JPH01211235A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH01211235A JPH01211235A JP3427788A JP3427788A JPH01211235A JP H01211235 A JPH01211235 A JP H01211235A JP 3427788 A JP3427788 A JP 3427788A JP 3427788 A JP3427788 A JP 3427788A JP H01211235 A JPH01211235 A JP H01211235A
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- magnetic recording
- recording medium
- high density
- film
- corona discharge
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- Pending
Links
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は耐久性に優れた強磁性金属薄膜を磁気記録層と
した磁気記録媒体の製造方法に関する。
した磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気記録層と
する磁気記録媒体は、移動する高分子フィルム上に電子
ビーム蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリン
グ法等により、Ｇｏ−Ｎｉ。
する磁気記録媒体は、移動する高分子フィルム上に電子
ビーム蒸着法、イオンブレーティング法、スパッタリン
グ法等により、Ｇｏ−Ｎｉ。
Ｃｏ−０ｒ等を薄膜化して形成し、潤滑剤を溶液塗布法
、真空蒸着法等によシ配してから所定の寸法形状に加工
して得られるものである（特開昭５３゛−４２０１０号
公報、特公昭４１−１９３８９号公報、特開昭６１−１
２０３３１号公報）。
、真空蒸着法等によシ配してから所定の寸法形状に加工
して得られるものである（特開昭５３゛−４２０１０号
公報、特公昭４１−１９３８９号公報、特開昭６１−１
２０３３１号公報）。
発明が解決しようとする課題
しかしながら１部分酸化したＧｏ−Ｎｉ斜め蒸着膜は優
れた高密度磁気記録特性を有する〔電子通信学会磁気記
録研究会資料ＭＲ８１−２（１９８１） ）ものの、最
近の合金系の複合材を用いて高保磁力テープの記録再生
を行う磁気ヘッドとのヘッド相性が必ずしも十分ではな
く改善が望まれていた。
れた高密度磁気記録特性を有する〔電子通信学会磁気記
録研究会資料ＭＲ８１−２（１９８１） ）ものの、最
近の合金系の複合材を用いて高保磁力テープの記録再生
を行う磁気ヘッドとのヘッド相性が必ずしも十分ではな
く改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので。
合金系磁気ヘッドとのヘッド相性の改゛善された磁気記
録媒体の製造方法を提供するものである。
録媒体の製造方法を提供するものである。
課題を解決するだめの手段
本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記した問題点を解
決するため１部分酸化した強磁性金属薄膜を水素を含む
ガス雰囲気でコロナ放電処理直後。
決するため１部分酸化した強磁性金属薄膜を水素を含む
ガス雰囲気でコロナ放電処理直後。
湿式法にて潤滑剤を塗布するようにしたものである。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記した構成によ９
１強磁性金属薄膜の表面に水酸基ができ。
１強磁性金属薄膜の表面に水酸基ができ。
潤滑剤と強固に反応するようになシ、合金系の磁気ヘッ
ドとの摺動でも耐えるようになる。しかも水酸基の形成
から殆んど時間を経ずに潤滑剤が配されるので、均一性
も極めて良好で６Ｄ、弱点部から破壊されることがなく
なることも耐久性の改善につながることになる。
ドとの摺動でも耐えるようになる。しかも水酸基の形成
から殆んど時間を経ずに潤滑剤が配されるので、均一性
も極めて良好で６Ｄ、弱点部から破壊されることがなく
なることも耐久性の改善につながることになる。
実施例
以下１図面を参照しながら１本発明の一実施例の磁気記
録媒体の製造方法について詳しく説明す・る。第１図は
、本発明の製造方法により得られる磁気記録媒体の拡大
断面図である。第１図で１はポリエチレンテレフタレー
トフィルム、ホリフエニレンサルフフイドフィルム、ポ
リイミドフィルム等の高分子フィルム２は、Ａｌｌ？２
０５ 、 ＣａＣＯ３。
録媒体の製造方法について詳しく説明す・る。第１図は
、本発明の製造方法により得られる磁気記録媒体の拡大
断面図である。第１図で１はポリエチレンテレフタレー
トフィルム、ホリフエニレンサルフフイドフィルム、ポ
リイミドフィルム等の高分子フィルム２は、Ａｌｌ？２
０５ 、 ＣａＣＯ３。
Ｂ＆ＣＯｓ 、ＢｉｚＯｓ 、ＴｉＯ２，５ｉ０２等の
微粒子を塗布した微粒子塗布層で、３はＣｏ−Ｍｉ、
Ｇｏ−Ｃｒ。
微粒子を塗布した微粒子塗布層で、３はＣｏ−Ｍｉ、
Ｇｏ−Ｃｒ。
Ｇｏ −Ｂ 、 Ｇｏ−３ｍ 、 Ｇｏ −０、Ｇｏ−
Ｎｉ−０゜ＣＯ−Ｃｒ −Ｎ ｂ等の強磁性金属薄膜か
ら成る磁気記録層で４はＢＮ膜ダイアモンド状硬質炭素
陵。
Ｎｉ−０゜ＣＯ−Ｃｒ −Ｎ ｂ等の強磁性金属薄膜か
ら成る磁気記録層で４はＢＮ膜ダイアモンド状硬質炭素
陵。
プラズマ重合膜、ステアリン酸、カプリン酸メチル、パ
ーフルオロアラギン酸等の保護、潤滑剤層である。第２
図は１本発明の製造方法を実施するのに用いた製造装置
の概略説明図である。
ーフルオロアラギン酸等の保護、潤滑剤層である。第２
図は１本発明の製造方法を実施するのに用いた製造装置
の概略説明図である。
第２図で、６は処理基体で、６は巻出し軸、７は巻取υ
軸、８はコロナ放電電極、９は容器でＨ２ガヌムｒ＋Ｈ
２ガヌなどで置換するための配設である。１０は絶縁支
持体、１１は放電電源、１２は塗布ヘッド、１３は乾燥
炉である。
軸、８はコロナ放電電極、９は容器でＨ２ガヌムｒ＋Ｈ
２ガヌなどで置換するための配設である。１０は絶縁支
持体、１１は放電電源、１２は塗布ヘッド、１３は乾燥
炉である。
以下更に具体的に比較例との対比で詳しく説明する。厚
み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
、直径１００へのＴｉＯ２を １０ケ／（μｍ）配した
後、直径１１１１の円筒キャンに沿わせて、５ Ｘｌ
０ （Ｔｏｒｖ）の酸素中で最小入射角４６度の条件
でＣｏ−Ｎｉ （Ｎｉ ２０ｗｔ％）を電子ビーム蒸着
し、部分酸化したＧｏ−Ｎｉ膜を０．１μｍ形成して処
理基体を準備した。この処理基体を、４０ ｍ／ｗｉｎ
で巻取シながら、ワイヤー電極を用い、コロナ放電処理
を行った。１４５０（Ｈｚ）。
み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
、直径１００へのＴｉＯ２を １０ケ／（μｍ）配した
後、直径１１１１の円筒キャンに沿わせて、５ Ｘｌ
０ （Ｔｏｒｖ）の酸素中で最小入射角４６度の条件
でＣｏ−Ｎｉ （Ｎｉ ２０ｗｔ％）を電子ビーム蒸着
し、部分酸化したＧｏ−Ｎｉ膜を０．１μｍ形成して処
理基体を準備した。この処理基体を、４０ ｍ／ｗｉｎ
で巻取シながら、ワイヤー電極を用い、コロナ放電処理
を行った。１４５０（Ｈｚ）。
４２０ （ｖ）、３９０（Ｗ）で処理雰囲気は、人ｒ−
１−Ｈ２の１：１の混合ガスを１．５（１／ｍｉｎ流し
十分置換した状態で構成したものを用いた。
１−Ｈ２の１：１の混合ガスを１．５（１／ｍｉｎ流し
十分置換した状態で構成したものを用いた。
なお比較例は大気雰囲気中で行った。コロナ処理後約１
秒後にデコポン社製のパーフルオロカルボン酸ＫＲＹ
ＴＯＸ １５７ ＦＳ’−Ｍをトリクロロトリフロロエ
チレンに１ ｏｏｏｐｐｒＮ＠カシ、 キスコータで乾
燥後均一膜厚換算で６０入となる条件で塗布し、乾燥を
行い、８ミリ幅の磁気テープを製造した。両者の磁気テ
ープを、ギャップ長０．２３μｍの積層型アモルファス
ヘッドと、メタルインギャップ型のアモルファスヘッド
とを用いて、キャリア周波数をｓ （ＭＨｚ）から７
（Ｍ）Ｉｚ ）にあげた改造８ミリビデオにより、輝度
信号の出力を比較検討した。
秒後にデコポン社製のパーフルオロカルボン酸ＫＲＹ
ＴＯＸ １５７ ＦＳ’−Ｍをトリクロロトリフロロエ
チレンに１ ｏｏｏｐｐｒＮ＠カシ、 キスコータで乾
燥後均一膜厚換算で６０入となる条件で塗布し、乾燥を
行い、８ミリ幅の磁気テープを製造した。両者の磁気テ
ープを、ギャップ長０．２３μｍの積層型アモルファス
ヘッドと、メタルインギャップ型のアモルファスヘッド
とを用いて、キャリア周波数をｓ （ＭＨｚ）から７
（Ｍ）Ｉｚ ）にあげた改造８ミリビデオにより、輝度
信号の出力を比較検討した。
実施例により得られた磁気テープは１両ヘッドに対し、
４０℃８０％ＲＨ，ｓ℃８０％ＲＨ、２０°Ｃ１６％Ｒ
Ｈ，−ｓ°Ｃ１の４つの条件でくり返えし再生した時、
１００回目の再生出力は初期の１（ｄＢ）以内であった
が、比較テープは、４０’０８０％ＲＨで６Ｑ回目で−
２，６（ｄＢ）、 ６℃８０％ＲＨでば５゜回目チー２
．７ （ｄＢ） 、 ２０’Ｃ１６％ＲＨでは３７回目
で−２，９（ｄＢ）、 −５”Ｃでは５１回目で−２
，９’（ｄＢ）と出力低下が大きく、本発明の有価値性
がよくわかる。
４０℃８０％ＲＨ，ｓ℃８０％ＲＨ、２０°Ｃ１６％Ｒ
Ｈ，−ｓ°Ｃ１の４つの条件でくり返えし再生した時、
１００回目の再生出力は初期の１（ｄＢ）以内であった
が、比較テープは、４０’０８０％ＲＨで６Ｑ回目で−
２，６（ｄＢ）、 ６℃８０％ＲＨでば５゜回目チー２
．７ （ｄＢ） 、 ２０’Ｃ１６％ＲＨでは３７回目
で−２，９（ｄＢ）、 −５”Ｃでは５１回目で−２
，９’（ｄＢ）と出力低下が大きく、本発明の有価値性
がよくわかる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、高密度磁気記録に適した
合金系磁気ヘッドとの相性のよい、高密度磁気記録媒体
が得られるといったすぐれた効果がある。
合金系磁気ヘッドとの相性のよい、高密度磁気記録媒体
が得られるといったすぐれた効果がある。
第１図は本発明の一実施例によシ製造される磁気記録媒
体の拡大断面図、第２図は本発明の製造方法を実施する
のに用いた製造装置の概略説明図である。 １・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・微粒子
塗布層、３・・・・・・部分酸化強磁性金属薄膜、５・
・・・・・処理基体。 ８・・・・・・コロナ電極、１２・・・・・・塗布ヘッ
ド。
体の拡大断面図、第２図は本発明の製造方法を実施する
のに用いた製造装置の概略説明図である。 １・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・微粒子
塗布層、３・・・・・・部分酸化強磁性金属薄膜、５・
・・・・・処理基体。 ８・・・・・・コロナ電極、１２・・・・・・塗布ヘッ
ド。
Claims (1)
- 部分酸化した強磁性金属薄膜を水素を含むガス雰囲気で
コロナ放電処理直後、湿式法にて潤滑剤を塗布すること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3427788A JPH01211235A (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3427788A JPH01211235A (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01211235A true JPH01211235A (ja) | 1989-08-24 |
Family
ID=12409668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3427788A Pending JPH01211235A (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01211235A (ja) |
-
1988
- 1988-02-17 JP JP3427788A patent/JPH01211235A/ja active Pending
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