JPH1186275A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH1186275A JPH1186275A JP9249147A JP24914797A JPH1186275A JP H1186275 A JPH1186275 A JP H1186275A JP 9249147 A JP9249147 A JP 9249147A JP 24914797 A JP24914797 A JP 24914797A JP H1186275 A JPH1186275 A JP H1186275A
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- recording medium
- protective film
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/727—Inorganic carbon protective coating, e.g. graphite, diamond like carbon or doped carbon
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/30—Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 摺動耐久性に優れた磁気記録媒体を提供す
る。 【解決手段】 非磁性支持体上に金属磁性薄膜からなる
磁性層が形成され、磁性層上にカーボン保護膜が形成さ
れてなり、磁気ヘッドが摺動することにより、記録及び
／又は再生が行われる磁気記録媒体であって、上記カー
ボン保護膜は、波長５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレ
ーザーを用いたラマンスペクトル分析により得られるラ
マンスペクトルにおいて、波数１５５０ｃｍ-1付近に現
れる主ピーク強度Ａのバックグランド強度Ｂに対する強
度比Ａ／Ｂが２以上である。
る。 【解決手段】 非磁性支持体上に金属磁性薄膜からなる
磁性層が形成され、磁性層上にカーボン保護膜が形成さ
れてなり、磁気ヘッドが摺動することにより、記録及び
／又は再生が行われる磁気記録媒体であって、上記カー
ボン保護膜は、波長５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレ
ーザーを用いたラマンスペクトル分析により得られるラ
マンスペクトルにおいて、波数１５５０ｃｍ-1付近に現
れる主ピーク強度Ａのバックグランド強度Ｂに対する強
度比Ａ／Ｂが２以上である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドが摺動
することにより記録及び／又は再生が行われる金属磁性
薄膜型磁気記録媒体に関し、特にカーボン保護膜の改良
に関するものである。
することにより記録及び／又は再生が行われる金属磁性
薄膜型磁気記録媒体に関し、特にカーボン保護膜の改良
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、酸化
物磁性粉末或いは合金磁性粉末等の粉末磁性材料を、塩
化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル樹脂、
ウレタン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめた磁性
塗料を非磁性支持体上に塗布乾燥することにより作製さ
れる、いわゆる塗布型磁気記録媒体が広く使用されてい
る。
物磁性粉末或いは合金磁性粉末等の粉末磁性材料を、塩
化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル樹脂、
ウレタン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめた磁性
塗料を非磁性支持体上に塗布乾燥することにより作製さ
れる、いわゆる塗布型磁気記録媒体が広く使用されてい
る。
【０００３】これに対して、高密度記録への要求の高ま
りとともに、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−
Ｏ合金等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段
（真空蒸着法、スパッタリング、イオンプレーティング
法等）によって直接被着せしめた、いわゆる金属磁性薄
膜型磁気記録媒体が提案され注目を集めている。
りとともに、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−
Ｏ合金等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段
（真空蒸着法、スパッタリング、イオンプレーティング
法等）によって直接被着せしめた、いわゆる金属磁性薄
膜型磁気記録媒体が提案され注目を集めている。
【０００４】この金属磁性薄膜型磁気記録媒体は、抗磁
力や角形比等に優れ、磁性層の厚みを極めて薄くできる
ため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さく短波
長での電磁変換特性に優れるばかりではなく、磁性層中
に非磁性材であるバインダー等を混入する必要がないた
め磁性材料の充填密度を高めることができる等、数々の
利点を有している。したがって、金属磁性薄膜型磁気記
録媒体は、この磁気特性的な優位さ故に高密度磁気記録
の主流になると考えられる。
力や角形比等に優れ、磁性層の厚みを極めて薄くできる
ため、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さく短波
長での電磁変換特性に優れるばかりではなく、磁性層中
に非磁性材であるバインダー等を混入する必要がないた
め磁性材料の充填密度を高めることができる等、数々の
利点を有している。したがって、金属磁性薄膜型磁気記
録媒体は、この磁気特性的な優位さ故に高密度磁気記録
の主流になると考えられる。
【０００５】さらに、この種の磁気記録媒体の電磁変換
特性を向上させ、より短波長での高出力化を図るため
に、いわゆる斜方蒸着媒体が提案され実用化されてい
る。この斜方蒸着媒体は、移動走行する非磁性支持体上
に斜め方向から磁性金属を堆積させる、いわゆる斜方蒸
着法により磁性層を形成した磁性金属薄膜型の磁気記録
媒体である。
特性を向上させ、より短波長での高出力化を図るため
に、いわゆる斜方蒸着媒体が提案され実用化されてい
る。この斜方蒸着媒体は、移動走行する非磁性支持体上
に斜め方向から磁性金属を堆積させる、いわゆる斜方蒸
着法により磁性層を形成した磁性金属薄膜型の磁気記録
媒体である。
【０００６】一方、今後更なる高密度記録化の流れか
ら、磁気記録媒体はスペーシングロスを少なくするため
に平滑化される傾向にある。磁気記録媒体の平滑化に伴
って、ヘッド−媒体間の摩擦力は増大し、媒体に生ずる
せん断応力は大きくなる。そこで、このような摺動耐久
性を向上させる目的で、磁性層表面に保護膜を形成する
技術の検討がなされている。
ら、磁気記録媒体はスペーシングロスを少なくするため
に平滑化される傾向にある。磁気記録媒体の平滑化に伴
って、ヘッド−媒体間の摩擦力は増大し、媒体に生ずる
せん断応力は大きくなる。そこで、このような摺動耐久
性を向上させる目的で、磁性層表面に保護膜を形成する
技術の検討がなされている。
【０００７】このような保護膜としては、カーボン膜、
石英（ＳｉＯ2）膜、ジルコニア（ＺｒＯ2）膜等が検討
され、ハードディスクにおいては実用化され生産されて
いるものもある。特に、カーボン保護膜においては、よ
り硬度な膜であるダイヤモンドライクカーボン（以下、
ＤＬＣと称す。）膜も検討されている。ＤＬＣ膜の形成
には、スパッタリング法、化学的気相成長（以下、ＣＶ
Ｄと称す。）法等が用いられている。
石英（ＳｉＯ2）膜、ジルコニア（ＺｒＯ2）膜等が検討
され、ハードディスクにおいては実用化され生産されて
いるものもある。特に、カーボン保護膜においては、よ
り硬度な膜であるダイヤモンドライクカーボン（以下、
ＤＬＣと称す。）膜も検討されている。ＤＬＣ膜の形成
には、スパッタリング法、化学的気相成長（以下、ＣＶ
Ｄと称す。）法等が用いられている。
【０００８】スパッタリング法とは、まず電場や磁場を
利用してアルゴンガス等の不活性ガスの電離（プラズマ
化）を行い、さらに電離されたアルゴンイオンを加速す
ることにより、その運動エネルギーでターゲットの原子
をはじき出す。そして、そのはじき出された原子が対向
する基板上に堆積し、目的とする膜が形成される物理的
プロセスである。このスパッタリング法は、上記ＤＬＣ
膜の形成速度が一般的に遅く、工業的見地からは生産性
に劣る膜形成手段である。
利用してアルゴンガス等の不活性ガスの電離（プラズマ
化）を行い、さらに電離されたアルゴンイオンを加速す
ることにより、その運動エネルギーでターゲットの原子
をはじき出す。そして、そのはじき出された原子が対向
する基板上に堆積し、目的とする膜が形成される物理的
プロセスである。このスパッタリング法は、上記ＤＬＣ
膜の形成速度が一般的に遅く、工業的見地からは生産性
に劣る膜形成手段である。
【０００９】これに対し、ＣＶＤ法は、電場や磁場を用
いて発生させたプラズマのエネルギーを利用して、原料
となる気体の分解、合成等の化学反応をおこさせ、膜を
形成する化学的プロセスであり、スパッタリング法より
ＤＬＣ膜の形成速度が速い。
いて発生させたプラズマのエネルギーを利用して、原料
となる気体の分解、合成等の化学反応をおこさせ、膜を
形成する化学的プロセスであり、スパッタリング法より
ＤＬＣ膜の形成速度が速い。
【００１０】このように、上述した方法にてカーボン保
護膜が設けられることにより、磁気記録媒体の摺動耐久
性の著しい向上がみられる。
護膜が設けられることにより、磁気記録媒体の摺動耐久
性の著しい向上がみられる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
磁気記録装置の小型化、大容量化が進み、特に高信頼性
が必要とされるデータストレージ用途への拡大に伴い、
さらに優れた摺動耐久性が求められている。
磁気記録装置の小型化、大容量化が進み、特に高信頼性
が必要とされるデータストレージ用途への拡大に伴い、
さらに優れた摺動耐久性が求められている。
【００１２】また、磁気記録再生装置の磁気ヘッドの浮
上量も低下の一途をたどっており、浮上量の極限とし
て、磁気ヘッドを磁気記録媒体表面に常時接触させなが
ら記録再生を行う方式、いわゆるコンタクト方式も提唱
されている。
上量も低下の一途をたどっており、浮上量の極限とし
て、磁気ヘッドを磁気記録媒体表面に常時接触させなが
ら記録再生を行う方式、いわゆるコンタクト方式も提唱
されている。
【００１３】このように、磁気ヘッドと磁気記録媒体面
とが接触摺動することにより、記録及び／又は再生が行
われる磁気記録媒体においては、よりいっそう低摩擦
化、摺動耐久性の向上を図る必要がある。
とが接触摺動することにより、記録及び／又は再生が行
われる磁気記録媒体においては、よりいっそう低摩擦
化、摺動耐久性の向上を図る必要がある。
【００１４】本発明は、このような実情に鑑みて提案さ
れたものであり、よりいっそう摺動耐久性に優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とするものである。
れたものであり、よりいっそう摺動耐久性に優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とするものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意検討を重ねた結果、ラマンスペクト
ル分析により得られるラマンスペクトルにおいて、波数
１５５０ｃｍ-1付近に現れる主ピーク強度の強度比が２
以上であるカーボン保護膜が、低摩擦で摺動耐久性に優
れることを見いだした。
を解決するため鋭意検討を重ねた結果、ラマンスペクト
ル分析により得られるラマンスペクトルにおいて、波数
１５５０ｃｍ-1付近に現れる主ピーク強度の強度比が２
以上であるカーボン保護膜が、低摩擦で摺動耐久性に優
れることを見いだした。
【００１６】すなわち、本発明に係る磁気記録媒体は、
非磁性支持体上に金属磁性薄膜からなる磁性層が形成さ
れ、磁性層上にカーボン保護膜が形成されてなり、磁気
ヘッドが摺動することにより、記録及び／又は再生が行
われる磁気記録媒体であって、上記カーボン保護膜は、
波長５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレーザーを用いた
ラマンスペクトル分析により得られるラマンスペクトル
において、波数１５５０ｃｍ-1付近に現れる主ピーク強
度のバックグランド強度に対する強度比が２以上である
ことを特徴とする。
非磁性支持体上に金属磁性薄膜からなる磁性層が形成さ
れ、磁性層上にカーボン保護膜が形成されてなり、磁気
ヘッドが摺動することにより、記録及び／又は再生が行
われる磁気記録媒体であって、上記カーボン保護膜は、
波長５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレーザーを用いた
ラマンスペクトル分析により得られるラマンスペクトル
において、波数１５５０ｃｍ-1付近に現れる主ピーク強
度のバックグランド強度に対する強度比が２以上である
ことを特徴とする。
【００１７】本発明に係る磁気記録媒体は、カーボン保
護膜のラマンスペクトル分析により得られるラマンスペ
クトルのパターン（強度比）を規定することによって、
低摩擦で、シャトル特性及びスチル特性に優れるカーボ
ン保護膜を得ることができる。その結果、摺動耐久性に
優れた磁気記録媒体を提供することができる。
護膜のラマンスペクトル分析により得られるラマンスペ
クトルのパターン（強度比）を規定することによって、
低摩擦で、シャトル特性及びスチル特性に優れるカーボ
ン保護膜を得ることができる。その結果、摺動耐久性に
優れた磁気記録媒体を提供することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る磁気記録媒体
について、詳細に説明する。
について、詳細に説明する。
【００１９】本発明に係る磁気記録媒体は、非磁性支持
体上に金属磁性薄膜からなる磁性層が形成され、磁性層
上にカーボン保護膜が形成されてなり、このカーボン保
護膜が以下のような条件を満たしていることを特徴とす
る。
体上に金属磁性薄膜からなる磁性層が形成され、磁性層
上にカーボン保護膜が形成されてなり、このカーボン保
護膜が以下のような条件を満たしていることを特徴とす
る。
【００２０】すなわち、上記カーボン保護膜は、波長５
１４．５ｎｍのアルゴンイオンレーザーを用いたラマン
スペクトル分析により得られるラマンスペクトルにおい
て、図１に示すように、波数１５５０ｃｍ-1付近に現れ
る主ピーク強度Ａのバックグランド強度Ｂに対する強度
比Ａ／Ｂが２以上であることを特徴とする。
１４．５ｎｍのアルゴンイオンレーザーを用いたラマン
スペクトル分析により得られるラマンスペクトルにおい
て、図１に示すように、波数１５５０ｃｍ-1付近に現れ
る主ピーク強度Ａのバックグランド強度Ｂに対する強度
比Ａ／Ｂが２以上であることを特徴とする。
【００２１】ここで、バックグランド強度Ｂは、波数１
５５０ｃｍ-1付近に現れる主ピークの両端の極小値を結
んだベースラインをバックグランドとするものである。
このベースラインの傾きは、カーボン保護膜中の水素濃
度（原料ガス組成）や電極に印加される電圧条件等によ
って左右される。
５５０ｃｍ-1付近に現れる主ピークの両端の極小値を結
んだベースラインをバックグランドとするものである。
このベースラインの傾きは、カーボン保護膜中の水素濃
度（原料ガス組成）や電極に印加される電圧条件等によ
って左右される。
【００２２】上記強度比Ａ／Ｂは、２以上、より好まし
くは２．５〜４．２である。強度比Ａ／Ｂが２未満の場
合には、アモルファスカーボンの生成がほとんどなされ
ていないと考えられる。また、強度比Ａ／Ｂが４．２を
越える場合には、ＣＶＤ装置に印加する電圧が大きくな
るため、非磁性支持体が熱負けを起こす等の問題を生じ
る虞がある。
くは２．５〜４．２である。強度比Ａ／Ｂが２未満の場
合には、アモルファスカーボンの生成がほとんどなされ
ていないと考えられる。また、強度比Ａ／Ｂが４．２を
越える場合には、ＣＶＤ装置に印加する電圧が大きくな
るため、非磁性支持体が熱負けを起こす等の問題を生じ
る虞がある。
【００２３】このカーボン保護膜は、例えば、原料を気
相化学反応させたのち非磁性支持体上に堆積させるＣＶ
Ｄ法やスパッタリング法等の真空薄膜形成技術によって
形成するとよい。特に、ＣＶＤ法は、高速成膜が可能で
あることから好ましく用いられる。
相化学反応させたのち非磁性支持体上に堆積させるＣＶ
Ｄ法やスパッタリング法等の真空薄膜形成技術によって
形成するとよい。特に、ＣＶＤ法は、高速成膜が可能で
あることから好ましく用いられる。
【００２４】また、この場合、カーボン保護膜は、アモ
ルファス構造の硬質カーボン膜、いわゆるＤＬＣ膜とし
て形成されることが好ましい。ＤＬＣ膜は、一般に薄膜
領域（１０ｎｍ程度）にて高硬度，低摩擦が実現できる
ことから、摺動媒体のテープ等の保護膜として好まし
い。
ルファス構造の硬質カーボン膜、いわゆるＤＬＣ膜とし
て形成されることが好ましい。ＤＬＣ膜は、一般に薄膜
領域（１０ｎｍ程度）にて高硬度，低摩擦が実現できる
ことから、摺動媒体のテープ等の保護膜として好まし
い。
【００２５】カーボン保護膜の膜厚は、１〜２０ｎｍに
成膜されるのが好ましい。カーボン保護膜の膜厚が１ｎ
ｍ未満の場合には、保護膜を設ける効果が十分に得られ
ない。また、カーボン保護膜の膜厚が厚すぎると、磁性
層の保磁力が低下するため、またカセット内に収納でき
る磁気テープの長尺化を図る点からも、カーボン保護膜
の厚さは、２０ｎｍ以下が好ましい。
成膜されるのが好ましい。カーボン保護膜の膜厚が１ｎ
ｍ未満の場合には、保護膜を設ける効果が十分に得られ
ない。また、カーボン保護膜の膜厚が厚すぎると、磁性
層の保磁力が低下するため、またカセット内に収納でき
る磁気テープの長尺化を図る点からも、カーボン保護膜
の厚さは、２０ｎｍ以下が好ましい。
【００２６】このように、波数１５５０ｃｍ-1付近の主
ピーク強度Ａのバックグランド強度Ｂに対する強度比Ａ
／Ｂが２以上であるカーボン保護膜は、低摩擦で、摺動
耐久性に優れたものとなる。
ピーク強度Ａのバックグランド強度Ｂに対する強度比Ａ
／Ｂが２以上であるカーボン保護膜は、低摩擦で、摺動
耐久性に優れたものとなる。
【００２７】したがって、本発明の磁気記録媒体は、磁
気ヘッドが摺動することにより記録及び／又は再生が行
われる磁気記録媒体であって、特に信頼性が必要とされ
るデータストリーマーや、ビデオライブラリ等の特別な
用途に使用される磁気記録媒体に適用されて好適であ
る。また、本発明の磁気記録媒体は、ディスク状、テー
プ状でもよいが、ケースに内蔵されるディスク状媒体と
異なり、外に露出する機会が多いテープ状媒体等のよう
に、耐環境特性が厳しく要求される磁気記録媒体にも適
用されて好適である。
気ヘッドが摺動することにより記録及び／又は再生が行
われる磁気記録媒体であって、特に信頼性が必要とされ
るデータストリーマーや、ビデオライブラリ等の特別な
用途に使用される磁気記録媒体に適用されて好適であ
る。また、本発明の磁気記録媒体は、ディスク状、テー
プ状でもよいが、ケースに内蔵されるディスク状媒体と
異なり、外に露出する機会が多いテープ状媒体等のよう
に、耐環境特性が厳しく要求される磁気記録媒体にも適
用されて好適である。
【００２８】ところで、本発明は、いわゆる金属磁性薄
膜型の磁気記録媒体に関するものであるが、非磁性支持
体や金属磁性薄膜の材料や構成等は特に限定されない。
膜型の磁気記録媒体に関するものであるが、非磁性支持
体や金属磁性薄膜の材料や構成等は特に限定されない。
【００２９】非磁性支持体としては、通常この種の磁気
記録媒体の非磁性支持体として用いられるものであれば
何れも使用可能であり、例示すれば、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン-２，６-ナフタレート等のポ
リエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン類、セルローストリアセテート、セルロース
ダイアセテート、セルローストリアセテートブチレート
等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
デリン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート類、ポリア
ミド類、ポリイミド類に代表されるような高分子材料
や、アルミナガラス、セラミックス等により形成される
支持体等が挙げられる。
記録媒体の非磁性支持体として用いられるものであれば
何れも使用可能であり、例示すれば、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン-２，６-ナフタレート等のポ
リエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン類、セルローストリアセテート、セルロース
ダイアセテート、セルローストリアセテートブチレート
等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
デリン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート類、ポリア
ミド類、ポリイミド類に代表されるような高分子材料
や、アルミナガラス、セラミックス等により形成される
支持体等が挙げられる。
【００３０】磁性層は、強磁性金属材料を成膜すること
により形成されるものであるが、該強磁性金属材料は、
通常の蒸着テ−プに使用されるものであれば如何なるも
のであってもよい。例示すれば、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉなど
の強磁性金属、Ｆｅ−Ｃｏ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ａｕ，Ｃｏ−Ｐ
ｔ，Ｍｎ−Ｂｉ，Ｍｎ−Ａｌ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｃ
ｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合金があげられ
る。これら強磁性金属からなる磁性層は、これらの単層
膜であってもよいし多層膜であってもよい。
により形成されるものであるが、該強磁性金属材料は、
通常の蒸着テ−プに使用されるものであれば如何なるも
のであってもよい。例示すれば、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉなど
の強磁性金属、Ｆｅ−Ｃｏ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ａｕ，Ｃｏ−Ｐ
ｔ，Ｍｎ−Ｂｉ，Ｍｎ−Ａｌ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｃ
ｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性合金があげられ
る。これら強磁性金属からなる磁性層は、これらの単層
膜であってもよいし多層膜であってもよい。
【００３１】これら磁性層の形成手段としては、真空下
で強磁性金属材料を加熱蒸発させ、非磁性支持体上に蒸
着させる真空蒸着法や、蒸発粒子をイオン化し電界によ
り加速してから非磁性支持体上に付着させるイオンプレ
ーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグロ
ー放電を越こし生じたアルゴンイオンでターゲット表面
の原子をたたき出すスパッタリング法等、いわゆるＰＶ
Ｄ技術によればよい。
で強磁性金属材料を加熱蒸発させ、非磁性支持体上に蒸
着させる真空蒸着法や、蒸発粒子をイオン化し電界によ
り加速してから非磁性支持体上に付着させるイオンプレ
ーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグロ
ー放電を越こし生じたアルゴンイオンでターゲット表面
の原子をたたき出すスパッタリング法等、いわゆるＰＶ
Ｄ技術によればよい。
【００３２】なお、このうち、真空蒸着法によって磁性
層を形成する場合には、高密度記録領域での特性改善を
目的として、磁性金属材料を蒸着源とし、移動走行する
非磁性支持体上に斜め方向から磁性金属粒子を蒸着せし
める、斜方蒸着法により成膜するのが好ましい。
層を形成する場合には、高密度記録領域での特性改善を
目的として、磁性金属材料を蒸着源とし、移動走行する
非磁性支持体上に斜め方向から磁性金属粒子を蒸着せし
める、斜方蒸着法により成膜するのが好ましい。
【００３３】この時、この磁性層の磁化容易軸の傾き角
は、非磁性支持体の表面に対して２０〜９０°であるこ
とが望ましい。この磁化容易軸の傾き角が高角度になる
ほど、高密度記録領域における特性が改善される。な
お、磁性層の磁化容易軸の傾き角は、磁性層を蒸着形成
するに際して、非磁性支持体に対する蒸着粒子の入射角
を変化させることにより制御することができる。
は、非磁性支持体の表面に対して２０〜９０°であるこ
とが望ましい。この磁化容易軸の傾き角が高角度になる
ほど、高密度記録領域における特性が改善される。な
お、磁性層の磁化容易軸の傾き角は、磁性層を蒸着形成
するに際して、非磁性支持体に対する蒸着粒子の入射角
を変化させることにより制御することができる。
【００３４】なお、この蒸着法に際しては、蒸着雰囲気
下に酸素ガスを導入し、例えば、Ｃｏ−Ｏ系薄膜、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｏ系薄膜といったような酸素を含有したかたち
で形成するのがよい。これにより、磁性層の結晶粒子が
微細化し、媒体ノイズが低減できる。また、結晶粒子が
柱状構造となることで、斜め方向の形状異方性を増大す
る。
下に酸素ガスを導入し、例えば、Ｃｏ−Ｏ系薄膜、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｏ系薄膜といったような酸素を含有したかたち
で形成するのがよい。これにより、磁性層の結晶粒子が
微細化し、媒体ノイズが低減できる。また、結晶粒子が
柱状構造となることで、斜め方向の形状異方性を増大す
る。
【００３５】以上が、本発明に係る磁気記録媒体の基本
的な構成であるが、この磁気記録媒体には、この種の磁
気記録媒体で通常用いられている付加的な構成を持た
せ、さらなる特性の改善を図るようにしてもよい。
的な構成であるが、この磁気記録媒体には、この種の磁
気記録媒体で通常用いられている付加的な構成を持た
せ、さらなる特性の改善を図るようにしてもよい。
【００３６】例えば、上記非磁性支持体と磁性層との
間、或いは多層膜の間に、各層間の付着力向上、抗磁力
の制御等のため、下地層或いは中間層を設けてもよい。
更に、この非磁性支持体においては、必要に応じて、そ
の表面性をコントロールするために、微細な凹凸が形成
されるような表面処理を施しても良い。
間、或いは多層膜の間に、各層間の付着力向上、抗磁力
の制御等のため、下地層或いは中間層を設けてもよい。
更に、この非磁性支持体においては、必要に応じて、そ
の表面性をコントロールするために、微細な凹凸が形成
されるような表面処理を施しても良い。
【００３７】また、磁性層となる金属磁性薄膜の上に、
潤滑剤や防錆剤等によりなるトップコート層を設けても
よい。また、非磁性支持体の磁性層を形成した側とは反
対側の面に、磁気記録媒体の走行耐久性の向上や帯電防
止及び転写防止等を目的として、非磁性顔料、結合剤、
潤滑剤等によりなるバックコート層を形成するようにし
てよい。これらの材料には、従来用いられているものが
いずれも使用可能である。
潤滑剤や防錆剤等によりなるトップコート層を設けても
よい。また、非磁性支持体の磁性層を形成した側とは反
対側の面に、磁気記録媒体の走行耐久性の向上や帯電防
止及び転写防止等を目的として、非磁性顔料、結合剤、
潤滑剤等によりなるバックコート層を形成するようにし
てよい。これらの材料には、従来用いられているものが
いずれも使用可能である。
【００３８】
【実施例】以下、本発明の実施例を実験結果を基づいて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００３９】実施例１ まず、厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム上に、酸素ガスを導入しながらＣｏを蒸着
源に用いた真空蒸着を行うことにより、膜厚２００ｎｍ
の金属磁性薄膜（Ｃｏ−Ｏ単層）を成膜した。金属磁性
薄膜の成膜条件は下記のとおりである。
Ｔ）フィルム上に、酸素ガスを導入しながらＣｏを蒸着
源に用いた真空蒸着を行うことにより、膜厚２００ｎｍ
の金属磁性薄膜（Ｃｏ−Ｏ単層）を成膜した。金属磁性
薄膜の成膜条件は下記のとおりである。
【００４０】金属磁性薄膜に成膜条件 蒸着粒子の入射角 ： ４５〜９０° 蒸着時の真空度 ： ２×１０-2 Ｐａ 次に、上記金属磁性薄膜上にＤＬＣ膜よりなる保護膜を
成膜するが、これに先立って、成膜に用いたプラズマＣ
ＶＤ装置について説明する。
成膜するが、これに先立って、成膜に用いたプラズマＣ
ＶＤ装置について説明する。
【００４１】図２に示されるように、このプラズマＣＶ
Ｄ装置は、真空排気系１によって排気されて内部が真空
状態となされた真空槽２内に、送りロール３，巻き取り
ロール４とが配設されており、これら送りロール３から
巻き取りロール４に向かって、上述したようにフィルム
上に金属磁性薄膜が成膜されてなるテープ５が順次走行
されるようになされている。
Ｄ装置は、真空排気系１によって排気されて内部が真空
状態となされた真空槽２内に、送りロール３，巻き取り
ロール４とが配設されており、これら送りロール３から
巻き取りロール４に向かって、上述したようにフィルム
上に金属磁性薄膜が成膜されてなるテープ５が順次走行
されるようになされている。
【００４２】これら送りロール３から巻き取りロール４
側に上記テープ５が走行する中途部には、上記各ロール
３，４よりも大径となされた円筒キャン５が配設されて
いる。
側に上記テープ５が走行する中途部には、上記各ロール
３，４よりも大径となされた円筒キャン５が配設されて
いる。
【００４３】この円筒キャン６は、上記テープ５を図中
下方に引き出すように設けられている。この円筒キャン
６には、内部に図示しない冷却装置が設けられており、
上記テープ５の温度上昇による変形等を抑制し得るよう
になされている。
下方に引き出すように設けられている。この円筒キャン
６には、内部に図示しない冷却装置が設けられており、
上記テープ５の温度上昇による変形等を抑制し得るよう
になされている。
【００４４】以上のような構成を有するプラズマＣＶＤ
装置において、上記テープ５は、上記送りロール３から
順次送り出され、上記円筒キャン６の周面に沿って移動
走行され、更に上記巻き取りロール４に順次巻き取られ
ることとなる。
装置において、上記テープ５は、上記送りロール３から
順次送り出され、上記円筒キャン６の周面に沿って移動
走行され、更に上記巻き取りロール４に順次巻き取られ
ることとなる。
【００４５】また、上記送りロール３と上記円筒キャン
６との間、及び該円筒キャン６と上記巻き取りロール４
との間には、各ロール３，４より小径のガイドロール
７，８がそれぞれ配設され、上記送りロール３から上記
円筒キャン６、該円筒キャン６から上記巻き取りロール
４に亘って走行する上記テープ５に所定のテンションを
かけ、該テープ５が円滑に走行するようになされてい
る。
６との間、及び該円筒キャン６と上記巻き取りロール４
との間には、各ロール３，４より小径のガイドロール
７，８がそれぞれ配設され、上記送りロール３から上記
円筒キャン６、該円筒キャン６から上記巻き取りロール
４に亘って走行する上記テープ５に所定のテンションを
かけ、該テープ５が円滑に走行するようになされてい
る。
【００４６】また、上記円筒キャン６の下方には、該円
筒キャン６の周面に略平行となるように曲面化された開
口を有するガス反応管９が設けられ、その内部に金属よ
りなるメッシュ状の電極１０が配されている。この電極
１０には、所定の直流電源により電流が供給され、電極
１０と円筒キャン６との間に所定の直流電圧が印加でき
るようになされている。また、ガス反応管９には、この
内部にガスを供給するためのガス供給口１１が設けられ
ている。なお、ガス反応管９は、これに対向する円筒キ
ャン５と略同じ幅を有するものである。
筒キャン６の周面に略平行となるように曲面化された開
口を有するガス反応管９が設けられ、その内部に金属よ
りなるメッシュ状の電極１０が配されている。この電極
１０には、所定の直流電源により電流が供給され、電極
１０と円筒キャン６との間に所定の直流電圧が印加でき
るようになされている。また、ガス反応管９には、この
内部にガスを供給するためのガス供給口１１が設けられ
ている。なお、ガス反応管９は、これに対向する円筒キ
ャン５と略同じ幅を有するものである。
【００４７】このように構成されたプラズマＣＶＤ装置
を用い、真空槽２内の圧力を３０Ｐａとし、電極１０と
円筒キャン６との間に電圧０．８ｋＶを印加し、放電を
生じさせた状態にてガス供給口１１から原料ガスとして
エチレンとアルゴンの混合ガス（エチレン：アルゴン＝
８５：１５）を供給した。これにより、円筒キャン６の
周面を走行するテープ５の金属磁性薄膜上に厚さ８ｎｍ
なるカーボン保護膜が成膜された。
を用い、真空槽２内の圧力を３０Ｐａとし、電極１０と
円筒キャン６との間に電圧０．８ｋＶを印加し、放電を
生じさせた状態にてガス供給口１１から原料ガスとして
エチレンとアルゴンの混合ガス（エチレン：アルゴン＝
８５：１５）を供給した。これにより、円筒キャン６の
周面を走行するテープ５の金属磁性薄膜上に厚さ８ｎｍ
なるカーボン保護膜が成膜された。
【００４８】以上のようにして金属磁性薄膜上にカーボ
ン保護膜を成膜した後、６．３５ｍｍ幅に裁断すること
により磁気テープを完成し、これを実施例１のサンプル
テープとした。
ン保護膜を成膜した後、６．３５ｍｍ幅に裁断すること
により磁気テープを完成し、これを実施例１のサンプル
テープとした。
【００４９】実施例２〜実施例５、比較例１、比較例２ 表１に示す、反応ガス組成、電圧条件により、カーボン
保護膜を成膜し、他は実施例１と同様にしてサンプルテ
ープを作製した。
保護膜を成膜し、他は実施例１と同様にしてサンプルテ
ープを作製した。
【００５０】
【表１】
【００５１】特性評価 実施例及び比較例のサンプルテープに対して、ラマンス
ペクトル分析、シャトル走行試験、スチル耐久性試験、
摩擦試験を行った。試験方法は、以下の通りである。
ペクトル分析、シャトル走行試験、スチル耐久性試験、
摩擦試験を行った。試験方法は、以下の通りである。
【００５２】ラマンスペクトル分析：カーボン膜に波長
５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレーザーを照射し、こ
れにより励起された散乱光をスペクトル測定する方法で
あり、カーボン保護膜を評価する方法として、代表的な
手法により行った。そして、１５５０ｃｍ-1付近に現れ
る主ピーク強度Ａのバックグランドの強度比Ｂに対する
強度比Ａ／Ｂを求めた。
５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレーザーを照射し、こ
れにより励起された散乱光をスペクトル測定する方法で
あり、カーボン保護膜を評価する方法として、代表的な
手法により行った。そして、１５５０ｃｍ-1付近に現れ
る主ピーク強度Ａのバックグランドの強度比Ｂに対する
強度比Ａ／Ｂを求めた。
【００５３】シャトル走行試験：デジタルビデオカメラ
（ソニー社製、商品名；ＤＶＣ−７００）を用い、温度
４０℃相対湿度３０％の環境下で１０分間１回記録した
後、９９回再生させ、初期出力に対する１００パス回目
の出力を調べた。このレベルダウン量は、−３ｄＢ以内
であれば、デジタルビデオテープレコーダに内蔵される
信号増幅回路により画質に影響を与えない。
（ソニー社製、商品名；ＤＶＣ−７００）を用い、温度
４０℃相対湿度３０％の環境下で１０分間１回記録した
後、９９回再生させ、初期出力に対する１００パス回目
の出力を調べた。このレベルダウン量は、−３ｄＢ以内
であれば、デジタルビデオテープレコーダに内蔵される
信号増幅回路により画質に影響を与えない。
【００５４】スチル耐久試験：デジタルビデオカメラ
（ソニー社製、商品名；ＤＶＣ−７００）を用い、温度
−５℃の環境下でスチル状態のまま保持し、結果を初期
出力に対して−３ｄＢになる時間を調べた。
（ソニー社製、商品名；ＤＶＣ−７００）を用い、温度
−５℃の環境下でスチル状態のまま保持し、結果を初期
出力に対して−３ｄＢになる時間を調べた。
【００５５】摩擦試験：温度４０℃相対湿度８０％の環
境下で摺動摩擦試験を用いて行い、結果を摩擦係数で表
した。
境下で摺動摩擦試験を用いて行い、結果を摩擦係数で表
した。
【００５６】これらの結果を表２に示す。また、実施例
のラマンスペクトルを図３に示す。
のラマンスペクトルを図３に示す。
【００５７】
【表２】
【００５８】表２の結果から、カーボン保護膜のラマン
強度比が２以上である実施例のサンプルテープにおいて
は、良好なシャトル特性、スチル特性、低摩擦を示し、
摺動耐久性に優れていることがわかる。
強度比が２以上である実施例のサンプルテープにおいて
は、良好なシャトル特性、スチル特性、低摩擦を示し、
摺動耐久性に優れていることがわかる。
【００５９】これに対して、カーボン保護膜のラマン強
度比が２以下である比較例１及び比較例２のサンプルテ
ープにおいては、いずれも満足のいく特性が得られなか
った。一方、カーボン保護膜のラマン強度比が４．５で
ある比較例３のサンプルテープにおいては、成膜時にフ
ィルムが熱負けを起こして各試験を行うことができなか
った。
度比が２以下である比較例１及び比較例２のサンプルテ
ープにおいては、いずれも満足のいく特性が得られなか
った。一方、カーボン保護膜のラマン強度比が４．５で
ある比較例３のサンプルテープにおいては、成膜時にフ
ィルムが熱負けを起こして各試験を行うことができなか
った。
【００６０】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、ラマンスペクトル分析により得られるラマ
ンスペクトルにおいて、波数１５５０ｃｍ-1付近に現れ
る主ピーク強度のバックグランドの強度比に対する強度
比が２以上であるカーボン保護膜を有してなることか
ら、摺動耐久性に優れ、高信頼性を有する磁気記録媒体
を提供することができる。
明によれば、ラマンスペクトル分析により得られるラマ
ンスペクトルにおいて、波数１５５０ｃｍ-1付近に現れ
る主ピーク強度のバックグランドの強度比に対する強度
比が２以上であるカーボン保護膜を有してなることか
ら、摺動耐久性に優れ、高信頼性を有する磁気記録媒体
を提供することができる。
【図１】本発明を適用した磁気記録媒体のカーボン保護
膜のラマンスペクトルを示す特性図である。
膜のラマンスペクトルを示す特性図である。
【図２】本発明を適用した磁気記録媒体のカーボン保護
膜の成膜に用いるプラズマＣＶＤ装置の概略構成図であ
る。
膜の成膜に用いるプラズマＣＶＤ装置の概略構成図であ
る。
【図３】本発明を適用した磁気記録媒体のカーボン保護
膜のラマンスペクトルを示す特性図である。
膜のラマンスペクトルを示す特性図である。
１ 真空排気系、２ 真空槽、３ 送りロール、４ 巻
取りロール、５ テープ、６ 円筒キャン、９ ガス反
応管、１０ 電極、１１ ガス供給口
取りロール、５ テープ、６ 円筒キャン、９ ガス反
応管、１０ 電極、１１ ガス供給口
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性支持体上に金属磁性薄膜からなる
磁性層が形成され、磁性層上にカーボン保護膜が形成さ
れてなり、磁気ヘッドが摺動することにより、記録及び
／又は再生が行われる磁気記録媒体であって、 上記カーボン保護膜は、波長５１４．５ｎｍのアルゴン
イオンレーザーを用いたラマンスペクトル分析により得
られるラマンスペクトルにおいて、波数１５５０ｃｍ-1
付近に現れる主ピーク強度のバックグランド強度に対す
る強度比が２以上であることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】 上記カーボン保護膜は、化学的気相成長
法により成膜されてなるダイヤモンドライクカーボンで
あることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 上記カーボン保護膜は、波長５１４．５
ｎｍのアルゴンイオンレーザーを用いたラマンスペクト
ル分析により得られるラマンスペクトルにおいて、波数
１５５０ｃｍ-1付近に現れる主ピーク強度のバックグラ
ンド強度に対する強度比が２．５〜４．２であることを
特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9249147A JPH1186275A (ja) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 磁気記録媒体 |
| US09/149,863 US6110584A (en) | 1997-09-12 | 1998-09-09 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9249147A JPH1186275A (ja) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1186275A true JPH1186275A (ja) | 1999-03-30 |
Family
ID=17188621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9249147A Pending JPH1186275A (ja) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6110584A (ja) |
| JP (1) | JPH1186275A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6881475B2 (en) | 2001-06-13 | 2005-04-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Amorphous carbon coated tool and fabrication method thereof |
| US6962751B2 (en) * | 2001-06-13 | 2005-11-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Amorphous carbon coated tools and method of producing the same |
| EP2000560A1 (en) | 1999-07-08 | 2008-12-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Hard coating and coated member |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6589641B1 (en) * | 1998-06-04 | 2003-07-08 | Seagate Technology Llc | Thin films of crosslinked fluoropolymer on a carbon substrate |
| US6617011B2 (en) * | 1999-05-07 | 2003-09-09 | Seagate Technology Llc | Elastomeric lubricants for magnetic recording media |
| US6680079B1 (en) | 2000-06-02 | 2004-01-20 | Seagate Technology Llc | Planarization and corrosion protection of patterned magnetic media |
| US6849304B1 (en) | 2001-03-16 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Method of forming lubricant films |
| JP3733878B2 (ja) * | 2001-06-29 | 2006-01-11 | ソニー株式会社 | 金属薄膜型磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US6776438B2 (en) | 2001-08-01 | 2004-08-17 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Magnetic printing media for inkjet and laserjet |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5045165A (en) * | 1990-02-01 | 1991-09-03 | Komag, Inc. | Method for sputtering a hydrogen-doped carbon protective film on a magnetic disk |
| JPH06195691A (ja) * | 1992-10-28 | 1994-07-15 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1997
- 1997-09-12 JP JP9249147A patent/JPH1186275A/ja active Pending
-
1998
- 1998-09-09 US US09/149,863 patent/US6110584A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2000560A1 (en) | 1999-07-08 | 2008-12-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Hard coating and coated member |
| US6881475B2 (en) | 2001-06-13 | 2005-04-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Amorphous carbon coated tool and fabrication method thereof |
| US6962751B2 (en) * | 2001-06-13 | 2005-11-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Amorphous carbon coated tools and method of producing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6110584A (en) | 2000-08-29 |
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