JPH02273315A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH02273315A JPH02273315A JP9454389A JP9454389A JPH02273315A JP H02273315 A JPH02273315 A JP H02273315A JP 9454389 A JP9454389 A JP 9454389A JP 9454389 A JP9454389 A JP 9454389A JP H02273315 A JPH02273315 A JP H02273315A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、薄膜型磁気記録媒体を用いたフレキシブル磁
気ディスクに関する。
気ディスクに関する。
(従来の技術)
近年、フレキシブル磁気ディスク装置、オーディオ用磁
気テープ装置、VTR用磁気テープ装置等、各種の磁気
記録装置の小型化、高密度化が進められている。磁気記
録における高密度化は主として磁気記録媒体の磁性層の
高保磁力化と薄層化とによって実現されている。従来使
用されている媒体は、磁性体微粒子を高分子バインダ中
に分散させたものをベースフィルム上に塗布した、いわ
ゆる塗布型磁気記録媒体である。
気テープ装置、VTR用磁気テープ装置等、各種の磁気
記録装置の小型化、高密度化が進められている。磁気記
録における高密度化は主として磁気記録媒体の磁性層の
高保磁力化と薄層化とによって実現されている。従来使
用されている媒体は、磁性体微粒子を高分子バインダ中
に分散させたものをベースフィルム上に塗布した、いわ
ゆる塗布型磁気記録媒体である。
最近これらの記憶密度を1〜2桁はど向上できる垂直磁
気記録方式が注目されている。ここに用いられる記録媒
体としてスパッタまたは蒸着などによって形成されるC
oCr合金薄膜の単層媒体及びCoCr合膜/NiFe
軟磁性膜の2層媒体が主に開発されている。これらの高
密度磁気記録用の薄膜型磁気媒体をフレキシブル磁気デ
ィスク、磁気テープ等として実用化するためには機械的
耐久性、特にパスウェア耐久性を保証する必要がある。
気記録方式が注目されている。ここに用いられる記録媒
体としてスパッタまたは蒸着などによって形成されるC
oCr合金薄膜の単層媒体及びCoCr合膜/NiFe
軟磁性膜の2層媒体が主に開発されている。これらの高
密度磁気記録用の薄膜型磁気媒体をフレキシブル磁気デ
ィスク、磁気テープ等として実用化するためには機械的
耐久性、特にパスウェア耐久性を保証する必要がある。
(発明が解決しようとする課題)
垂直記録フレキシブル磁気ティスフにはCoCr合金薄
膜が広く用いられているが、最近フレキシブル磁気ディ
スク装置(FDD)の大容量化のために従来の片面型の
FDDがらディスクの両面を用いる両面型のFDDの検
問がなされている。片面型FDDのヘッドでは、球面ヘ
ッドと柔らかいパッドを対で用いているが、両面型FD
Dでは2つのフラットで硬質なスライダーからなるヘッ
ドで媒体を挟んで使用している。そのため両面型FDD
では、ヘッド摺動時に硬いスライダー同士が振動によっ
て衝突したりゴミや摩擦粉の混入によって、媒体にスク
ラッチなどが発生ずることがH測され、パスウェア耐久
性は片面型FDDを用いたときと較べて著しく低かった
。
膜が広く用いられているが、最近フレキシブル磁気ディ
スク装置(FDD)の大容量化のために従来の片面型の
FDDがらディスクの両面を用いる両面型のFDDの検
問がなされている。片面型FDDのヘッドでは、球面ヘ
ッドと柔らかいパッドを対で用いているが、両面型FD
Dでは2つのフラットで硬質なスライダーからなるヘッ
ドで媒体を挟んで使用している。そのため両面型FDD
では、ヘッド摺動時に硬いスライダー同士が振動によっ
て衝突したりゴミや摩擦粉の混入によって、媒体にスク
ラッチなどが発生ずることがH測され、パスウェア耐久
性は片面型FDDを用いたときと較べて著しく低かった
。
本発明は、パスウェア耐久性のよい磁気記録媒体を提供
することを目的とする。
することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明の磁気記録体は、第1図に示すように基体上に薄
膜記録媒体が形成され、該薄膜記録媒体上に保護膜が形
成される。上述の課題を解決するための手段の特徴を以
下に示す。
膜記録媒体が形成され、該薄膜記録媒体上に保護膜が形
成される。上述の課題を解決するための手段の特徴を以
下に示す。
(1)薄膜記録媒体のヤング率が1.4X 104Kg
/m、m2より大きいことを特徴とする。
/m、m2より大きいことを特徴とする。
(2)基板上に形成された薄膜記録媒体がCoCrTa
合金、またはCoCrTa合金にTi、Ni、Zr、N
b、Hf、○、Hの中の1つもしくは2つ以上の元素を
含有していることを特徴とする。
合金、またはCoCrTa合金にTi、Ni、Zr、N
b、Hf、○、Hの中の1つもしくは2つ以上の元素を
含有していることを特徴とする。
保護膜としては、ダイヤモンド状カーボン、グラファイ
ト状カーボン、SLもしくはシリコン酸化膜、シリコン
窒化膜などがある。
ト状カーボン、SLもしくはシリコン酸化膜、シリコン
窒化膜などがある。
なお、保護膜上には摩擦磨耗特性を向」ニさせるために
潤滑層を形成してもよい。潤滑層としては、液体潤滑剤
として側鎖パーフロロアルギルエーテル、パーフロロポ
リエーテルまたは極性終端分子を有するそれぞれの側鎖
及び直鎖パーフロロアルキルエーテル及びパーフロロポ
リエーテル、フッ素オイルなどがある。また、固体潤7
f:剤としてはフッ素系固体潤滑剤、硫化モリブデンな
どがある。塗布法としては、液体潤滑剤だけを、または
液体潤滑剤と固体潤溺剤を混合して適当な溶剤に溶解も
しくは分散させたものを保護膜−にに形成する浸漬法、
スプレー法、ローラコート法、たはスピンコード法等が
ある。
潤滑層を形成してもよい。潤滑層としては、液体潤滑剤
として側鎖パーフロロアルギルエーテル、パーフロロポ
リエーテルまたは極性終端分子を有するそれぞれの側鎖
及び直鎖パーフロロアルキルエーテル及びパーフロロポ
リエーテル、フッ素オイルなどがある。また、固体潤7
f:剤としてはフッ素系固体潤滑剤、硫化モリブデンな
どがある。塗布法としては、液体潤滑剤だけを、または
液体潤滑剤と固体潤溺剤を混合して適当な溶剤に溶解も
しくは分散させたものを保護膜−にに形成する浸漬法、
スプレー法、ローラコート法、たはスピンコード法等が
ある。
(作用)
基板上に形成した薄膜記録媒体のヤング率を1.4X
104Kg/mm2以上にし、さらに保護膜を形成する
ことにより、パスウェア耐久性の劣化の原因であったヘ
ッドスライダ−、ゴミや摩擦粉によるスクラッチに対す
る耐性が向上し、高パスウェア爵]久性が可能となる。
104Kg/mm2以上にし、さらに保護膜を形成する
ことにより、パスウェア耐久性の劣化の原因であったヘ
ッドスライダ−、ゴミや摩擦粉によるスクラッチに対す
る耐性が向上し、高パスウェア爵]久性が可能となる。
薄膜記録媒体の作製方法として、マグネトロンスパッタ
方式もしくは夕づ内式ターゲットスパッタ方式などを用
いて0.5mTorrがら6mTorrの範囲、もしく
はRFスパッタ方式を用いてスパッタ圧力が1mTor
rがら10mTorrの範囲でスパッタすることにより
膜のヤング率を劣化することなく機械的強度の良好な膜
が作製出来る。また、CoCr膜にTa元素を含有さぜ
、さらにTi、Ni、Zr、Nb、Hr、O,Hを含有
サセルコトニヨリヤンク率が増大する。
方式もしくは夕づ内式ターゲットスパッタ方式などを用
いて0.5mTorrがら6mTorrの範囲、もしく
はRFスパッタ方式を用いてスパッタ圧力が1mTor
rがら10mTorrの範囲でスパッタすることにより
膜のヤング率を劣化することなく機械的強度の良好な膜
が作製出来る。また、CoCr膜にTa元素を含有さぜ
、さらにTi、Ni、Zr、Nb、Hr、O,Hを含有
サセルコトニヨリヤンク率が増大する。
(実施例)
以下に実施例を示し、本発明の詳細な説明する。本実施
例では、パスウェア耐久性の評価には全て市販35イン
チ両面型FDD(回転数600rpm)を用いた。パス
ウェア耐久性は同一トランクで走行させ、再生出力が初
期出力の70%以下になるまでバス回数とした。
例では、パスウェア耐久性の評価には全て市販35イン
チ両面型FDD(回転数600rpm)を用いた。パス
ウェア耐久性は同一トランクで走行させ、再生出力が初
期出力の70%以下になるまでバス回数とした。
(実施例1〜5)
基体にはポリイミドフィルム(30μm厚)を用い、薄
膜記録媒体としてCoCrをターゲットとし、タゲノト
上にTaチップをのぜてRFマグネトロンスパッタによ
り3000A厚の膜を成膜した。RFマグネトロンスパ
ンタパワーは一定(3W/cm”)とした。
膜記録媒体としてCoCrをターゲットとし、タゲノト
上にTaチップをのぜてRFマグネトロンスパッタによ
り3000A厚の膜を成膜した。RFマグネトロンスパ
ンタパワーは一定(3W/cm”)とした。
比較例として同じターゲット及びTaチップを置かない
CoCrターゲットを用いてスパッタ圧力を変えて成膜
した例を示した。
CoCrターゲットを用いてスパッタ圧力を変えて成膜
した例を示した。
保護層は薄膜記録媒体作製後、マグネトロンスパッタ方
式によりカーボン保護膜をArカス雰囲気中で形成した
。また、保護膜」−にはフッ素系潤滑剤をスピンコード
により塗布した。
式によりカーボン保護膜をArカス雰囲気中で形成した
。また、保護膜」−にはフッ素系潤滑剤をスピンコード
により塗布した。
表1に本実施例の条件と評価結果を示す。膜組成は、表
に示した組成の残部のパーセントはCoであ(実施例6
〜14) 基体にはポリイミドフィルム(30pm厚)を用い、薄
膜記1ス媒体としてCoCrをターゲットとして、ター
ゲット上に添加元素チップをのぜてRFマグネトロンス
パッタにより3000A厚の膜を成膜した。また、酸素
O及び水素Hの添力[」については、Arガス中にそれ
ぞれ02.H2O及びH2を混ぜて膜を形成した。
に示した組成の残部のパーセントはCoであ(実施例6
〜14) 基体にはポリイミドフィルム(30pm厚)を用い、薄
膜記1ス媒体としてCoCrをターゲットとして、ター
ゲット上に添加元素チップをのぜてRFマグネトロンス
パッタにより3000A厚の膜を成膜した。また、酸素
O及び水素Hの添力[」については、Arガス中にそれ
ぞれ02.H2O及びH2を混ぜて膜を形成した。
RFマグネトロンスパッタパワーは一定(6W/cm2
)とした。
)とした。
保護層は薄膜記録媒体作製後、スパッタによりカーホン
、5i02、S1保護膜をArガス雰囲気中で形成した
。また、保護膜」二にはフッ素系潤滑剤をスピンコード
により塗布した。
、5i02、S1保護膜をArガス雰囲気中で形成した
。また、保護膜」二にはフッ素系潤滑剤をスピンコード
により塗布した。
以上の実施例ではRFマグネトロンスパッタ方式を用い
て成膜したが、ターゲットのプラズマ収束を狙った対向
式ターゲット方式またはSガンスパンタ方式でもよい。
て成膜したが、ターゲットのプラズマ収束を狙った対向
式ターゲット方式またはSガンスパンタ方式でもよい。
また、蒸着法でもよい。
(実施例15〜18)
基体にはポリイミドフィルム(3011m厚)を用い、
薄膜記録媒体としてCoCrをターゲットとし、ターゲ
ット上にTaチップをのせてRFスパッタにより300
0A厚の膜を成膜した。RFスパッタパワーは一定(1
,5W/cm2)とした。比較例として同じターゲット
を用いて成膜圧力変えて作製した例を示した。
薄膜記録媒体としてCoCrをターゲットとし、ターゲ
ット上にTaチップをのせてRFスパッタにより300
0A厚の膜を成膜した。RFスパッタパワーは一定(1
,5W/cm2)とした。比較例として同じターゲット
を用いて成膜圧力変えて作製した例を示した。
保護層は薄膜記録媒体作製後、RFスパッタ法によりカ
ーボン保護膜をArガス雰囲気中で形成した。また、保
護膜状には又ツ素系潤滑剤をスピンコードにより塗布し
た。
ーボン保護膜をArガス雰囲気中で形成した。また、保
護膜状には又ツ素系潤滑剤をスピンコードにより塗布し
た。
(発明の効果)
実施例1から18及び比較例1がら9に示されるように
、本発明により、薄膜記録媒体のヤング率を1.4X
104Kg/mm2以」二とすることで、パスウェア耐
久性を向上することができる。また、CoCr膜にTa
元素を含有さぜ、さらにTi、Ni、Zr、Nb、Hf
、O,Hを含有さぜることにより、さらに効果の高い膜
を得ることができる。
、本発明により、薄膜記録媒体のヤング率を1.4X
104Kg/mm2以」二とすることで、パスウェア耐
久性を向上することができる。また、CoCr膜にTa
元素を含有さぜ、さらにTi、Ni、Zr、Nb、Hf
、O,Hを含有さぜることにより、さらに効果の高い膜
を得ることができる。
第1図は本発明のフレギシブル磁気記録媒体の部分断面
図である。 1・・・基体、2・・・薄膜磁気媒体、3・・・保護膜
。
図である。 1・・・基体、2・・・薄膜磁気媒体、3・・・保護膜
。
Claims (2)
- (1)基体上に薄膜記録媒体が形成され、該薄膜記録媒
体上にさらに保護膜が形成された磁気記録媒体において
、薄膜記録媒体のヤング率が 1.4×10^4Kg/mm^2より大きいことを特徴
とする磁気記録媒体。 - (2)薄膜記録媒体がCoCrTa合金、またはCoC
rTa合金にTi、Ni、Zr、Nb、Hf、O、Hの
中の1つもしくは2つ以上の元素を含有していることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9454389A JPH02273315A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9454389A JPH02273315A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02273315A true JPH02273315A (ja) | 1990-11-07 |
Family
ID=14113230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9454389A Pending JPH02273315A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02273315A (ja) |
-
1989
- 1989-04-13 JP JP9454389A patent/JPH02273315A/ja active Pending
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