JPS6356609B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6356609B2 JPS6356609B2 JP56156136A JP15613681A JPS6356609B2 JP S6356609 B2 JPS6356609 B2 JP S6356609B2 JP 56156136 A JP56156136 A JP 56156136A JP 15613681 A JP15613681 A JP 15613681A JP S6356609 B2 JPS6356609 B2 JP S6356609B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- recording
- heat treatment
- magnetic
- anisotropy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/656—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing Co
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高品質、高性能な垂直磁気デイスクの
作製方法に関するものである。
作製方法に関するものである。
垂直磁気記録は従来の水平磁気記録よりも高密
度記録が可能な記録方式として期待されている。
度記録が可能な記録方式として期待されている。
従来の垂直記録用媒体としてはスパツタ法によ
り作製したCo−Cr膜（エス．イワサキ他、IEEE
Trans on Mag.Vol.MAG−14，No.５，pp849〜
pp851，1978）、スパツタ法で作製したCo−Cr−
Rh膜（26 th Annual Conference on
Magnetism and Magnetic Materials.FC−２
No.Ｖ，1980）、無電解メツキで作製したCo−Mn
−Ｐ膜（日刊工業新聞’81／３／18）、対向ター
ゲツト式スパツタ法によるCo−Cr膜（電子通信
学会磁気記録研究会MR80−29）、蒸着によるCo
−Cr膜（ワイ．ヤエダ、JJAP Vol.20 No.７，
pp.L467〜L469.1981）、スパツタ法によるCo−
Ru（エス．ヒロノ、JJAP Vol.20，No.８ pp.
L571.−L574.1981）等である。これらの垂直媒体
に共通していることはCoの合金であることと、
作製法によらず作製した状態での膜を記録媒体と
して使用することである。即ち、本来持つている
すぐれた特性を作製条件だけで引き出そうとして
いるため作製条件が非常に厳しくなつていること
と（たとえばスパツタ時の真空度、ガス圧、基板
温度、スパツタ速度等のマージンが狭い）、また
出来上つた媒体の磁気記録上の特性も制限されて
いるという欠点を有していた。
り作製したCo−Cr膜（エス．イワサキ他、IEEE
Trans on Mag.Vol.MAG−14，No.５，pp849〜
pp851，1978）、スパツタ法で作製したCo−Cr−
Rh膜（26 th Annual Conference on
Magnetism and Magnetic Materials.FC−２
No.Ｖ，1980）、無電解メツキで作製したCo−Mn
−Ｐ膜（日刊工業新聞’81／３／18）、対向ター
ゲツト式スパツタ法によるCo−Cr膜（電子通信
学会磁気記録研究会MR80−29）、蒸着によるCo
−Cr膜（ワイ．ヤエダ、JJAP Vol.20 No.７，
pp.L467〜L469.1981）、スパツタ法によるCo−
Ru（エス．ヒロノ、JJAP Vol.20，No.８ pp.
L571.−L574.1981）等である。これらの垂直媒体
に共通していることはCoの合金であることと、
作製法によらず作製した状態での膜を記録媒体と
して使用することである。即ち、本来持つている
すぐれた特性を作製条件だけで引き出そうとして
いるため作製条件が非常に厳しくなつていること
と（たとえばスパツタ時の真空度、ガス圧、基板
温度、スパツタ速度等のマージンが狭い）、また
出来上つた媒体の磁気記録上の特性も制限されて
いるという欠点を有していた。
本発明はこれらの欠点を除去するために、スパ
ツタ法、蒸着法あるいは電着法によつて作製した
コバルト合金膜を熱処理することにより、特性を
大幅に改善するものであり、これによつて高品
質、高性能な磁気記録媒体を提供することを目的
とする。
ツタ法、蒸着法あるいは電着法によつて作製した
コバルト合金膜を熱処理することにより、特性を
大幅に改善するものであり、これによつて高品
質、高性能な磁気記録媒体を提供することを目的
とする。
垂直磁気記録媒体の性能の指針を与える物理量
は膜面に対して垂直方向の磁気異方性の強さ、即
ち垂直磁気異方性であり、この量が大きければ大
きい程高記録密度、高出力、高SN比の記録媒体
となる。第１図は東北大岩崎教授によつて示され
たものであり（電子通信学会磁気記録研究会
MR81−４〜８）垂直異方性磁界HK（HK＝2K
⊥／MS，Ｋ⊥は垂直磁気異方性定数、MSは飽和
磁化）に対するD50（再生時に出力が半分となる
記録密度であり、KBPIとはキロビツト／インチ
である）を示したものであり、HKが大きい程記
録密度も大きくなるのがわかる。ｇはリングヘツ
ドのギヤツプ長であり、△印はシングルポールヘ
ツド（Single−pole−head）使用、〇印はリング
ヘツド（Ring head）使用の場合である。又記録
密度の限界を与れる磁壁の幅ＤはＤ∝１／√⊥
となりＫ⊥が大きい程小さくなることも周知であ
る。垂直磁気異方性定数Ｋ⊥は温度、時間など熱
処理条件によつて変化する。以下実施例について
説明する。
は膜面に対して垂直方向の磁気異方性の強さ、即
ち垂直磁気異方性であり、この量が大きければ大
きい程高記録密度、高出力、高SN比の記録媒体
となる。第１図は東北大岩崎教授によつて示され
たものであり（電子通信学会磁気記録研究会
MR81−４〜８）垂直異方性磁界HK（HK＝2K
⊥／MS，Ｋ⊥は垂直磁気異方性定数、MSは飽和
磁化）に対するD50（再生時に出力が半分となる
記録密度であり、KBPIとはキロビツト／インチ
である）を示したものであり、HKが大きい程記
録密度も大きくなるのがわかる。ｇはリングヘツ
ドのギヤツプ長であり、△印はシングルポールヘ
ツド（Single−pole−head）使用、〇印はリング
ヘツド（Ring head）使用の場合である。又記録
密度の限界を与れる磁壁の幅ＤはＤ∝１／√⊥
となりＫ⊥が大きい程小さくなることも周知であ
る。垂直磁気異方性定数Ｋ⊥は温度、時間など熱
処理条件によつて変化する。以下実施例について
説明する。
〔実施例 １〕
第２図は本発明の一実施例であり、スパツタ法
で作製した16at％Crを入れたCo合金膜のＫ⊥を
熱処理温度に対して示したものである。スパツタ
は通常の２極RFスパツタで行ない、基板温度130
℃、膜生成速度は80Å／分、膜厚1μｍである。
垂直異方性Ｋ⊥はトルクメーターにより次のよう
にして測定した。トルク曲線をフーリエ解析し、
膜の垂直方向を容易軸とする一軸異方性定数Ｋを
求める。反磁場による異方性2πMS 2とＫ，Ｋ⊥の
関係はＫ＝Ｋ⊥−2πMS 2となる。
で作製した16at％Crを入れたCo合金膜のＫ⊥を
熱処理温度に対して示したものである。スパツタ
は通常の２極RFスパツタで行ない、基板温度130
℃、膜生成速度は80Å／分、膜厚1μｍである。
垂直異方性Ｋ⊥はトルクメーターにより次のよう
にして測定した。トルク曲線をフーリエ解析し、
膜の垂直方向を容易軸とする一軸異方性定数Ｋを
求める。反磁場による異方性2πMS 2とＫ，Ｋ⊥の
関係はＫ＝Ｋ⊥−2πMS 2となる。
したがつてＫ⊥＝Ｋ＋2πMS 2となり、MSを別
の方法（試料振動式磁力計）で求めてＫ⊥を算出
した。
の方法（試料振動式磁力計）で求めてＫ⊥を算出
した。
熱処理はArガス雰囲気の電気炉で各温度で２
時間行なつた。試料のCo−Cr合金の融点は1480
℃であり、処理温度は、融点の1/3〜1/2である
500℃〜750℃で、これによりＫ⊥は処理前に比べ
３〜４倍近く増加しているのが判る。熱処理の効
果は歪みの緩和、結晶性の向上、等が起るためと
考えられる。
時間行なつた。試料のCo−Cr合金の融点は1480
℃であり、処理温度は、融点の1/3〜1/2である
500℃〜750℃で、これによりＫ⊥は処理前に比べ
３〜４倍近く増加しているのが判る。熱処理の効
果は歪みの緩和、結晶性の向上、等が起るためと
考えられる。
〔実施例 ２〕
真空蒸着法によつて作製した18.5at％Cr−Co
膜も同様の効果があつた。蒸着は基板温度130〜
370℃、膜厚0.8μｍ、真空度５×10-7Torr、蒸着
速度200〜3000Å／分で行なつた。初期状態で0.5
×106erg／c.c.であつたＫ⊥は500℃、２時間の熱
処理により２×106erg／c.c.に増加した。熱処理条
件は実施例１と同じである。
膜も同様の効果があつた。蒸着は基板温度130〜
370℃、膜厚0.8μｍ、真空度５×10-7Torr、蒸着
速度200〜3000Å／分で行なつた。初期状態で0.5
×106erg／c.c.であつたＫ⊥は500℃、２時間の熱
処理により２×106erg／c.c.に増加した。熱処理条
件は実施例１と同じである。
〔実施例 ３〕
スパツタ法により作製した30at％Ruを含んだ
Co合金膜も同様であつた。スパツタは５〜８×
10-2Torrアルゴン雰囲気、速度200〜230Å／分、
RFパワー１−4W／cm2、基板温度20〜200℃でガ
ラス基板上に膜厚2μｍになるように行なつた。
30at％Ru−Coの融点は1800℃であり500℃の熱処
理では効果なかつた。処理前に2.5×105erg／c.c.
であつたＫ⊥が、600℃の熱処理により６×
105erg／c.c.に増加した。処理条件は前例と同じで
ある。
Co合金膜も同様であつた。スパツタは５〜８×
10-2Torrアルゴン雰囲気、速度200〜230Å／分、
RFパワー１−4W／cm2、基板温度20〜200℃でガ
ラス基板上に膜厚2μｍになるように行なつた。
30at％Ru−Coの融点は1800℃であり500℃の熱処
理では効果なかつた。処理前に2.5×105erg／c.c.
であつたＫ⊥が、600℃の熱処理により６×
105erg／c.c.に増加した。処理条件は前例と同じで
ある。
〔実施例 ４〕
RFスパツタ法により100mm径の石英ガラス基板
上に16at％Cr−Co膜を付着した磁気デイスクを
用い記録再生特性を測定した。第３図は本磁気デ
イスクを前記方法により熱処理し、その処理温度
に対する記録密度を測定したものである。用いた
リングヘツドの幅は0.2μｍである。D50は線記録
密度であり、bpmはビツト／mmの意味である。用
いたヘツドはギヤツプ長が0.2μｍのリングヘツド
である。第２図と良く対応しており、Ｋ⊥の増加
と共に記録密度も向上していることが判る。
上に16at％Cr−Co膜を付着した磁気デイスクを
用い記録再生特性を測定した。第３図は本磁気デ
イスクを前記方法により熱処理し、その処理温度
に対する記録密度を測定したものである。用いた
リングヘツドの幅は0.2μｍである。D50は線記録
密度であり、bpmはビツト／mmの意味である。用
いたヘツドはギヤツプ長が0.2μｍのリングヘツド
である。第２図と良く対応しており、Ｋ⊥の増加
と共に記録密度も向上していることが判る。
〔実施例 ５〕
実施例１と同じ方法で、ただし基板温度だけ
350℃として作製したCo−Cr膜は、そのままでは
垂直異方性を示さない。しかし500℃で２時間熱
処理することにより２×106erg／c.c.のＫが表れ
た。
350℃として作製したCo−Cr膜は、そのままでは
垂直異方性を示さない。しかし500℃で２時間熱
処理することにより２×106erg／c.c.のＫが表れ
た。
熱処理雰囲気はアルゴンの如き不活性ガスでな
く真空雰囲気でもよい。
く真空雰囲気でもよい。
以上説明した様に本発明方法によれば、垂直磁
化膜の垂直異方性を大幅に増加させることができ
る。また作製当初垂直異方性を示さない膜も本方
法により垂直記録媒体として使用できる。したが
つて垂直記録媒体を作製する場合本発明方法を用
いることにより記録密度の向上が計れる、媒体作
製条件が大幅に緩和される等の利点がある。本発
明方法は将来の大容量フアイル記憶媒体のみなら
ず、フレキシブルデイスク、磁気テープ等垂直磁
気記録方式を採用する分野において多大な貢献を
なすものである。
化膜の垂直異方性を大幅に増加させることができ
る。また作製当初垂直異方性を示さない膜も本方
法により垂直記録媒体として使用できる。したが
つて垂直記録媒体を作製する場合本発明方法を用
いることにより記録密度の向上が計れる、媒体作
製条件が大幅に緩和される等の利点がある。本発
明方法は将来の大容量フアイル記憶媒体のみなら
ず、フレキシブルデイスク、磁気テープ等垂直磁
気記録方式を採用する分野において多大な貢献を
なすものである。
第１図は垂直異方性定数HKと記録密度D50のデ
ータ。第２図は本発明方法の一実施例を示すもの
で、垂直異方性定数Ｋ⊥と熱処理温度との関係を
示す。第３図は本発明の他の実施例を示す。
ータ。第２図は本発明方法の一実施例を示すもの
で、垂直異方性定数Ｋ⊥と熱処理温度との関係を
示す。第３図は本発明の他の実施例を示す。
Claims (1)
- １ 垂直磁気異方性を有するコバルト合金薄膜を
該コバルト合金の融点（℃）の1/3〜1/2の温度で
非酸化性雰囲気中で熱処理することを特徴とする
垂直磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56156136A JPS5857623A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56156136A JPS5857623A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5857623A JPS5857623A (ja) | 1983-04-05 |
| JPS6356609B2 true JPS6356609B2 (ja) | 1988-11-08 |
Family
ID=15621106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56156136A Granted JPS5857623A (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857623A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3437324A1 (de) * | 1984-10-11 | 1986-04-24 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren und vorrichtung zur regelung der leerlaufdrehzahl bei brennkraftmaschinen |
| JPS62261640A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-13 | Mitsubishi Electric Corp | 内燃機関用燃料噴射制御装置の故障時制御装置 |
-
1981
- 1981-10-02 JP JP56156136A patent/JPS5857623A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5857623A (ja) | 1983-04-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3143611B2 (ja) | 磁気薄膜媒体用の超薄核形成層および該層の製造方法 | |
| JPH0414411B2 (ja) | ||
| JPH1196534A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法ならびに磁気ディスク装置 | |
| JP2001344740A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| JP2991672B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63237210A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6356609B2 (ja) | ||
| JPH0323972B2 (ja) | ||
| JPS61276116A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH08180360A (ja) | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
| JPH0268716A (ja) | 磁気ディスク媒体の製造方法 | |
| JPH0817032A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH09265619A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記憶装置 | |
| JPH10289437A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| JP2000339657A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0757237A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| US20050158883A1 (en) | Multilayered structure film and method of making the same | |
| JP3658586B2 (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記憶装置 | |
| JP4342793B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法及び垂直磁気記録ディスク | |
| JPS59157828A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08129752A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59157829A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0573877A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2001110030A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH10229012A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |