JPS63275041A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体の製造方法に関するものである。

従来の技術 近年、磁気記録の高密度化の進歩は著しいものがあり、
磁気ヘッド、磁気記録媒体の組み合わせに新しい技術開
発を必要とするに至っている。即ち、記録単位が小さく
なるにつれて、磁束量が減少することから、磁束微分形
の記録再生の実用水準のＯ／Ｈを保持するのに高い磁束
密度をもった材料の活用が不可欠となってきている〔特
公昭５８−９１号公報、特開昭６１−１３９９１９号公
報等参照〕。

かかる磁気記録媒体は、回転支持体で冷却しながらポリ
エステルフィルム、ポリイミドフィルム等の高分子フィ
ルム上に電子ビーム蒸着法、イオンブレーティング法、
スパッタリング法等で強磁性金属薄膜を形成することに
よって得られるものである〔特公昭６１−４７２２１号
公報、特開昭５７−２１０４５２号公報、特開昭６０−
５９５３４号公報、特開昭６１−２４０４３７号公報等
参照ｌ磁気記録媒体のうち、磁気テープの製造は電子ビ
ーム蒸着法１．磁気ディスクの製造はスパッタ法が中心
に検討されている。またスパッタリング法としては、Ｒ
Ｆマグネトロン放電、ＤＣマグネトロン放電、対向ター
ゲット型等の応用が検討されている〔例えば特開昭６１
−２５３６３６〜２５３６３８号公報参照〕。

第２図は、スパッタリング法を応用した場合の磁気記録
媒体製造装置の要部構成図である。第２図において、１
は高分子フィルム、２は回転支持体、３は巻出し軸、４
は巻取り軸、６は強磁性合金ターゲット、６は磁界発生
器、７は真空槽、８は真空排気系、９はフリーローラー
である。

かかる装置を用いて、磁気ディスクは、スパッタ蒸着後
、保護潤滑層を形成し、打抜き加工して得ることができ
、磁気テープは、スリット加工して得られる。いずれも
、垂直磁化膜でない時は。

高密度記録再生を実現するために大きな保磁力が必要で
、クローム（Ｏｒ）、チタン（Ｔｉ）等の下地層を配す
ることが行われている〔例えばアイイーイーイー　トラ
ンザクションズ　オン　マグネテ４　クス（Ｘ　ＲＮＫ
　　ＴＲＡＮＳＡＣτｌ０ＮＳ　ＯＮＭＡＧＮＲＴＩＣ
５）Ｖｏｌ、１Ｊ４Ｇ−２２、Ｎｏ−５゜Ｐ、Ｐ、５６
６〜５７８（１９８６）参照〕。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記従来の方法では、０ｒ−ｐＴｉの剛
性が大きく、完成テープでは、磁気ヘッドと良好な接触
が保てず、その結果、０７Ｈが短波長になると低下し、
ドロップアウト増加やＰＯＭエラー率の悪化が起るため
改善が望まれていた。

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、優れたＣ／Ｎ
、！：、エラー率、ドロップアウト等の欠陥の少ない磁
気記録媒体の製造方法を提供することを目的とするもの
である。

問題点を解決するだめの手段 上記目的を達成するため１本発明の磁気記録媒体の製造
方法は、移動する高分子フィルム上に強磁性金属をスパ
ッタ蒸着する際、移動方向に異方性を有する複数の凹面
部を設けたターゲットを用いるものである。

作用 上記製造方法により、ターゲットのもつ複数の凹面部の
異方性によシ高分子フィルムの移動方向に強い異方性が
生じるため、高分子フィルム上にＴｉやＯｒを介さなく
ても大きな保磁力が得られ、強磁性金属薄膜の緻密さも
改善されるので、磁気ヘッドとの接触が安定化し、　Ｃ
／Ｎ　、エラー率が良好なものとなる。

実施例 以下１図面を参照しながら１本発明の一実施例について
説明する。第１図ムは本発明を実施するために用いたス
パッタ蒸着装置の要部構成図である。

第１図−ムにおいて、１０はポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニン／サルフ
ァイド、ポリサルフォノ。ポリアミドイミド、ポリイミ
ド等の高分子フィルムである。

１１は回転支持体、１２は巻出し軸、１３は巻取り軸、
１４はターゲット、１６は磁界発生器、１６は真空槽、
１７は真空排気系％１８はフリーローラーである。

第１図Ｂはターゲットの平面図で、１９は強磁性金属（
例えばＣｏ−０ｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｇｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−ム
Ｕ。

Ｃｏ−Ｔｉ　、Ｃｏ−Ｍｏ　、ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｒ　、Ｇ
ｏ−Ｎｉ−Ｎ　ｂ等）のターゲット、２ｏはフィルム移
動方向に異方性をもった凹部で、深さ、形状、密度は加
工条件を勘案して適宜選択すればよい。

以下更に具体的に比較例との対比で実施例について説明
する。第１図で直径６０３の円筒キャン（キャン温度、
２６°Ｃ）に沿わせて厚み１０μ鳳のポリエチレンテレ
フタレートフィルムヲ移動すせながら％Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ
ｒ（Ｃｏ：Ｎｉ：Ｐｒ＝７ａ　：２１：１Ｗｔチ）を０
．１３μｍスパッタ蒸着した。

比較例のテープムは、厚さ２．５　ｆｌの平坦な従来用
いられてるターゲットを用い、　１ｓ、ｅｓｅ（Ｍ４−
ｔｚ）　　。

３．３　（ＫＷ　）の高周波を用い、磁界発生器表面で
の磁界強度１（ｌｃＯｅ）として、ムｒ＋ｏ２＝ａｘ１
ｏ−’（Ｔｏｒｒ）・（ムｒ：２，４Ｘ１０−’（ＴＯ
ｒｒ）、０バ０．６ｘ１ｏ−’（Ｔｏｒｒ））　　でマ
グネトロングロー放電により形成し、本実施例のテープ
Ｂは、厚さ２．６Ｈの同じ材料のＣｏ−ＨＡ−Ｐｒター
ゲットに、深さ１鰭、１ｆｌＸ７ｆｉの異方性を有する
凹部を３（／ｄ）配したものを用いた。

いずれもパー７０ロベヘン酸を６０人真空蒸着し、８ミ
リ幅の磁気テープとして、市販の８ミリビデオ（ＶＸ−
ｇｏｌ、机下電器製〕を改造して、Ｃ／Ｎ　比較と、Ｐ
ＣＩエラー率の比較を行った。

テープムに対しテープＢはＯ／Ｈで４．９　（ｄＢ　）
良好で、エラー率は、テープムが初期に５Ｘ１０’。

４０”０８０％ＲＨＯ条件下で２ｏｏ回走行後が２．１
×１０　　であったのに対して、テープＢは初ｇＪ］９
Ｘ１０−６，４０°Ｃ８０％ＲＨの条件下で２００回走
行後でも１，４Ｘ１０　　’と良好であった。

発明の効果 本発明によれば、ターゲットとして高分子フィルムの移
動方向に長径の異方性を有する凹面部を備えたものを用
いることとしたために、ターゲットのもつ異方性によっ
て高分子フィルム上の強磁性金属薄膜に異方性が生じ、
保持力が向上し、優れたＣ／Ｎ　　と良好なエラー率の
磁気記録媒体を製造できるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図ムは本発明の実施に用いたスパッタ蒸着装置の要
部構成図、第１図Ｂは第１図ムのターゲットの平面図、
第２図は従来のスパッタ蒸着装置の要部構成図である。 １ｏ・・・・・・高分子フィルム、１１・・・・・・回
転支持体、１４．１９・・・・・・ターゲラ）、２０・
・・・・・凹部。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名ｎ−
凹　韻

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 移動する高分子フィルムに強磁性金属薄膜をスパッタ蒸
   着する際、移動方向に長径の異方性を有する複数の凹面
   部を配したターゲットを用いることを特徴とする磁気記
   録媒体の製造方法。