JP2558753B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JP2558753B2
JP2558753B2 JP62283573A JP28357387A JP2558753B2 JP 2558753 B2 JP2558753 B2 JP 2558753B2 JP 62283573 A JP62283573 A JP 62283573A JP 28357387 A JP28357387 A JP 28357387A JP 2558753 B2 JP2558753 B2 JP 2558753B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を
磁気記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来の技術 垂直磁気記録は、本質的に記録減磁作用が小さく、短
波長、狭トラック化の進む画像記録等の高密度化に適
し、有望視され、各方面で検討,改良が続けられてい
る。かかる磁気記録の具現化には、Co−Cr,Co−Cr−Nb
等の垂直方向に磁化可能ないわゆる垂直磁化膜をもった
磁気記録媒体が必要で、ポリイミド等の高分子フィルム
上に、Ti,Ge等の下地を介するか或いは直接、高周波ス
パッタリング法や電子ビーム蒸着法によりCo−Cr膜を形
成することにより製造されるが、性能を確保するには、
注意深く、高分子フィルムの脱ガス処理を行ったり、高
分子フィルムの温度制御や、真空度管理等を行う必要が
あるものの、それらを管理すれば、ある程度の量は再現
性良く製造できるところまで進展してきている〔例え
ば、応用磁気セミナ、垂直磁気記録方式、昭和60年12
月.参照〕。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら従来のCo−Cr,Co−Cr−Nb等の高周波ス
パッタリング法や電子ビーム蒸着法により形成された垂
直磁化膜は、短波長での出力は大きくとれるが、雑音も
大きく、望まれるC/N特性が得られていないことから改
善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、C/Nの
良好な高密度磁気記録媒体を提供するものである。
問題点を解決するための手段 上記した問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体
は、Co系合金垂直磁化膜のパッキングファクタが0.75以
下とし、保護膜に硬質炭素薄膜が配するようにしたもの
である。
作用 本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、Co系
合金からなる柱状微粒子間に間げきが生じるので、磁気
的な分離が良好となり雑音が改良され、保護膜の硬質炭
素薄膜が、柱状微粒子間の間げきに投びょうされるよう
になり、付着強度が増すことから膜厚を薄くできるので
スペーシング損失を改善することができ出力が大きくと
れるためC/Nの大幅改善がはかれることになる。
実施例 以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について
詳しく説明する。図は本発明の一実施例の磁気記録媒体
の拡大断面図で、図で1はポリエチレンテレフタレー
ト,ポリフェニレンサルファイド,ポリアミドイミド,
ポリイミド,ポリエーテルサルフォン等の高分子フィル
ムで、必要ならば、Al2O3,CaO等の50Åから300Åの微粒
子を1〜100ケ/(μm)の密度で配したものを用い
てもよい。2はCo−Cr,Co−Ta,Co−Mo,Co−W,Co−Cr−T
a,Co−Cr−Nb等のCo系合金垂直磁化膜で、パッキングフ
ァクタが0.75以下となるような柱状微粒子の群から成っ
ている。パッキングファクタは、材料(合金垂直磁化
膜)自体の密度で、実際の膜の密度を割った値で定義さ
れるもので、0.75から0.5の範囲が好ましく、0.75より
大きいと後述するように硬質炭素薄膜の投びょう効果が
弱まり、厚くする必要が生じ、スペーシング損失につな
がるのと、0.5以下では、磁束量が不足し出力が低くな
りすぎることから好ましい範囲が決っている。3は硬質
炭素薄膜で、メタンガス等の炭化水素ガスのプラズマを
利用したり、グラファイトをターゲットにしてH2を含む
放電ガスによるグロー放電を用いたスパッタリング等で
形成されるもので、必要ならば、更に潤滑剤を配しても
よい。上記した硬質炭素薄膜は、柱状微粒子間のすき間
に入り込む投びょう効果により、耐久性を確保するのに
必要な膜厚は、従来より薄くできるので、短波長でのス
ペーシング損失を小さくおさえることができる。
以下、更に具体的に本発明の一実施例について比較例
との対比で説明する。厚み10μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に、溶液塗布法で直径100ÅのEu2O3
微粒子を15ケ/(μm)で配し、その上にパッキング
ファクタ0.7のCo−Cr垂直磁化膜を0.13μm形成した。
パッキングファクタをコントロールするのに、フィルム
温度をコントロールし、かつ真空度をコントロールする
方法を用いた。Crを20.5wt%含むターゲットを用い、Ar
+H2=0.07(Torr)A:H2=1:2、フィルム温度を−60℃
とし13.56(MHz),1300(W)でスパッタリングしたこ
とで0.7のパッキングを得た。
一方比較例は、Ar:5×10-3(Torr)でCo−Cr(Cr20.5
wt%)をターゲットとし、フィルム温度120℃13.56(MH
z),1450(W)でスパッタリングし、パッキングファク
タ0.82の垂直磁化膜0.13μmを形成した。夫々のCo−Cr
垂直磁化膜の上に、グラファイトをターゲットにし、Ar
+H2=4×10-2(Torr)(Ar:H2=1:3)で、13.56(MH
z)1800(W)でスパッタリングすることで硬質炭素膜
を実施例は70Å、比較例は130Å形成し、更に夫々、真
空蒸着法で潤滑剤層とし50Åのパーフルオロアラキン酸
を蒸着してから8ミリ幅の磁気テープを製造した。これ
らのテープを8ミリビデオを改造し、ギャップ長0.15μ
mのアモルファス合金スパッタ膜とフェライトの複合型
リングヘッドにより、ビット長0.23μm、トラック幅7
μmの記録密度で記録再生しC/Nを比較した。実施例
は、比較例に対し、初期のC/Nは3.7(dB)良好であっ
た。又40℃80%RH、30℃10%RH、5℃80%RHでの走行を
200回くり返した時のC/Nの変化は実施例も比較例も1
(dB)以内で良好であった。
発明の効果 以上のように本発明によれば、C/Nの良好な高密度垂
直磁気記録媒体が得られるといったすぐれた効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の拡大断面図
である。 1……高分子フィルム、2……垂直磁化膜(パッキング
ファクタ0.75以下)、3……硬質炭素薄膜。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】Co系合金垂直磁化膜のパッキングファクタ
    が0.75以下で、保護膜に硬質炭素薄膜が配されたことを
    特徴とする磁気記録媒体。
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