JPS62236138A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする高密度磁気
記録に適する磁気記録媒体の製造方法に関する。

従来の技術 強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体は、通
常、金属或いは合金等を電子ビーム蒸着法等によって高
分子フィルム上に蒸着して作られ、高密度記録に適した
特性を有するが、反面磁気ヘッドとの摩擦力が大きく、
長時間のスチル特性や、高温高湿環境での発錆等につい
ていくつかの難点を有している。

このため、従来から強磁性金属薄膜上に種々の保護層を
設けることで耐久性、耐食性の改善が行なわれておシ、
近年、プラズマ重合保護膜単独、或いは該保護膜上に潤
滑剤を配することが提案されている。

例えばフッ素系有機化合物のプラズマ重合膜〔特開昭５
８−８８２８号公報、特開昭６８−１０２３３０号公報
〕あるいは、ケイ素系有機化合物のプラズマ１合膜〔特
開昭５７−８２２２９号公報、特開昭６８−６０４２７
号公報〕、密度１．４以上で厚さ２０〜２７０人のプラ
ズマ重合膜を配したもの〔特開昭５９−１５４６４１号
公報〕等が挙げられる。

発明が解決しようとする問題点 ところがこの従来の方法によって得られる有機化合物の
プラズマ重合膜は、合金系材料を構成材料に用いた磁気
ヘッドとの高速摺接での耐久性について充分でないため
、高密度磁気記録の実用信頼性が充分得られないという
難点があった。

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、耐久性の良好
なプラズマ重合膜を高速で形成できる方法を提供するも
のである。

問題点を解決するだめの手段 上記した問題点を解決するため、本発明の磁気記録媒体
の製造方法は、強磁性金属薄膜上に低融点金属を蒸着し
たのち、七ツマーガスを導入しながらグロー放電処理す
るものである。

作　　用 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、プラズマ重合膜に金属が含有されるため、耐久性が
改良されるのと、プラズマ重合を高速化する方が、蒸着
された低融点金属がプラズマ重合膜の表面側に多く含ま
れるようになるため、高速成膜を行う方が耐久性が改良
されることになるのである。

実施例 以下、図面を参照しながら、本発明の実施例について詳
しく説明する。第１図は本発明の磁気記録媒体の製造方
法を実施するのに用いた蒸着装置の要部構成図で、第２
図は本発明の方法により得られた磁気記録媒体のメチル
特性を示す特性線図である。

第１図に於て、１は高分子フィルム２は送り出し軸、３
は巻取り軸、４は第１の円筒キャン、５は第２の円筒キ
ャン、６は第１の電子ビーム蒸発源、７は第２の電子ビ
ーム蒸発源、８は第１の蒸気流、９は第２の蒸気流、１
ｏは放電電極、１１はマグネットプレート、１２はガー
ド電極、１３は高周波電源、１４はモノマーガス導入ポ
ート、１６は制御パルプ、１６は真空容器、１７は隔壁
、１８はマスク、１９は第１の真空排気系、２ｏは第２
の真空排気系、２１はガイドローラである。

第１図の装置で、高分子フィルム１として厚み１０μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを用いて、先ず
限定された入射角の第１の蒸気流８で強磁性金属薄膜か
ら成る磁気記録層を形成し、その上に第２の蒸気流９で
Ｚｎを蒸着し、次に、モノマーガスとしてテトラフルオ
ロエチレンを導入しながら１３．５６ＭＨｚの高周波グ
ロー放電処理を施した。

強磁性金属はＣｏ−Ｎｉ　（Ｎｉ　：　２０ｗｔ％）を
用い、１ｘ　１ｏ−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中で入射角９
０度から４６度の蒸気流で０．１５μｍ、保磁力１２０
０（Ｏｅ）。

残留磁束密度４０５０　（Ｇ　）の磁気記録層を形成し
、その上にＺｎを実効厚みが３０人となるように蒸発速
度を制限し、入射角範囲４ｏｏ〜６００で蒸着し、グロ
ー放電は２．２ＫＷで、グロー放電電極はＡＪで、Ａ１
表面の磁界強度は最大で９６（Ｏｅ）に選び、実施した
。フィルムの移動速度は６０　ｍ／ｍ　ｉ　ｎで、円筒
キャン、４，６０表面温度は夫々４０’Ｃ，７５℃とし
た。

これをテープ化して、ギヤ・ツブ近傍にアモルファス金
属をスパッタして構成したギャップ長０．３μｍのリン
グ型磁気ヘッドを用いてスチル特性を測定した。

環境条件として４０°Ｃ８０％ＲＨを選び、テープ幅は
８閣で、張力は２５．９とした。

その特性は第２図に示した。又第２図でＢ、Ｃは夫々、
第１図の装置で、連続してグロー放電処理せずに、巻き
直して、高周波電力２．７ＫＷ。

３．２ＫＷを投入しフィルム速度を８５　ｍ／ｍ　ｉ　
ｎ１０２ｍ／ｍｉｎにて処理したもので、高速化の処理
によっても満足な結果が得られているのに比して、比較
例は、Ａの条件でＺｎを付着させなかったものであるが
、スチル特性は不充分な結果に終っている。

本発明の実施例を適用出来る磁気記録媒体としては、磁
気テープの他に磁気ディスク、磁気シートが挙げられる
。

高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレートの他に
、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリカーボネート、
ポリエチレンナフタレート、セルローストリアセテート
等が適する。

強磁性金属薄膜はＣｏＣｒ、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃ
。

−Ｗ’、　Ｃｏ−Ｍｏ　、　Ｃｏ　−Ｆ　ｅ　、　Ｃｏ
　−Ｍｇ　−０、Ｃｏ　−Ｖ　−Ｃｒ　。

Ｃｏ−Ｗ−Ｔｉ等でもよく、電子ビーム蒸着法、スパッ
タリング法、イオンブレーティング法等で形成すること
ができ、低融点金属としてはＺｎの他にＰｂ、Ｓｏ、Ａ
１等が良く、付着させる量としては実効厚みが６０Å以
上になると、かえってプラズマ重合膜の付着性が悪化す
ることがあるので、１６人〜６０人が適当といえる。

導入するモノマーガスとしては特に限定はなく、ＣＦ４
，０２Ｆ６．ＣＦ３Ｎｏ、Ｃ２Ｈ３Ｆ等の弗素含有化合
物、メチルアミン、トリーｎ−プロピルアミン。

ジェタノールアミン等の有機アミン化合物、トリメチル
メトキシシラン、クエニルトリメトキシシラン、メチル
ジクロロシラン等の有機けい素化合物、シクロヘキサノ
ール、フタル酸等の有機不飽和化合物等が挙げられる。

またモノマーガスと組み合わせるキャリアガスに対して
、工夫をする点や、プラズマ重合時に紫外線を照射する
等は適宜組み合わせることができるのは当然である。

発明の効果 以上のように本発明によれば、耐久性の良好なプラズマ
重合膜を高速で形成することができ、磁気記録媒体の生
産性を向上することができるといったすぐれた効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施するのに用いた蒸着装置の要部構
成図、第２図は本発明の実施により得た磁気記録媒体の
特性線図の一例である。 １・・・・・・高分子フィルム、４・・・・・・第１の
円筒キャン、６・・・・・・第２の円筒キャン、６・・
・・・・第１の電子ビーム蒸発源、７・・・・・・第２
の電子ビーム蒸発源、１０・・・・・・グロー放電電極
、１４・・・・・・モノマーガス導入ポート。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名７・
−千２両ダ （０−−−プロー枕電ｔ！＆ ｔ４−−−ｃ）１−刀′又専入不′本 第２ｒＩ！Ｊ ステル吟開ｆ分］

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 強磁性金属薄膜上に低融点金属を蒸着したのち、モノマ
   ーガスを導入しながらグロー放電処理することを特徴と
   する磁気記録媒体の製造方法。