JPH01166334A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01166334A JPH01166334A JP32462487A JP32462487A JPH01166334A JP H01166334 A JPH01166334 A JP H01166334A JP 32462487 A JP32462487 A JP 32462487A JP 32462487 A JP32462487 A JP 32462487A JP H01166334 A JPH01166334 A JP H01166334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- perpendicularly magnetized
- magnetic recording
- magnetized film
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- ABDBNWQRPYOPDF-UHFFFAOYSA-N carbonofluoridic acid Chemical compound OC(F)=O ABDBNWQRPYOPDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 abstract description 2
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910020647 Co-O Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910020704 Co—O Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910020517 Co—Ti Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009732 tufting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録として好適な垂直磁気記録用の
磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
近年、磁気記録の高密度化の進歩には著しいものがあり
、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実
用化に期待がかけられている〔アイイーイーイー トラ
ンプクシ3ンズ オン マグネティクス(I K g
E TRANSAC!Tl0)isON MAGN
KTIC8)vol、MAG 21 、 &3゜1
217〜1220(1985))。中でも、短波長にな
る程減磁損失が有利忙なる垂直磁気記録は、膜面に垂直
方向に磁化可能な特別な膜を必要とするものの実用化に
向は鋭意検討が続けられている。
、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実
用化に期待がかけられている〔アイイーイーイー トラ
ンプクシ3ンズ オン マグネティクス(I K g
E TRANSAC!Tl0)isON MAGN
KTIC8)vol、MAG 21 、 &3゜1
217〜1220(1985))。中でも、短波長にな
る程減磁損失が有利忙なる垂直磁気記録は、膜面に垂直
方向に磁化可能な特別な膜を必要とするものの実用化に
向は鋭意検討が続けられている。
垂直磁気記録用の磁気記録媒体は、co −cr 。
Co −Or −Wb 、 Co−Ni−−0等で垂直
方向に磁化可能な異方性をもった膜が、高分子フィルム
上に直接或いは、τi 、 Go 等の下地層を介し
て、形成されることで構成されるもので、実験室的には
スパッタリング法で薄膜形成が行われている。しかし周
知のごとく、スパッタリング法では、薄膜形成速度が小
さいことから、磁気テープとしての垂直磁気記録媒体を
製造するのには適さず、特性は必ずしも満足できないが
、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法等が高速
化の可能性が大きく、検討されている〔特開昭62−2
19234号公報、同62−219235号公報号公報
間が解決しようとする問題点 上記した構成で、あらかじめ高分子フィルムから十分ガ
スを放出させる前処理を行ったり、バックグラウンドの
真空度を改善する等により、均一性は改良される傾向に
はあるが、スパッタリング法で得られるような物性を均
一に大面積に渡って得るKは至っていないことから改善
が望まれていた。
方向に磁化可能な異方性をもった膜が、高分子フィルム
上に直接或いは、τi 、 Go 等の下地層を介し
て、形成されることで構成されるもので、実験室的には
スパッタリング法で薄膜形成が行われている。しかし周
知のごとく、スパッタリング法では、薄膜形成速度が小
さいことから、磁気テープとしての垂直磁気記録媒体を
製造するのには適さず、特性は必ずしも満足できないが
、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法等が高速
化の可能性が大きく、検討されている〔特開昭62−2
19234号公報、同62−219235号公報号公報
間が解決しようとする問題点 上記した構成で、あらかじめ高分子フィルムから十分ガ
スを放出させる前処理を行ったり、バックグラウンドの
真空度を改善する等により、均一性は改良される傾向に
はあるが、スパッタリング法で得られるような物性を均
一に大面積に渡って得るKは至っていないことから改善
が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、垂直磁化
膜の性能と均一性の両方共改善できる製造方法を提供す
るものである。
膜の性能と均一性の両方共改善できる製造方法を提供す
るものである。
問題点を解決するための手段
上記した問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、高分子フィルムに入射角70度以上で下地
層をイオンプレーティングにより形成した後、電子ビー
ム蒸着法により垂直磁化膜を形成するようにしたもので
ある。
製造方法は、高分子フィルムに入射角70度以上で下地
層をイオンプレーティングにより形成した後、電子ビー
ム蒸着法により垂直磁化膜を形成するようにしたもので
ある。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記した構成により
、高分子フィルム上に直接垂直磁化膜の形成を行う従来
法に対比して、下地層の結晶性が良好で均一な構成とで
きることから、垂直磁化膜の形成を低温で行っても十分
な特性を得られるようになり、高速で且つ大面積に渡っ
て均一な垂直磁化膜形成が行えることになる。
、高分子フィルム上に直接垂直磁化膜の形成を行う従来
法に対比して、下地層の結晶性が良好で均一な構成とで
きることから、垂直磁化膜の形成を低温で行っても十分
な特性を得られるようになり、高速で且つ大面積に渡っ
て均一な垂直磁化膜形成が行えることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について説
明する。図は本発明によって製造される磁気記録媒体の
拡大断面図で、図で1はポリエチレンテレフタレート6
ボリフエニレンサルフアイド、ポリイミド等の高分子フ
ィルムで必要に応じて、微粒子塗布層を配したものを用
いてもよい1.2は、Or 、 Ti 、 Mo
、 Si 、 Go等の下地層で高分子フィルムを巻取
りながら入射角70度以上でイオングレーティング法に
て形成されたものである。3はCo−0r 、 Go
−Ti 、 Go −0、Go −Mo 、 Go −
Ta 、 Co−Cr−Nb等の垂直磁化膜で、電子ビ
ーム蒸着法にて高速で形成される。4は保護潤滑剤層で
、プラズマ重合層、ダイアモンド状硬質炭素膜、 5i
02膜等とパーフルオロカルボン酸、パーフルオロポリ
エーテル等の積層体から成るものである。
明する。図は本発明によって製造される磁気記録媒体の
拡大断面図で、図で1はポリエチレンテレフタレート6
ボリフエニレンサルフアイド、ポリイミド等の高分子フ
ィルムで必要に応じて、微粒子塗布層を配したものを用
いてもよい1.2は、Or 、 Ti 、 Mo
、 Si 、 Go等の下地層で高分子フィルムを巻取
りながら入射角70度以上でイオングレーティング法に
て形成されたものである。3はCo−0r 、 Go
−Ti 、 Go −0、Go −Mo 、 Go −
Ta 、 Co−Cr−Nb等の垂直磁化膜で、電子ビ
ーム蒸着法にて高速で形成される。4は保護潤滑剤層で
、プラズマ重合層、ダイアモンド状硬質炭素膜、 5i
02膜等とパーフルオロカルボン酸、パーフルオロポリ
エーテル等の積層体から成るものである。
以下、更に具体的に実施例に基づいて製造した磁気記録
媒体の性能について比較例との対比で説明する。厚み1
1μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に溶液
塗布法で直径160人のEu2O,微粒子を3ケ/(μ
m)2 配し、直径60CMの円筒キャンを2ケ配設
した蒸着機により、イオンプレーティングと電子ビーム
蒸着を実施した。
媒体の性能について比較例との対比で説明する。厚み1
1μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に溶液
塗布法で直径160人のEu2O,微粒子を3ケ/(μ
m)2 配し、直径60CMの円筒キャンを2ケ配設
した蒸着機により、イオンプレーティングと電子ビーム
蒸着を実施した。
イオンプレーティングは、円筒キャンの直下に3ターン
の高周波コイルを配し、13.56(MHz)s3o(
w)の高周波電力を投入し、Orを蒸発させ、ムrを2
X 10−’(Torr )まで導入しり条件で、入
射角75度以上で200人形成されるよう調整し行った
。引き続き、もう一方の円筒キャンの直下303に配し
たCo−cr蒸発源より電子ビーム加熱蒸着で入射角1
0度以内の垂直蒸着を行い、0.2 μmのCo−0r
(Or 、 20.2 wt % )垂直磁化膜を形
成した。フィルムの巻取り速度は33 m/Xoin
で、幅40m、長さ2.200 mに渡って蒸着した
。次に溶液塗布法でモンテフルオス社裂のパーフルオロ
ポリエーテル′フォンブリンZ−25’を約60人塗布
し、8ミリ幅の磁気テープに加工した。
の高周波コイルを配し、13.56(MHz)s3o(
w)の高周波電力を投入し、Orを蒸発させ、ムrを2
X 10−’(Torr )まで導入しり条件で、入
射角75度以上で200人形成されるよう調整し行った
。引き続き、もう一方の円筒キャンの直下303に配し
たCo−cr蒸発源より電子ビーム加熱蒸着で入射角1
0度以内の垂直蒸着を行い、0.2 μmのCo−0r
(Or 、 20.2 wt % )垂直磁化膜を形
成した。フィルムの巻取り速度は33 m/Xoin
で、幅40m、長さ2.200 mに渡って蒸着した
。次に溶液塗布法でモンテフルオス社裂のパーフルオロ
ポリエーテル′フォンブリンZ−25’を約60人塗布
し、8ミリ幅の磁気テープに加工した。
一方比較例は、円筒キャン(直径1m)に沿わせて、幅
60tyl、長さ15αのCo −Or (Or :2
0.2Wt係)ターゲットを4枚配し、13.56(M
Hz) 3KWX4の電力を投入し、巻取り速度0.
5 (m/min )で0.211mのGo−Or垂直
磁化膜を形成した以外は、実施例に用いたフィルムを用
い、微粒子塗布、潤滑剤塗布は同じ材料で製造した。夫
々8ミリ幅で長さ9077jの磁気テープを任意の15
巻を抽出し、改造した8ミリビデオにより比較評価した
。
60tyl、長さ15αのCo −Or (Or :2
0.2Wt係)ターゲットを4枚配し、13.56(M
Hz) 3KWX4の電力を投入し、巻取り速度0.
5 (m/min )で0.211mのGo−Or垂直
磁化膜を形成した以外は、実施例に用いたフィルムを用
い、微粒子塗布、潤滑剤塗布は同じ材料で製造した。夫
々8ミリ幅で長さ9077jの磁気テープを任意の15
巻を抽出し、改造した8ミリビデオにより比較評価した
。
ギヤ・ソフ長0.12μmのメタルインギヤ・ツブのセ
ンダストヘッドにより、ビット長0.2μmの矩形波を
記録し帯域10 (MHz )のC/Nを測定した。実
施例の1巻をレファレンスとしてこのC/Nを0(dB
)とした時、実施例の16巻は−0,2(dB)から+
o、7(dB)の範囲で、平均値は+0.2(dB)で
あった。一方比較例は、−o、4(dB)から+0.6
(dB)で平均値は+0.1(+iB)であった。
ンダストヘッドにより、ビット長0.2μmの矩形波を
記録し帯域10 (MHz )のC/Nを測定した。実
施例の1巻をレファレンスとしてこのC/Nを0(dB
)とした時、実施例の16巻は−0,2(dB)から+
o、7(dB)の範囲で、平均値は+0.2(dB)で
あった。一方比較例は、−o、4(dB)から+0.6
(dB)で平均値は+0.1(+iB)であった。
以上より実施例はスパッタリング法に対比して高速で、
同等の性能、均一性を得ていることがわかる。
同等の性能、均一性を得ていることがわかる。
尚入射角が70’以下であっても結晶性の均一性は改善
できるが、下地層を厚くする必要があり、へ、フドタフ
チを態化させるので、C/Nは逆にばらつく原因となる
ので、70°以下で下地層を高々360人までで構成す
るのが好ましい。
できるが、下地層を厚くする必要があり、へ、フドタフ
チを態化させるので、C/Nは逆にばらつく原因となる
ので、70°以下で下地層を高々360人までで構成す
るのが好ましい。
発明の効果
以北のように本発明によれば、均一で高性能な垂直磁気
記録用の磁気記録媒体が高速で得られるといったすぐれ
た効果がある。
記録用の磁気記録媒体が高速で得られるといったすぐれ
た効果がある。
図は本発明の製造方法によって得られる磁気記録媒体の
拡大断面図である。 1・・・・・・高分子フィルム、2・・・・・・下地層
、3・・・・・・垂直磁化膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名/−
−−高分子フィルム ?−−下戴1 3−一一食運磁化裏
拡大断面図である。 1・・・・・・高分子フィルム、2・・・・・・下地層
、3・・・・・・垂直磁化膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名/−
−−高分子フィルム ?−−下戴1 3−一一食運磁化裏
Claims (1)
- 高分子フィルムに入射角70°以上で下地層をイオンプ
レーティングで形成後、電子ビーム蒸着法により垂直磁
化膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32462487A JPH01166334A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32462487A JPH01166334A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01166334A true JPH01166334A (ja) | 1989-06-30 |
Family
ID=18167895
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32462487A Pending JPH01166334A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01166334A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03207014A (ja) * | 1990-01-10 | 1991-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-12-22 JP JP32462487A patent/JPH01166334A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03207014A (ja) * | 1990-01-10 | 1991-09-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5496632A (en) | Magnetic recording medium and manufacturing method thereof | |
JPH01166334A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2819839B2 (ja) | 磁気ディスク用基板およびそれを用いた磁気記録媒体 | |
JPS619821A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2808738B2 (ja) | 薄膜磁気記録媒体 | |
JPH01176327A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
JP3520751B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法及びそれを使用した記憶装置 | |
JPS62229526A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2529395B2 (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2626051B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH1011735A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS6267728A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH01320619A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH01166332A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS6378339A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH01204214A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH02312013A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JPH0121527B2 (ja) | ||
JPH04232613A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPS63251934A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS63275041A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS63102027A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH02141922A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH01320638A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JPH08129752A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |