JPH01211237A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01211237A JPH01211237A JP63034276A JP3427688A JPH01211237A JP H01211237 A JPH01211237 A JP H01211237A JP 63034276 A JP63034276 A JP 63034276A JP 3427688 A JP3427688 A JP 3427688A JP H01211237 A JPH01211237 A JP H01211237A
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- JP
- Japan
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- magnetic recording
- film
- discharge
- present
- recording media
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
現在最高の記録密度を得ている、磁気記録層表面との回
転磁気ヘッドとの直接摺動け、今後の高密度化を担う強
磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体にとって
、耐久性の確保を重要な課題として位置づけさせること
になっている。この課題解決の主流は、保護潤滑層によ
シ、直接磁気記録層表面を摺動に用いないようにするこ
とで、炭化水素系化合物を用いて炭素を主成分とする皮
嘆を設けたり（特開昭５３−１４３２０６号公報）、ダ
イアモンド構造をもつカーボン膜を設ける（特開昭５９
−１２７２３２号公報）ことや、ＣＦ４ガスと炭化水素
系化合物のグロー放電によシアモルフアスカ−ボン膜を
配したり（特開昭６２−２７９５２１号公報）、アモル
ファスカーボン膜とフロロカーボン系の潤滑剤層を積層
したもの（特開昭６１−１４２６２５号公報）、プラズ
マ重合膜と宵機物蒸着膜の積層（特開昭６１−１５１８
３７号公報）、パーフルオロアルキルカルボン空蒸着膜
（特開昭６１−２２０１１６号公報）等が試みられてい
る。
転磁気ヘッドとの直接摺動け、今後の高密度化を担う強
磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体にとって
、耐久性の確保を重要な課題として位置づけさせること
になっている。この課題解決の主流は、保護潤滑層によ
シ、直接磁気記録層表面を摺動に用いないようにするこ
とで、炭化水素系化合物を用いて炭素を主成分とする皮
嘆を設けたり（特開昭５３−１４３２０６号公報）、ダ
イアモンド構造をもつカーボン膜を設ける（特開昭５９
−１２７２３２号公報）ことや、ＣＦ４ガスと炭化水素
系化合物のグロー放電によシアモルフアスカ−ボン膜を
配したり（特開昭６２−２７９５２１号公報）、アモル
ファスカーボン膜とフロロカーボン系の潤滑剤層を積層
したもの（特開昭６１−１４２６２５号公報）、プラズ
マ重合膜と宵機物蒸着膜の積層（特開昭６１−１５１８
３７号公報）、パーフルオロアルキルカルボン空蒸着膜
（特開昭６１−２２０１１６号公報）等が試みられてい
る。
一方、磁気記録層に微細な突起を配する方法（特開昭５
９−２．０７４２２号公報，同６９ー２２３９３２号公
報，同６０−６９８１６号公報）は上記した保護潤滑層
と組み合わせることで著しい耐久性向上をはかることが
でき有望視されている。
９−２．０７４２２号公報，同６９ー２２３９３２号公
報，同６０−６９８１６号公報）は上記した保護潤滑層
と組み合わせることで著しい耐久性向上をはかることが
でき有望視されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、従来提案されている微粒子塗布層上に強
磁性金属薄膜を配したものは、短波長になると、変調ノ
イズが増加し、耐久性確保のだめの保護層によるスペー
シング損失とでＣ／Ｎが低下するため改善が望まれてい
た。
磁性金属薄膜を配したものは、短波長になると、変調ノ
イズが増加し、耐久性確保のだめの保護層によるスペー
シング損失とでＣ／Ｎが低下するため改善が望まれてい
た。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、Ｃ／Ｎと
耐久性の優れた磁気記録媒体を提供するものである。
耐久性の優れた磁気記録媒体を提供するものである。
課題を解決するだめの手段
上記の課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、高分子フィルムの表面をコロナとアークの混
在する条件での放電処理を行った後、溶液塗布法で微粒
子を塗布した上で強磁性金属薄膜を形成するようにした
ものである。
造方法は、高分子フィルムの表面をコロナとアークの混
在する条件での放電処理を行った後、溶液塗布法で微粒
子を塗布した上で強磁性金属薄膜を形成するようにした
ものである。
作 用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
シ、コロナ処理された面とアーク放電処理された面に溶
液塗布された微粒子は、局部的に塗れ性が異なるだめ分
散が異なるように配列されるので、強磁性金属薄膜自身
の耐久性が改善されると同時に磁気ヘッドとの相性が微
細な研摩性の変化によシ改善されるので、保護層を薄く
しても耐久性が確保でき、従って、Ｃ／Ｎの低下も最小
とすることができる。
シ、コロナ処理された面とアーク放電処理された面に溶
液塗布された微粒子は、局部的に塗れ性が異なるだめ分
散が異なるように配列されるので、強磁性金属薄膜自身
の耐久性が改善されると同時に磁気ヘッドとの相性が微
細な研摩性の変化によシ改善されるので、保護層を薄く
しても耐久性が確保でき、従って、Ｃ／Ｎの低下も最小
とすることができる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について詳
しく説明する。第１図は本発明の製造方法によシ得られ
る磁気記録媒体の拡大断面図である。第１図に於て、１
はポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレ
ンサルファイドフィルム等の高分子フィルムで表面を後
述する放電処理を施こしてから配された微粒子塗布層２
は、Ａｌ２Ｏ３，Ｃａｂ、ＣａＣＯ３，Ｅｕ２Ｏ３，Ｈ
ｆＯ２，ＭｑＯ。
しく説明する。第１図は本発明の製造方法によシ得られ
る磁気記録媒体の拡大断面図である。第１図に於て、１
はポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレ
ンサルファイドフィルム等の高分子フィルムで表面を後
述する放電処理を施こしてから配された微粒子塗布層２
は、Ａｌ２Ｏ３，Ｃａｂ、ＣａＣＯ３，Ｅｕ２Ｏ３，Ｈ
ｆＯ２，ＭｑＯ。
Ｚｎ○、５１０２等の微粒子を溶液塗布法で高密度に分
散配置したものである。３はＣｏ−Ｎｉ 、 Ｃｏ−Ｃ
ｒ 。
散配置したものである。３はＣｏ−Ｎｉ 、 Ｃｏ−Ｃ
ｒ 。
Ｃｏ−Ｔ ｉ 、 Ｃｏ −０、Ｃｏ−Ｐ 、 Ｃｏ
−Ｎ ｉ−〇等の強磁性金属薄膜で、電子ビーム蒸着法
、イオンブレーティング法、高周波スパッタリング法等
によシ形成されるものである。４は保護潤滑層でＴ ｉ
Ｏ２。
−Ｎ ｉ−〇等の強磁性金属薄膜で、電子ビーム蒸着法
、イオンブレーティング法、高周波スパッタリング法等
によシ形成されるものである。４は保護潤滑層でＴ ｉ
Ｏ２。
５ｉｎ２．ＴｉＮ、ＭｏＳ２． プラズマ重合膜、炭
素膜等ト、脂肪酸、パーフルオロカルボン酸等を適宜組
み合わせたもので、蒸着法、スパッタリング法。
素膜等ト、脂肪酸、パーフルオロカルボン酸等を適宜組
み合わせたもので、蒸着法、スパッタリング法。
グロー放電堆積法、溶液塗布法等により形成されるもの
である。本発明は磁気テープ、磁気ディスクのいずれで
実施することもできる。
である。本発明は磁気テープ、磁気ディスクのいずれで
実施することもできる。
第２図は本発明の製造方法について説明するだめの、製
造装置の概略構成図である。第２図で５は、高分子フィ
ルムで、６は巻出し軸、７は巻取シ軸、８は放電電極、
９は放電容器、１ｏは絶縁支持体、１１は電源装置、１
２は塗布ヘッド、１３は乾燥炉である。第２図の装置で
本発明の製造方法を実施する重要部分について述べる。
造装置の概略構成図である。第２図で５は、高分子フィ
ルムで、６は巻出し軸、７は巻取シ軸、８は放電電極、
９は放電容器、１ｏは絶縁支持体、１１は電源装置、１
２は塗布ヘッド、１３は乾燥炉である。第２図の装置で
本発明の製造方法を実施する重要部分について述べる。
本発明は高分子フィルムをコロナ放電とアーク放電の混
在する放電処理することを第１の要件とするもので、電
極構成、印加電圧２周波数は適宜選択しうるものである
が、幅方向の長さと、放電時間の比率でアーク放電部分
は、全放電時間の１／１ｏから１ ／１００が好ましい
。この制御のために、アーク電極とコロナ電極を別個に
設けて制御するのが好ましいシアーク放電のためには、
針状電極をあるピッチで配し、高分子フィルムの移動方
向と直交する方向に往復運動させるのがよく、コロナ放
電は従来知られるタイプのいずれでもよい。
在する放電処理することを第１の要件とするもので、電
極構成、印加電圧２周波数は適宜選択しうるものである
が、幅方向の長さと、放電時間の比率でアーク放電部分
は、全放電時間の１／１ｏから１ ／１００が好ましい
。この制御のために、アーク電極とコロナ電極を別個に
設けて制御するのが好ましいシアーク放電のためには、
針状電極をあるピッチで配し、高分子フィルムの移動方
向と直交する方向に往復運動させるのがよく、コロナ放
電は従来知られるタイプのいずれでもよい。
第２の要件は、かかる放電処理を行ってから、０．３秒
から３秒以内に、溶液塗布法で、微粒子をコーティング
するもので、コーティング法は、低粘度溶液の均一塗布
に適した方法を適宜選択すればよい。
から３秒以内に、溶液塗布法で、微粒子をコーティング
するもので、コーティング法は、低粘度溶液の均一塗布
に適した方法を適宜選択すればよい。
以下、更に具体例について比較例との対比で詳しく説明
する。
する。
厚み１０μｍ９幅２６αのポリエチレンテレフタレート
フィルムを、５０ｍＡｉｎで移動しながら直径１αのワ
イヤー電極にて、３００１−（ｚ、４２０Ｖ、３５０（
Ｗ） でコロナ放電処理し、引き続き１０ＭＭピッチ
に先端が１００μｍの針状電極を配し、±６順の往復運
動を１５〜値で行いながら、８００Ｈｚ 、 ５５ ｏ
ｖ 、 ２９０ （’Ｗ〕１７）７−り放電を発生させ
処理し、この放電処理部から１．５ｍのの位置で、キス
コータによシ、直径２００人のＳ １０２ 微粒子を平
均密度１０ケ／（μｍ） となるような条件でメチルエ
チルケトン 乾燥した。
フィルムを、５０ｍＡｉｎで移動しながら直径１αのワ
イヤー電極にて、３００１−（ｚ、４２０Ｖ、３５０（
Ｗ） でコロナ放電処理し、引き続き１０ＭＭピッチ
に先端が１００μｍの針状電極を配し、±６順の往復運
動を１５〜値で行いながら、８００Ｈｚ 、 ５５ ｏ
ｖ 、 ２９０ （’Ｗ〕１７）７−り放電を発生させ
処理し、この放電処理部から１．５ｍのの位置で、キス
コータによシ、直径２００人のＳ １０２ 微粒子を平
均密度１０ケ／（μｍ） となるような条件でメチルエ
チルケトン 乾燥した。
一方比較例はコロナ処理のみを行って塗布した。
両者の基板共、直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、６
ｘ １ ０ （Ｔｏｒｒ）の酸素中で、最小入射角４
５度まで、Ｃｏ−Ｎｉ（Ｎｉ２０ｗｔ％）を電子ビーム
蒸着し、０．１ μｍのＣｏ−Ｎｆ−０ 膜を形成し
、更にその上に高周波スパンタリング法で実施例は１０
０人のＢＮ膜を形成し、比較例は２００人のＢＮ膜を形
成し、両者共、真空蒸着法でパーフルオロオクタン酸を
５０人蒸着した後、８ミリ幅の磁気テープにして、比較
評価した。ギャップ長０、２５μｍの積層型アモルファ
スヘッドを用い、キャリア周波数を７ （ＭＨｚ ）と
して、Ｃ／Ｎを比較した。
ｘ １ ０ （Ｔｏｒｒ）の酸素中で、最小入射角４
５度まで、Ｃｏ−Ｎｉ（Ｎｉ２０ｗｔ％）を電子ビーム
蒸着し、０．１ μｍのＣｏ−Ｎｆ−０ 膜を形成し
、更にその上に高周波スパンタリング法で実施例は１０
０人のＢＮ膜を形成し、比較例は２００人のＢＮ膜を形
成し、両者共、真空蒸着法でパーフルオロオクタン酸を
５０人蒸着した後、８ミリ幅の磁気テープにして、比較
評価した。ギャップ長０、２５μｍの積層型アモルファ
スヘッドを用い、キャリア周波数を７ （ＭＨｚ ）と
して、Ｃ／Ｎを比較した。
実施例が４０℃８０％ＲＨ 、１ ００パス後、５’Ｃ
８ ２ ％ Ｒ Ｈ １ ０ ０ ハス後、２０℃１
５％ＲＨ１００パス後のいずれでも比較例よりＣ／Ｎが
良好で、夫々＋２．１（ｄＢ）、＋２．７（ｄＢ）、＋
３．６（、ｄＢ）と高密度記録特性に於て優れたもので
あった。同じ環境でのスチル特性には有意差はみられず
、本発明の有価値性は明らかである。
８ ２ ％ Ｒ Ｈ １ ０ ０ ハス後、２０℃１
５％ＲＨ１００パス後のいずれでも比較例よりＣ／Ｎが
良好で、夫々＋２．１（ｄＢ）、＋２．７（ｄＢ）、＋
３．６（、ｄＢ）と高密度記録特性に於て優れたもので
あった。同じ環境でのスチル特性には有意差はみられず
、本発明の有価値性は明らかである。
発明の効果
以上のように本発明によれば、高密度磁気記録に於て良
好なＣ／Ｎを与えることのできる磁気記録媒体かえられ
るといったすぐれた効果がある。
好なＣ／Ｎを与えることのできる磁気記録媒体かえられ
るといったすぐれた効果がある。
第１図は本発明の一実施例によって得られる磁気記録媒
体の拡大断面図、第２図は本発明の実施に用いた製造装
置の概略構成図である。 １、６・・・・・・高分子フィルム、３・・・・・・強
磁性金属薄膜、８・・・・・・放電電極、１２・・・・
・・塗布ヘッド。
体の拡大断面図、第２図は本発明の実施に用いた製造装
置の概略構成図である。 １、６・・・・・・高分子フィルム、３・・・・・・強
磁性金属薄膜、８・・・・・・放電電極、１２・・・・
・・塗布ヘッド。
Claims (1)
- 高分子フィルムの表面をコロナとアークの混在すする条
件での放電処理を行った後、溶液塗布法で微粒子を塗布
した上で強磁性金属薄膜を形成することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63034276A JPH01211237A (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63034276A JPH01211237A (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01211237A true JPH01211237A (ja) | 1989-08-24 |
Family
ID=12409640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63034276A Pending JPH01211237A (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01211237A (ja) |
-
1988
- 1988-02-17 JP JP63034276A patent/JPH01211237A/ja active Pending
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