JP2600297B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP2600297B2 JP2600297B2 JP63155290A JP15529088A JP2600297B2 JP 2600297 B2 JP2600297 B2 JP 2600297B2 JP 63155290 A JP63155290 A JP 63155290A JP 15529088 A JP15529088 A JP 15529088A JP 2600297 B2 JP2600297 B2 JP 2600297B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- thin film
- film
- recording medium
- diamond
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に適した垂直磁気記録をは
じめとした強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録
媒体に関する。
じめとした強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録
媒体に関する。
従来の技術 近年の磁気記録の進歩は目覚しく、強磁性金属薄膜を
磁気記録層とする磁気記録媒体が実用化の気運にある。
磁気記録層とする磁気記録媒体が実用化の気運にある。
第２図は従来提案されている強磁性金属薄膜を磁気記
録層とする磁気記録媒体の一例の拡大断面図である。第
２図で１はポリエチレンテレフタレート，ポリフェニレ
ンサルファイド，ポリエーテルエーテルケトン等の高分
子フィルムで、微粒子塗布層，下塗り層等を必要に応じ
て配したものを用いてもよい。２はCo−Ni,Co−Cr,Co−
O,Co−Ti,Co−Ni−Ｏ等の強磁性金属薄膜で、３はプラ
ズマ重合膜,SiO2膜，等と脂肪酸，パーフルオロポリエ
ーテル等の潤滑剤を積層した保護層である。〔特開昭61
−224128号公報，特開昭61−139919号公報，特開昭61−
5426号公報等参照〕 第２図に示した磁気記録媒体で、最近特に改善が期待
されているものに、硬い保護膜を配して耐久性向上を図
る点で〔特開昭61−126627号公報，特開昭61−233412号
公報〕スペーシング損失との兼ね合いで膜厚は200Å程
度で、耐久性を確保しているのが現状である。
録層とする磁気記録媒体の一例の拡大断面図である。第
２図で１はポリエチレンテレフタレート，ポリフェニレ
ンサルファイド，ポリエーテルエーテルケトン等の高分
子フィルムで、微粒子塗布層，下塗り層等を必要に応じ
て配したものを用いてもよい。２はCo−Ni,Co−Cr,Co−
O,Co−Ti,Co−Ni−Ｏ等の強磁性金属薄膜で、３はプラ
ズマ重合膜,SiO2膜，等と脂肪酸，パーフルオロポリエ
ーテル等の潤滑剤を積層した保護層である。〔特開昭61
−224128号公報，特開昭61−139919号公報，特開昭61−
5426号公報等参照〕 第２図に示した磁気記録媒体で、最近特に改善が期待
されているものに、硬い保護膜を配して耐久性向上を図
る点で〔特開昭61−126627号公報，特開昭61−233412号
公報〕スペーシング損失との兼ね合いで膜厚は200Å程
度で、耐久性を確保しているのが現状である。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記した構成では、記録波長が0.5μ
ｍ以下になると、200Åの膜厚ではスペーシング損失が
大きすぎるのと、ドロップアウトやディジタル記録での
エラーレイトが場所により大きくなるといった課題があ
り、改善が望まれていた。本発明は上記した事情に鑑み
なされたもので、スペーシング損失を改善して耐久性を
低下させないで、ドロップアウトについても改善した磁
気記録媒体を提供するものである。
ｍ以下になると、200Åの膜厚ではスペーシング損失が
大きすぎるのと、ドロップアウトやディジタル記録での
エラーレイトが場所により大きくなるといった課題があ
り、改善が望まれていた。本発明は上記した事情に鑑み
なされたもので、スペーシング損失を改善して耐久性を
低下させないで、ドロップアウトについても改善した磁
気記録媒体を提供するものである。
課題を解決するための手段 上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体
は、強磁性金属薄膜上にダイアモンド状硬質炭素薄膜を
配したものにあって、前記ダイアモンド状硬質炭素薄膜
が窒素原子を５原子％から15原子％含むようにしたもの
である。
は、強磁性金属薄膜上にダイアモンド状硬質炭素薄膜を
配したものにあって、前記ダイアモンド状硬質炭素薄膜
が窒素原子を５原子％から15原子％含むようにしたもの
である。
作用 本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、硬さ
は殆んど変らないにもかかわらず、ダイアモンド状硬質
炭素薄膜の絶縁性が低下し、磁気ヘッドとの高速摺動や
走行系との摩擦で表面帯電してのノイズ発生や、異物付
着によるドロップアウト，エラー率の増大を防止できる
ので、耐久性を低下させずにドロップアウト性能に関す
る改善ができることになる。
は殆んど変らないにもかかわらず、ダイアモンド状硬質
炭素薄膜の絶縁性が低下し、磁気ヘッドとの高速摺動や
走行系との摩擦で表面帯電してのノイズ発生や、異物付
着によるドロップアウト，エラー率の増大を防止できる
ので、耐久性を低下させずにドロップアウト性能に関す
る改善ができることになる。
実施例 以下、図面を参照しながら本発明の磁気記録媒体の一
実施例について詳しく説明する。第１図は本発明の一実
施例の磁気記録媒体の拡大断面図である。第１図で、４
は、ポリアミド，ポリエーテルエーテルケトン，ポリエ
ーテルサルフオン，ポリエチレンナフタレート等の高分
子フィルムで、５はAl2O3,ZnO,TiO2,ポリエチレン球，
ポリイミド球等を配した微粒子塗布層で６は、Co−O,Co
−Os,Co−Ti,Co−Cr,Co−Mo,Co−Ru,Co−Ni,Co−Ni−P,
Co−Ni−O,Co−Cr−Nb,Co−Cr−Nd等の強磁性金属薄膜
で、電子ビーム蒸着法、高周波スパッタリング法、イオ
ンビームデポジション法、イオンプレーテイング法、等
により形成できるものである。７は窒素原子を５原子％
から15原子％含むダイアモンド状硬質炭素薄膜で、膜厚
は50Åから150Åの範囲で構成するのが好ましい。かか
る薄膜は、炭化水素とアンモニアガスの混合ガスのプラ
ズマを発生させ、これを加速照射する方法や、グラフマ
イトをターゲットにして、Ar＋NH3,Ar＋H2＋NH3,等の混
合ガスのプラズマを利用したスパッタリング等により形
成できるのであるが、５原子％より少ない窒素原子の含
有量では、絶縁性がまだ良好で、湿度が低い（30％RH以
下）条件下でドロップアウト増大や、スチル耐久の劣化
が起る確率が増大し、15原子％を越えると、硬さが低下
し、膜自体の耐久性が下がり、膜厚を大きくする必要が
あり、スペーシング損失が大きくなり高密度記録に適さ
なくなることから範囲が決ってくるものである。８はパ
ーフルオロカルボン酸，パーフルオロポリエーテル，有
機ケイ素化合物等の潤滑剤で溶液塗布法，真空蒸着法等
で形成するものである。上記した構成は、磁気ディス
ク，磁気テープのいずれの形態で用いてもよいものであ
る。
実施例について詳しく説明する。第１図は本発明の一実
施例の磁気記録媒体の拡大断面図である。第１図で、４
は、ポリアミド，ポリエーテルエーテルケトン，ポリエ
ーテルサルフオン，ポリエチレンナフタレート等の高分
子フィルムで、５はAl2O3,ZnO,TiO2,ポリエチレン球，
ポリイミド球等を配した微粒子塗布層で６は、Co−O,Co
−Os,Co−Ti,Co−Cr,Co−Mo,Co−Ru,Co−Ni,Co−Ni−P,
Co−Ni−O,Co−Cr−Nb,Co−Cr−Nd等の強磁性金属薄膜
で、電子ビーム蒸着法、高周波スパッタリング法、イオ
ンビームデポジション法、イオンプレーテイング法、等
により形成できるものである。７は窒素原子を５原子％
から15原子％含むダイアモンド状硬質炭素薄膜で、膜厚
は50Åから150Åの範囲で構成するのが好ましい。かか
る薄膜は、炭化水素とアンモニアガスの混合ガスのプラ
ズマを発生させ、これを加速照射する方法や、グラフマ
イトをターゲットにして、Ar＋NH3,Ar＋H2＋NH3,等の混
合ガスのプラズマを利用したスパッタリング等により形
成できるのであるが、５原子％より少ない窒素原子の含
有量では、絶縁性がまだ良好で、湿度が低い（30％RH以
下）条件下でドロップアウト増大や、スチル耐久の劣化
が起る確率が増大し、15原子％を越えると、硬さが低下
し、膜自体の耐久性が下がり、膜厚を大きくする必要が
あり、スペーシング損失が大きくなり高密度記録に適さ
なくなることから範囲が決ってくるものである。８はパ
ーフルオロカルボン酸，パーフルオロポリエーテル，有
機ケイ素化合物等の潤滑剤で溶液塗布法，真空蒸着法等
で形成するものである。上記した構成は、磁気ディス
ク，磁気テープのいずれの形態で用いてもよいものであ
る。
以下、更に具体的な実施例について比較例との対比で
説明する。
説明する。
厚み12μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に直径100ÅのSiO2微粒子を10ケ／（μｍ）２配しその
上に、直径1mの円筒キヤンに沿わせて、入射角90度から
40度の斜め蒸着を８×10-5（Torr）の酸素中でCo−Ni
（Co,80wt％）を0.15μｍ電子ビーム蒸着することで行
い、Co−Ni−Ｏ膜を形成した。上記したフィルムに異な
る条件でダイアモンド状硬質炭素薄膜を配しその上に真
空蒸着法でパーフルオロステアリン酸を55Å配し、８ミ
リ幅の磁気テープに加工した。それぞれの磁気テープ
を、改造した８ミリビデオにより評価した。改造は、輝
度信号の中心周波数を５（MHz）から７（MHz）にあげ、
広帯域仕様化したものである。
に直径100ÅのSiO2微粒子を10ケ／（μｍ）２配しその
上に、直径1mの円筒キヤンに沿わせて、入射角90度から
40度の斜め蒸着を８×10-5（Torr）の酸素中でCo−Ni
（Co,80wt％）を0.15μｍ電子ビーム蒸着することで行
い、Co−Ni−Ｏ膜を形成した。上記したフィルムに異な
る条件でダイアモンド状硬質炭素薄膜を配しその上に真
空蒸着法でパーフルオロステアリン酸を55Å配し、８ミ
リ幅の磁気テープに加工した。それぞれの磁気テープ
を、改造した８ミリビデオにより評価した。改造は、輝
度信号の中心周波数を５（MHz）から７（MHz）にあげ、
広帯域仕様化したものである。
ダイアモンド状硬質炭素薄膜はグラファイトをターゲ
ットにして、ArとNH3の組合わせで放電ガスを選んで、4
0（MHz）の高周波を用いて、高周波スパッタリングする
ことで形成し膜厚は120Å一定とした。
ットにして、ArとNH3の組合わせで放電ガスを選んで、4
0（MHz）の高周波を用いて、高周波スパッタリングする
ことで形成し膜厚は120Å一定とした。
評価法は、40℃10％RHでのスチルを画像で目視評価
し、ノイズが目立つまでの時間で比較し、ドロップアウ
トは、平均値と最大値で比較し、１分間当りの３（μse
c），−10（dB）のドロップアウト個数で示した。磁気
テープの条件と評価結果を表にまとめて示した。
し、ノイズが目立つまでの時間で比較し、ドロップアウ
トは、平均値と最大値で比較し、１分間当りの３（μse
c），−10（dB）のドロップアウト個数で示した。磁気
テープの条件と評価結果を表にまとめて示した。
発明の効果 以上のように本発明によれば、耐久性もドロップアウ
ト性能も良好な磁気記録媒体が得られるといったすぐれ
た効果がある。
ト性能も良好な磁気記録媒体が得られるといったすぐれ
た効果がある。
第１図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の拡大断面
図、第２図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である。 ４……高分子フィルム、６……強磁性金属薄膜、７……
ダイアモンド状硬質炭素薄膜（窒素含有）。
図、第２図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である。 ４……高分子フィルム、６……強磁性金属薄膜、７……
ダイアモンド状硬質炭素薄膜（窒素含有）。
Claims (1)
- 【請求項１】強磁性金属薄膜上にダイアモンド状硬質炭
素薄膜を配したものにあって、前記ダイアモンド状硬質
炭素薄膜が窒素を５原子％から15原子％含むことを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155290A JP2600297B2 (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155290A JP2600297B2 (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01320622A JPH01320622A (ja) | 1989-12-26 |
| JP2600297B2 true JP2600297B2 (ja) | 1997-04-16 |
Family
ID=15602663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63155290A Expired - Lifetime JP2600297B2 (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2600297B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5637373A (en) | 1992-11-19 | 1997-06-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6805941B1 (en) | 1992-11-19 | 2004-10-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JPH08124149A (ja) * | 1994-10-25 | 1996-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US6086730A (en) * | 1999-04-22 | 2000-07-11 | Komag, Incorporated | Method of sputtering a carbon protective film on a magnetic disk with high sp3 content |
| US6565719B1 (en) * | 2000-06-27 | 2003-05-20 | Komag, Inc. | Magnetic disk comprising a first carbon overcoat having a high SP3 content and a second carbon overcoat having a low SP3 content |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6258417A (ja) * | 1985-09-07 | 1987-03-14 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6486312A (en) * | 1986-05-09 | 1989-03-31 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS6448221A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-22 | Showa Denko Kk | Magnetic disk and its production |
-
1988
- 1988-06-23 JP JP63155290A patent/JP2600297B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6258417A (ja) * | 1985-09-07 | 1987-03-14 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01320622A (ja) | 1989-12-26 |
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