を１０００人ずつ、２層にして２０
００へのＣｏ−ＮＬ−０膜を配し、その上にスパッタリ
ング法で、Ａｌ他の不連続膜を形成した。（不連続性は
、膜の被ふぐ率で示した。）その上に、ヌープ硬度２６
００（Ｋ９／ｍｊ　）　、多孔質塵ｓ　３　（ｖｏｔ％
　）（Ｄ硬質Ｒ素膜５ｏ入を配し、更に化ツマーガスと
して０４Ｆ８を用いたプラズマ重合膜を６人配し、７オ
ングリンＺ−２５を２．８（岬／ゴ）配し、バックコー
ト層０．４μｍを配して８ミリテープとした。

夫々のテープの条件と、８ミリビデオで評価した結果を
第５表に示した。スチル特性は、第４表に示したのと同
じ条件での比較である。第６表でＣ／Ｈのリファレンス
テープは第４表のテープ１６である。

く第５表〉 第６表より、スチル特性は、第４表で得られているもの
に比べると劣るが、実用水準にあるのと、バラツキがな
い。Ｃ／Ｎは２（ｄＢ）以上良いことから、Ｃ／Ｎが必
要な時には本構成の媒体は好ましい。上表より、Ａｌ、
　Ａｑ等のスベリ特性だけでは改良ができないのはテー
プ３，６，１４．１５の比較よりはつきシしていて、不
連続膜のもつ形状効果は極めて重要である。

発明の効果 以上のべたように、本発明によれば、耐久性を維持しな
からＣ／Ｎを改善でき、その効果は短波長記録になる程
顕著となるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図は本発明の実施例の磁気記録媒
体の拡大断面図である。 １，１１・・・・・・高分子フィルム、２，１２・・・
・・・強磁性金属薄膜、３，９，１４・・・・・・多孔
質硬質膜、４．１０．１５・・・・・・潤滑剤、６・・
・・・・柱状微粒子、７・・・・・・多孔質酸化膜。 代理人の氏名　弁理士　粟　野　重　孝　ほか１名ｉ−
−ル６％）アイ１１ム ２−Ｊ！硝＋’ＩｔＡ簿躾 Ｃ−・社林丼社） ７−−−オ′ＦＬ）咋１シ瞥ｆと片饗

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）強磁性金属薄膜上に多孔質の硬質膜を配し潤滑剤
   を配したことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）強磁性金属薄膜の表面酸化層が多孔質であること
   を特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. （３）多孔質の硬質膜上にプラズマ重合膜を介して潤滑
   剤を配したことを特徴とする請求項１または２記載の磁
   気記録媒体。
4. （４）潤滑剤が樹脂粒子を分散させたものであることを
   特徴とする請求項１、２または３記載の磁気記録媒体。
5. （５）強磁性金属薄膜上に不連続のＡｌ、Ｐｂ、Ｃｕ、
   Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒより選ばれた１種
   の薄膜を配したことを特徴とする請求項１、２、３また
   は４記載の磁気記録媒体。