JPH08129752A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH08129752A JPH08129752A JP28876594A JP28876594A JPH08129752A JP H08129752 A JPH08129752 A JP H08129752A JP 28876594 A JP28876594 A JP 28876594A JP 28876594 A JP28876594 A JP 28876594A JP H08129752 A JPH08129752 A JP H08129752A
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- Japan
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- magnetic
- recording medium
- magnetic recording
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 鏡面基板を用いた磁気ディスクであっても、
磁気特性の良い高密度化に適した記録媒体を得られるよ
うにする。 【構成】 スパッタリング法により、円形の鏡面ガラス
基板上にＣｒの下地層を介してＣｏＳｍ合金を含む磁性
膜を設けた磁気ディスクの製造方法であって、スパッタ
リング後に円周方向に外部磁界を印加し、その後、真空
装置内で加熱することにより、円周方向に一軸異方性を
持たせて、高密度化に適した磁気ディスクを得る。
磁気特性の良い高密度化に適した記録媒体を得られるよ
うにする。 【構成】 スパッタリング法により、円形の鏡面ガラス
基板上にＣｒの下地層を介してＣｏＳｍ合金を含む磁性
膜を設けた磁気ディスクの製造方法であって、スパッタ
リング後に円周方向に外部磁界を印加し、その後、真空
装置内で加熱することにより、円周方向に一軸異方性を
持たせて、高密度化に適した磁気ディスクを得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク、磁気テ
−プ等の磁気記録媒体の製造方法に関する。
−プ等の磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化により、より
高い保磁力（Ｈｃ）を有する面内型磁気記録媒体が望ま
れている。このような要望に答えるものの一例として、
本願出願人は先に基板加熱を行わずにＣｒの下地層上に
ＣｏＳｍからなる磁性層を成膜した磁気記録媒体の提案
を行った（特願平６４−１５７９９５号）。
高い保磁力（Ｈｃ）を有する面内型磁気記録媒体が望ま
れている。このような要望に答えるものの一例として、
本願出願人は先に基板加熱を行わずにＣｒの下地層上に
ＣｏＳｍからなる磁性層を成膜した磁気記録媒体の提案
を行った（特願平６４−１５７９９５号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来より磁
性層の磁化方向を考慮することにより、磁気特性を向上
できることは周知のとおりである。上述の磁気記録媒体
を例にとれば、下地層であるＣｒの特定の結晶性を上
げ、その結果として下地層上に成長するＣｏの磁化容易
軸であるＣ軸を面内方向に向けるようにすれば、高い保
磁力が得られることになる。
性層の磁化方向を考慮することにより、磁気特性を向上
できることは周知のとおりである。上述の磁気記録媒体
を例にとれば、下地層であるＣｒの特定の結晶性を上
げ、その結果として下地層上に成長するＣｏの磁化容易
軸であるＣ軸を面内方向に向けるようにすれば、高い保
磁力が得られることになる。
【０００４】ところが、前記低温加熱による磁気記録媒
体にあっては、Ｘ線解析によっては、その磁性層の構造
が結晶構造となっているか否かがはっきりせず、まして
結晶軸の方向性についても分かっていない。
体にあっては、Ｘ線解析によっては、その磁性層の構造
が結晶構造となっているか否かがはっきりせず、まして
結晶軸の方向性についても分かっていない。
【０００５】また一方、最近では、より高密度化を図る
ため、磁気ディスクの面振れ、再生効率等を考慮して、
ヘッドの浮上量を低下させる工夫が行われている。その
結果、表面突起物の極めて少ないガラス基板等の鏡面基
板が用いられるようになってきている。
ため、磁気ディスクの面振れ、再生効率等を考慮して、
ヘッドの浮上量を低下させる工夫が行われている。その
結果、表面突起物の極めて少ないガラス基板等の鏡面基
板が用いられるようになってきている。
【０００６】しかし、このような鏡面基板は、その上面
にテクスチャ−リング処理が施されていないことから、
一方向の磁気異方性を持たせることができず、所望の磁
気特性が得られないという問題があった。例えば、文献
ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ，ＶｏＬ．ＭＡＧ
- 19，Ｎｏ．５，１９５５（１９８３）には、ＣｏＳｍ
の成膜に際して、スパッタ時のマグネトロン磁界により
ディスクの半径方向に一軸異方性が発生することが示さ
れいるが、磁気ディスクに適用する場合には、半径方向
に磁化容易軸が向いてしまうと円周方向の磁気特性が著
しく劣化し、高密度の磁気記録媒体として適していない
ものである。
にテクスチャ−リング処理が施されていないことから、
一方向の磁気異方性を持たせることができず、所望の磁
気特性が得られないという問題があった。例えば、文献
ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ，ＶｏＬ．ＭＡＧ
- 19，Ｎｏ．５，１９５５（１９８３）には、ＣｏＳｍ
の成膜に際して、スパッタ時のマグネトロン磁界により
ディスクの半径方向に一軸異方性が発生することが示さ
れいるが、磁気ディスクに適用する場合には、半径方向
に磁化容易軸が向いてしまうと円周方向の磁気特性が著
しく劣化し、高密度の磁気記録媒体として適していない
ものである。
【０００７】また、特開昭５５−１２５５３３号には、
ＣｏＳｍの成膜に際して、蒸着時に５ＫＡ／ｍ以上の磁
界を印加することで一軸異方性が発生することが示され
ている。
ＣｏＳｍの成膜に際して、蒸着時に５ＫＡ／ｍ以上の磁
界を印加することで一軸異方性が発生することが示され
ている。
【０００８】しかし、真空装置内に磁界を発生させる装
置を設けると、蒸着法による場合には電子ビ−ムに悪影
響が生じてしまう。また、スパッタリング法による場合
には、マグネトロンスパッタに悪影響を与えてしまう。
更に、下地層にＣｒが設けられている場合にはどのよう
な影響があるかが分っていないと言う問題がある。
置を設けると、蒸着法による場合には電子ビ−ムに悪影
響が生じてしまう。また、スパッタリング法による場合
には、マグネトロンスパッタに悪影響を与えてしまう。
更に、下地層にＣｒが設けられている場合にはどのよう
な影響があるかが分っていないと言う問題がある。
【０００９】本発明は、このような問題点を解決して、
ヘッドの低浮上量化に適した鏡面構造の磁気ディスクで
あっても、高密度の磁気記録媒体が得られる製造方法を
提供することを目的とするものである。
ヘッドの低浮上量化に適した鏡面構造の磁気ディスクで
あっても、高密度の磁気記録媒体が得られる製造方法を
提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、以下の１）〜３）に記載の手段を提供す
る。すなわち、 １）スパッタリング法により、非磁性鏡面基板上にＣｒ
の下地層を介してＣｏＳｍ合金を含む磁性膜を設けた磁
気記録媒体の製造方法において、スパッタリング後に前
記合金の一軸異方性を発生させたい方向に外部磁界を印
加し、その後、真空装置内で加熱することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
成するために、以下の１）〜３）に記載の手段を提供す
る。すなわち、 １）スパッタリング法により、非磁性鏡面基板上にＣｒ
の下地層を介してＣｏＳｍ合金を含む磁性膜を設けた磁
気記録媒体の製造方法において、スパッタリング後に前
記合金の一軸異方性を発生させたい方向に外部磁界を印
加し、その後、真空装置内で加熱することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
【００１１】２）印加磁界を磁性膜の保磁力以上にする
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方
法。
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方
法。
【００１２】３） 加熱温度を５０℃以上３００℃以下
にすることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の
製造方法。
にすることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の
製造方法。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の各実施例につき説明する。 ＜実施例１＞本実施例では、６インチのＤＣマグネトロ
ンスパッタ装置に、３．５インチのガラス基板（Ｒａ＝
１５オングストロ−ム）を取りつけ、到達真空速度２．
５＊１０-7Ｔｏｒｒまで排気する。
ンスパッタ装置に、３．５インチのガラス基板（Ｒａ＝
１５オングストロ−ム）を取りつけ、到達真空速度２．
５＊１０-7Ｔｏｒｒまで排気する。
【００１４】基板とタ−ゲット間の距離を１１０ｍｍ、
アルゴンスパッタ圧を３ｍＴｏｒｒ、基板温度を１７℃
として、基板上にＣｒを１０００オングストロ−ム成膜
する。
アルゴンスパッタ圧を３ｍＴｏｒｒ、基板温度を１７℃
として、基板上にＣｒを１０００オングストロ−ム成膜
する。
【００１５】続いて、Ｃｏ76Ｓｍ24（ａｔ％表示）を４
００オングストロ−ム成膜し、最後にＣｒを６０オング
ストロ−ム成膜して所定の記録媒体とする。次に、この
記録媒体をスパッタ装置から取り出す。ガラスディスク
のＲ３５ｍｍの箇所で１０＊１０ｍｍのサンプルに切り
出す。このサンプルで円周方向に相当する方向に徐々に
磁界をかけ１０ＫＯｅまで印加する。その後、磁界を０
に戻す。磁界を一方向に印加されたサンプルを真空加熱
炉に入れ、１＊１０-5Ｔｏｒｒ、２５０℃の条件下で２
時間加熱して、所定の記録媒体を得る。
００オングストロ−ム成膜し、最後にＣｒを６０オング
ストロ−ム成膜して所定の記録媒体とする。次に、この
記録媒体をスパッタ装置から取り出す。ガラスディスク
のＲ３５ｍｍの箇所で１０＊１０ｍｍのサンプルに切り
出す。このサンプルで円周方向に相当する方向に徐々に
磁界をかけ１０ＫＯｅまで印加する。その後、磁界を０
に戻す。磁界を一方向に印加されたサンプルを真空加熱
炉に入れ、１＊１０-5Ｔｏｒｒ、２５０℃の条件下で２
時間加熱して、所定の記録媒体を得る。
【００１６】＜実施例２＞磁界強度を３ＫＯｅとする以
外は、実施例１と同様の製造法で作成した記録媒体であ
る。
外は、実施例１と同様の製造法で作成した記録媒体であ
る。
【００１７】＜実施例３＞同様に、加熱温度を７０℃と
する以外は、実施例１と同様の製造方法で作成した記録
媒体である。
する以外は、実施例１と同様の製造方法で作成した記録
媒体である。
【００１８】＜実施例４＞同様に、加熱時間を１５分と
する以外は、実施例１と同様の製造方法で作成した記録
媒体である。
する以外は、実施例１と同様の製造方法で作成した記録
媒体である。
【００１９】＜実施例５＞同様に、磁性膜の組成をＣｏ
85Ｓｍ15加熱時間を１５分とする以外は、実施例１と同
様の製造方法で作成した記録媒体である。
85Ｓｍ15加熱時間を１５分とする以外は、実施例１と同
様の製造方法で作成した記録媒体である。
【００２０】＜比較例１＞磁界を印加しない以外は、実
施例１と同様の製造方法で作成した記録媒体である。
施例１と同様の製造方法で作成した記録媒体である。
【００２１】このように製造した各記録媒体の磁気特性
の測定結果を表１に示す。この測定は、振動試料型磁力
計（ＶＳＭ）を用い、磁界を印加した円周方向と等しい
方向と、それと直角方向である半径方向の２方向との測
定デ−タを夫々示したものである。
の測定結果を表１に示す。この測定は、振動試料型磁力
計（ＶＳＭ）を用い、磁界を印加した円周方向と等しい
方向と、それと直角方向である半径方向の２方向との測
定デ−タを夫々示したものである。
【００２２】
【表１】
【００２３】これらの表から、比較例１に示した記録媒
体の磁気特性は、円周方向、半径方向ともに同じ値を示
している。また、面内において磁気異方性の発生がある
かを調べたが面内で等方的であることが分かった。
体の磁気特性は、円周方向、半径方向ともに同じ値を示
している。また、面内において磁気異方性の発生がある
かを調べたが面内で等方的であることが分かった。
【００２４】これに対して、各実施例１〜５の磁気記録
媒体は、円周方向の磁気特性が半径方向の磁気特性を上
回っている。面内での磁気異方性の方向性を詳しく調べ
てみると、磁化容易軸方向が円周方向に向いていること
が確認された。
媒体は、円周方向の磁気特性が半径方向の磁気特性を上
回っている。面内での磁気異方性の方向性を詳しく調べ
てみると、磁化容易軸方向が円周方向に向いていること
が確認された。
【００２５】これらの実施例では、磁場印加装置の都合
上、１０＊１０ｍｍのサンプルを使用したが、実際の磁
気ディスクの作成にあたっては、ディスク基板の円周方
向に磁界を印加することで、ヘッド走行方向である円周
方向に一軸異方性を持たせることができる。
上、１０＊１０ｍｍのサンプルを使用したが、実際の磁
気ディスクの作成にあたっては、ディスク基板の円周方
向に磁界を印加することで、ヘッド走行方向である円周
方向に一軸異方性を持たせることができる。
【００２６】印加する磁界の強度は、制作した磁気記録
媒体の保磁力Ｈｃ以上であれば良い。 従って、３ＫＯ
ｅ以上であれば十分であるが、Ｈｃが小さければ更に印
加磁界を小さくしても良い。
媒体の保磁力Ｈｃ以上であれば良い。 従って、３ＫＯ
ｅ以上であれば十分であるが、Ｈｃが小さければ更に印
加磁界を小さくしても良い。
【００２７】熱処理温度は、高温であれば１５分程度の
短時間でも磁気異方性が発生する。従って、基板材料の
耐熱性に合わせて設定が可能であり、テ−プのような耐
熱性の悪いものにも適用が可能である。
短時間でも磁気異方性が発生する。従って、基板材料の
耐熱性に合わせて設定が可能であり、テ−プのような耐
熱性の悪いものにも適用が可能である。
【００２８】基板熱処理温度は、あまり温度が低くすぎ
ると磁気異方性が発生しにくく、逆にあまり温度が高す
ぎると保磁力の低下が目立ち、５０℃〜３００℃の範囲
が適温である。
ると磁気異方性が発生しにくく、逆にあまり温度が高す
ぎると保磁力の低下が目立ち、５０℃〜３００℃の範囲
が適温である。
【００２９】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、鏡面基板上
に一軸異方性を有する磁性層を設けることができ、磁気
ヘッドの低浮上量化に際しても、磁気特性の良い高密度
化に適した磁気記録媒体を提供できる。
に一軸異方性を有する磁性層を設けることができ、磁気
ヘッドの低浮上量化に際しても、磁気特性の良い高密度
化に適した磁気記録媒体を提供できる。
Claims (3)
- 【請求項１】スパッタリング法により、非磁性鏡面基板
上にＣｒの下地層を介してＣｏＳｍ合金を含む磁性膜を
設けた磁気記録媒体の製造方法において、スパッタリン
グ後に前記合金の一軸異方性を発生させたい方向に外部
磁界を印加し、その後、真空装置内で加熱することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】印加磁界を磁性膜の保磁力以上にすること
を特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】加熱温度を５０℃以上３００℃以下にする
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28876594A JPH08129752A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28876594A JPH08129752A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08129752A true JPH08129752A (ja) | 1996-05-21 |
Family
ID=17734427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28876594A Pending JPH08129752A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08129752A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105755439A (zh) * | 2016-04-13 | 2016-07-13 | 北京工商大学 | 一种SmCo合金薄膜及其制备方法 |
-
1994
- 1994-10-28 JP JP28876594A patent/JPH08129752A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105755439A (zh) * | 2016-04-13 | 2016-07-13 | 北京工商大学 | 一种SmCo合金薄膜及其制备方法 |
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