JPH02116028A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH02116028A JPH02116028A JP26742288A JP26742288A JPH02116028A JP H02116028 A JPH02116028 A JP H02116028A JP 26742288 A JP26742288 A JP 26742288A JP 26742288 A JP26742288 A JP 26742288A JP H02116028 A JPH02116028 A JP H02116028A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- ions
- magnetic recording
- perpendicularly magnetized
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 abstract description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 2
- 229910020517 Co—Ti Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 8
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000321369 Cephalopholis fulva Species 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100128278 Mus musculus Lins1 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- ALBYIUDWACNRRB-UHFFFAOYSA-N hexanamide Chemical compound CCCCCC(N)=O ALBYIUDWACNRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する磁気記録媒体の製造方
法に関する。
法に関する。
従来の技術
近年、磁気記録の高密度化の進歩は著しいものがあり、
斜め蒸着膜を高分子フィルム上に配した、蒸着テープと
リング型磁気ヘッドとの組み合わせにより、４×１０８
ビット／（インチ）２の記録密度が達成できると予測
されるに至り、それ以上に高密度化するためには、膜面
に垂直な方向に磁化可能な、いわゆる垂直磁気記録媒体
と高能率磁気ヘッドとの組み合わせでの最適化に期待が
集まっている。〔例えば、外国論文誌 Ｉ ＥＥＥＴＲ
ＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣ３Ｖｏ
ｌ。
斜め蒸着膜を高分子フィルム上に配した、蒸着テープと
リング型磁気ヘッドとの組み合わせにより、４×１０８
ビット／（インチ）２の記録密度が達成できると予測
されるに至り、それ以上に高密度化するためには、膜面
に垂直な方向に磁化可能な、いわゆる垂直磁気記録媒体
と高能率磁気ヘッドとの組み合わせでの最適化に期待が
集まっている。〔例えば、外国論文誌 Ｉ ＥＥＥＴＲ
ＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣ３Ｖｏ
ｌ。
ＭＡＧ−２１、＆−３、ｐ、ｐ、１２１７〜１２２０
（１ｓａｓ）参照〕。最近では既存のインターフェー
スが利用できるＣｏ−Ｃｒ−Ｎ１）等の単層膜による高
密度化がはかられる〔特開昭６１−７７１２８号公報〕
等の改善が進んでいる。
（１ｓａｓ）参照〕。最近では既存のインターフェー
スが利用できるＣｏ−Ｃｒ−Ｎ１）等の単層膜による高
密度化がはかられる〔特開昭６１−７７１２８号公報〕
等の改善が進んでいる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、垂直磁気記録をテープ状で実施するには
、電子ビーム蒸着法でポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム上に
直接、高性能な垂直磁化膜を形成できるようにする必要
があるが、現状では高温での製膜を必要としていること
から改善が望まれていた。
、電子ビーム蒸着法でポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム上に
直接、高性能な垂直磁化膜を形成できるようにする必要
があるが、現状では高温での製膜を必要としていること
から改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、ポリエス
テルフィルム上に高速で、高性能な垂直磁化膜を形成す
る方法を提供するものである。
テルフィルム上に高速で、高性能な垂直磁化膜を形成す
る方法を提供するものである。
課題を解決するための手段
上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、高分子フィルム表面をＨＣイオン又はＨＮ
イオンで表面処理した後、垂直磁化膜を電子ビーム蒸着
するようにしたものである。
製造方法は、高分子フィルム表面をＨＣイオン又はＨＮ
イオンで表面処理した後、垂直磁化膜を電子ビーム蒸着
するようにしたものである。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、高分子フィルム表面が洗浄されることと、活性化さ
れ、結晶成長の初期に生ずる配向の乱れを少くして、磁
気記録特性を改善できるようになる。
り、高分子フィルム表面が洗浄されることと、活性化さ
れ、結晶成長の初期に生ずる配向の乱れを少くして、磁
気記録特性を改善できるようになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。図は本発明によって製造される磁気記録媒体の拡
大断面図である。図で１はポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレンナフタレート等のボリエヌテルが好まし
く、他にボリフエニレンサルフフイド、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリアミド、ポリイミド等の高分子フィ
ルムでもよく、必要に応じて微粒子塗布層やミミズ状の
下塗り層を配したものを用いてもよい。２はＨＣイオン
又は）ＩＮイオン処理層で、ＨＣイオン又はＨＮイオン
はＨＣ，ＨＮＩ含む化合物であるエチレン、プロピレン
、アセチレン、アリμアルコール、カプロンアミド、エ
チレンイミン等のグロー放電からイオンを分離し、３
ｋｅｖ〜２０ｋｅｖで加速照射して得られるもので、１
０５ｉｏｎｓ ／ｄ〜１０９ｔｏｎｓ／ｄの範囲で適宜
実施すればよい。３は電子ビーム蒸肩法により形成され
たＣｏ−０ｒ。
する。図は本発明によって製造される磁気記録媒体の拡
大断面図である。図で１はポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレンナフタレート等のボリエヌテルが好まし
く、他にボリフエニレンサルフフイド、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリアミド、ポリイミド等の高分子フィ
ルムでもよく、必要に応じて微粒子塗布層やミミズ状の
下塗り層を配したものを用いてもよい。２はＨＣイオン
又は）ＩＮイオン処理層で、ＨＣイオン又はＨＮイオン
はＨＣ，ＨＮＩ含む化合物であるエチレン、プロピレン
、アセチレン、アリμアルコール、カプロンアミド、エ
チレンイミン等のグロー放電からイオンを分離し、３
ｋｅｖ〜２０ｋｅｖで加速照射して得られるもので、１
０５ｉｏｎｓ ／ｄ〜１０９ｔｏｎｓ／ｄの範囲で適宜
実施すればよい。３は電子ビーム蒸肩法により形成され
たＣｏ−０ｒ。
Ｃｏ−Ｔｌ 、Ｃｏ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−０ｒ−
Ｎｂ等の垂直磁化膜で、０．１μｍ−０，３μｍの範囲
で、形成時の温度は２０“０〜１００°Ｃの範囲でよい
。４は保護潤滑剤層で、酸化膜、窒化膜、プフズマ重合
膜、カーボン＠専の保護膜と脂肪酸、脂肪酸アミド、変
性シリコーンオイｙ’ｓ５’ｂ素オイル等の潤滑剤の中
から一種又は複数種組み合わせて、構成したもので、ス
パッタリング法、反応蒸着法、プラズマＣＶＤ法、有機
蒸着法、溶液塗布法等により形成する。
Ｎｂ等の垂直磁化膜で、０．１μｍ−０，３μｍの範囲
で、形成時の温度は２０“０〜１００°Ｃの範囲でよい
。４は保護潤滑剤層で、酸化膜、窒化膜、プフズマ重合
膜、カーボン＠専の保護膜と脂肪酸、脂肪酸アミド、変
性シリコーンオイｙ’ｓ５’ｂ素オイル等の潤滑剤の中
から一種又は複数種組み合わせて、構成したもので、ス
パッタリング法、反応蒸着法、プラズマＣＶＤ法、有機
蒸着法、溶液塗布法等により形成する。
本発明は磁気ディスク、磁気テープのいずれで実施して
もよく、夫々加工法は上記以外の要素では特に限定を受
けるものではない。
もよく、夫々加工法は上記以外の要素では特に限定を受
けるものではない。
以下、更に本発明の実施例について比較例との対比で説
明する。
明する。
〔実施例−１〕
厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィ１にム
に７セチＶンを用い０．１ （Ｔｏｒｒ）、２０（ｋｌ
ｋ）。
に７セチＶンを用い０．１ （Ｔｏｒｒ）、２０（ｋｌ
ｋ）。
３６０（Ｗ）でグロー放電を起こし、引き出し電極と１
速電極に１ｅＫＶの電圧を印加して、ＨＣ“イオンｆ
１ｏ７ｔｏｎｓ ／ｄ注入したものｆＡ、 １０８ｉｏ
ｎｓ／ｃｊ注入したものｔ−Ｂとし、夫々に直径５Ｑｍ
の円筒キャン（表面温度６０″Ｇ）に沿わせて、入射角
±１６°以内でＣｏ−０ｒ−（Ｃｏ：８０ｗｔ％）垂直
磁化膜を電子ビーム蒸着により０．１４μｍ形成し、そ
の上にパーフルオロポリエーテμとして市販のモンテフ
μオヌ社製の１フォンプリンｚ−２６″を６＃／イ塗布
し８ミリテープとした。
速電極に１ｅＫＶの電圧を印加して、ＨＣ“イオンｆ
１ｏ７ｔｏｎｓ ／ｄ注入したものｆＡ、 １０８ｉｏ
ｎｓ／ｃｊ注入したものｔ−Ｂとし、夫々に直径５Ｑｍ
の円筒キャン（表面温度６０″Ｇ）に沿わせて、入射角
±１６°以内でＣｏ−０ｒ−（Ｃｏ：８０ｗｔ％）垂直
磁化膜を電子ビーム蒸着により０．１４μｍ形成し、そ
の上にパーフルオロポリエーテμとして市販のモンテフ
μオヌ社製の１フォンプリンｚ−２６″を６＃／イ塗布
し８ミリテープとした。
〔実施例−２〕
厚み９μｍのポリエチレンナフタレートフィルム上にフ
ウリｐアミンを用い、０．１（Ｔｏτ”Ｌ２００（ｋ）
ｈ）ｅ６５０（Ｗ） でグロー放ｉｃｅ起こｇ、ｅＫＶ
で加速し、分離して、ＨＮ＋イオンを１ｏ６１０ｎｓ／
ｃ４、注入したものをＡ 、 ５Ｘ１０８ｔｏｎｓ／ｄ
注入したものｉＢとし、夫々に直径５Ｑｃｍの円筒キャ
ン（表面温度８６°Ｃ）に沿わせて、入射角±１８度以
内でＣｏ−Ｃｘ （Ｃｏ ： ８０ｗｔ％）垂直磁化膜
を０．１６μｍ形成し、その上にパーフルオロポリエー
テルとして１フォンブリンＺ−２６”をｓｌｆ／ｄ塗布
し８ミリテープとした。
ウリｐアミンを用い、０．１（Ｔｏτ”Ｌ２００（ｋ）
ｈ）ｅ６５０（Ｗ） でグロー放ｉｃｅ起こｇ、ｅＫＶ
で加速し、分離して、ＨＮ＋イオンを１ｏ６１０ｎｓ／
ｃ４、注入したものをＡ 、 ５Ｘ１０８ｔｏｎｓ／ｄ
注入したものｉＢとし、夫々に直径５Ｑｃｍの円筒キャ
ン（表面温度８６°Ｃ）に沿わせて、入射角±１８度以
内でＣｏ−Ｃｘ （Ｃｏ ： ８０ｗｔ％）垂直磁化膜
を０．１６μｍ形成し、その上にパーフルオロポリエー
テルとして１フォンブリンＺ−２６”をｓｌｆ／ｄ塗布
し８ミリテープとした。
〔比較例−１〕
厚み１２μｍの芳香族ポリアミドフィルレム七用い、十
分な脱ガス処理をした後、キャン温度を１００’Ｃとし
てＣｏ −Ｏｒ （Ｃｏニー８０ｗｔ％）をター’Ｆ’
ッ）にしてＡｒ ：０．０７（Ｔｏｒｒ ）、１ ａ、
ｓ８（Ｍ） 、１．５（ＫＷ）でスパッタリングして１
６００人のＣｏ −Ｃτ垂直磁化模を形成し、その上に
”フオンプリンｚ−２６”を６ダ／−塗布し８ミリテー
プどした。
分な脱ガス処理をした後、キャン温度を１００’Ｃとし
てＣｏ −Ｏｒ （Ｃｏニー８０ｗｔ％）をター’Ｆ’
ッ）にしてＡｒ ：０．０７（Ｔｏｒｒ ）、１ ａ、
ｓ８（Ｍ） 、１．５（ＫＷ）でスパッタリングして１
６００人のＣｏ −Ｃτ垂直磁化模を形成し、その上に
”フオンプリンｚ−２６”を６ダ／−塗布し８ミリテー
プどした。
〔比較例−２〕
比較例−１で、直径６ｏｃＩＩ＆の円筒キャン表面温度
ｔ２０６°Ｃとして入射角±１６度でＣｏ−０ｒ（Ｇｏ
：８０ｗｔ％）′ｆｔ電子ビーム蒸着し、１７００人の
垂直磁化膜を形成した以外は同じ構成として８ミリテー
プを得た。
ｔ２０６°Ｃとして入射角±１６度でＣｏ−０ｒ（Ｇｏ
：８０ｗｔ％）′ｆｔ電子ビーム蒸着し、１７００人の
垂直磁化膜を形成した以外は同じ構成として８ミリテー
プを得た。
上記したテープを改造した８ミリビテ゛オにより、ビッ
ト長０．１８Ｉｘｎでの相対出力を比較した結果比較例
−２をｏ（ｄＢ）とすると、実施例−ＩＡ、ＩＢは夫々
＋３．３．−）−３，４（ｄＢ）で実施例２−Ａ、２Ｂ
は、＋３．５．＋３．６（ｄＢ）で比較例−１は＋３．
ｏ（ｄＢ）であった。尚夫々の蒸着速度を比較すると、
実施例−１がフィルムの移動速度１９ｍ／ｍ１ｎＳ実施
例−２が２０ ｍ ／ ｔ！ｌｉ ｎ ｓ比較例−１が
α１５ｍ／ｍｉｎ。
ト長０．１８Ｉｘｎでの相対出力を比較した結果比較例
−２をｏ（ｄＢ）とすると、実施例−ＩＡ、ＩＢは夫々
＋３．３．−）−３，４（ｄＢ）で実施例２−Ａ、２Ｂ
は、＋３．５．＋３．６（ｄＢ）で比較例−１は＋３．
ｏ（ｄＢ）であった。尚夫々の蒸着速度を比較すると、
実施例−１がフィルムの移動速度１９ｍ／ｍ１ｎＳ実施
例−２が２０ ｍ ／ ｔ！ｌｉ ｎ ｓ比較例−１が
α１５ｍ／ｍｉｎ。
比較例−２が１９１ｎ／ｗｉｎであることから本発明の
有画値性がわかる。
有画値性がわかる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、ポリエステルフィルム上
に高性能な垂直磁化膜を形成し高密度記録用の磁気記録
媒体が製造できるといったすぐれた効果がある。
に高性能な垂直磁化膜を形成し高密度記録用の磁気記録
媒体が製造できるといったすぐれた効果がある。
図は本発明により製造できる磁気記録媒体の拡大断面図
である。 １・・・・・・ポリエステルフィルム、２・・・・・・
ＨＣ（又はＨＮ）イオン処理層、３・・・・・・垂直磁
化膜。 １−−ポリニス１ル ３−童ＩＬ蜀１１漠
である。 １・・・・・・ポリエステルフィルム、２・・・・・・
ＨＣ（又はＨＮ）イオン処理層、３・・・・・・垂直磁
化膜。 １−−ポリニス１ル ３−童ＩＬ蜀１１漠
Claims (1)
- 高分子フィルム表面をＨＣイオン又はＨＮイオンで表面
処理した後、垂直磁化膜を電子ビーム蒸着することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26742288A JPH02116028A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26742288A JPH02116028A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02116028A true JPH02116028A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17444626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26742288A Pending JPH02116028A (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02116028A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8616774B2 (en) | 2009-10-30 | 2013-12-31 | Taiho Kogyo Co., Ltd. | Sliding bearing |
| US8651742B2 (en) | 2009-07-29 | 2014-02-18 | Taiho Kogyo Co., Ltd. | Sliding bearing |
-
1988
- 1988-10-24 JP JP26742288A patent/JPH02116028A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8651742B2 (en) | 2009-07-29 | 2014-02-18 | Taiho Kogyo Co., Ltd. | Sliding bearing |
| US8616774B2 (en) | 2009-10-30 | 2013-12-31 | Taiho Kogyo Co., Ltd. | Sliding bearing |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2005158092A (ja) | 磁気記録媒体、磁気記憶装置、及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH02116028A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2563425B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH09219020A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2594380B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2003301257A (ja) | 炭素質皮膜の形成方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2563428B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63206912A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62185246A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2597686B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2951892B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02141927A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01176327A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62283420A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2512005B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01211237A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01227225A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63121120A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0757254A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01184718A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02110829A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0223512A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH03207025A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01166332A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63169374A (ja) | 金属薄膜の製造方法 |