JPH02236815A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH02236815A JPH02236815A JP5720089A JP5720089A JPH02236815A JP H02236815 A JPH02236815 A JP H02236815A JP 5720089 A JP5720089 A JP 5720089A JP 5720089 A JP5720089 A JP 5720089A JP H02236815 A JPH02236815 A JP H02236815A
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Landscapes
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は磁気記録媒体に関する。史に詳細には、本発明
は高保持力を有する磁気記録媒体およびその製造方法に
関する。
は高保持力を有する磁気記録媒体およびその製造方法に
関する。
[従来の技術]
従来から一般に前及している磁気記録媒体は、針杖の磁
性粉と高分子結合剤とを上体とする磁性塗料を非磁性基
体[・,に塗布して磁性層を形成した塗布型の磁気記録
媒体である。
性粉と高分子結合剤とを上体とする磁性塗料を非磁性基
体[・,に塗布して磁性層を形成した塗布型の磁気記録
媒体である。
現在、磁気記録11I生装置はますます高密度化の傾向
にあり、短波長記録特性に優れた磁気記録媒体が要望さ
れている。
にあり、短波長記録特性に優れた磁気記録媒体が要望さ
れている。
しかし、塗布型磁気記録媒体における短波長記録特性の
改善には限界がある。これに対して、Coを]ミ成分と
する強磁性体を真空蒸着,スパッタリング,またはイオ
ンプレーティング等のいわゆる物理蒸着法によって非磁
性基体一l−に形成する金属薄膜型の磁気記録媒体は、
その磁性層中に非磁性の結合剤が混入されていないので
著しく高い残留磁束密度を得ることができ、かつ、磁性
層を極めて薄く形成することができるために、高出力で
短波長応答性に優れているという利点を有する。
改善には限界がある。これに対して、Coを]ミ成分と
する強磁性体を真空蒸着,スパッタリング,またはイオ
ンプレーティング等のいわゆる物理蒸着法によって非磁
性基体一l−に形成する金属薄膜型の磁気記録媒体は、
その磁性層中に非磁性の結合剤が混入されていないので
著しく高い残留磁束密度を得ることができ、かつ、磁性
層を極めて薄く形成することができるために、高出力で
短波長応答性に優れているという利点を有する。
[発明が解決しようとする課題コ
従来の金属薄膜型磁気記録媒体では、保持力を高めるた
め、例えば、長L記録ではCoの酸素雰囲気中斜め蒸着
法、あるいは、垂直記録ではCoCr合金蒸着が提案さ
れている。
め、例えば、長L記録ではCoの酸素雰囲気中斜め蒸着
法、あるいは、垂直記録ではCoCr合金蒸着が提案さ
れている。
しかし、前者では、非磁性の酸化物Cooが成長し、後
者では、Crを多量に添加しなければならないため、い
ずれも飽和磁化が著しく低下してしまうという問題があ
った。
者では、Crを多量に添加しなければならないため、い
ずれも飽和磁化が著しく低下してしまうという問題があ
った。
本発明は、−1ユ記従来技術が持っていた飽和磁化の低
下という欠点を解決し、飽和磁化をさほど低下させずに
高保持力化を達成できる磁気記録媒体および、その製造
方法を提供することを[1的とする。
下という欠点を解決し、飽和磁化をさほど低下させずに
高保持力化を達成できる磁気記録媒体および、その製造
方法を提供することを[1的とする。
[課題を解決するための千段コ
前記目的を達成するために、本発明では、Coを主成分
とする柱状粒子構造を有する磁性薄膜を記録層とする磁
気記録媒体において、該柱状粒子の間に、Coと同時蒸
着しても固溶せず、Coよりも融点が低い非磁性金属を
存在させたことを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
とする柱状粒子構造を有する磁性薄膜を記録層とする磁
気記録媒体において、該柱状粒子の間に、Coと同時蒸
着しても固溶せず、Coよりも融点が低い非磁性金属を
存在させたことを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
Coと同時蒸着しても固溶せず、Coよりも融点が低い
非磁性金属は例えば、CuまたはPbである。Cuが好
ましい。
非磁性金属は例えば、CuまたはPbである。Cuが好
ましい。
本発明の磁気記録媒体は基本的に、Coを主成分とする
金属または合金を非磁性基体上に垂直蒸着または斜め蒸
着することにより作製することができる。
金属または合金を非磁性基体上に垂直蒸着または斜め蒸
着することにより作製することができる。
Coを主成分とする金属または合金を非磁性基体上に入
射角α度で斜め蒸着する場合、CuまたはPbのような
金属を入射角一α度から−90度の範囲内の角度で同時
蒸着する。
射角α度で斜め蒸着する場合、CuまたはPbのような
金属を入射角一α度から−90度の範囲内の角度で同時
蒸着する。
また、Coを−1:.成分とする金属または合金を非磁
性基体上に垂直人射蒸着する場合、非磁性基体を回転さ
せながら、CuまたはPbのような金属を入射角70度
〜90度の範囲内の角度で同時蒸着する。
性基体上に垂直人射蒸着する場合、非磁性基体を回転さ
せながら、CuまたはPbのような金属を入射角70度
〜90度の範囲内の角度で同時蒸着する。
[作川コ
前記のように、Co柱状粒子間にCuまたはPbを存在
させることで、磁化反転時に磁壁がこのCuまたはPb
により止められる、いわゆるピニング効果より、磁壁移
動に起因する磁化反転が起こりにくくなる。その結果、
保持力が向」〕する。
させることで、磁化反転時に磁壁がこのCuまたはPb
により止められる、いわゆるピニング効果より、磁壁移
動に起因する磁化反転が起こりにくくなる。その結果、
保持力が向」〕する。
なおこのように、柱状粒子間に存在させる元素としては
、非磁性であればCuまたはPb以外の元素(例えば、
AJ1など)でも高保持力化が期待できるが、本発明者
が調べた結果その元素が蒸着中にCoの結晶成長を妨げ
たり、あるいは、Co結晶中に固溶して結晶磁気異方性
を弱めたりして、1・分な高保持力化が達成できない。
、非磁性であればCuまたはPb以外の元素(例えば、
AJ1など)でも高保持力化が期待できるが、本発明者
が調べた結果その元素が蒸着中にCoの結晶成長を妨げ
たり、あるいは、Co結晶中に固溶して結晶磁気異方性
を弱めたりして、1・分な高保持力化が達成できない。
また、蒸着する場合、Co柱状粒子の成長方向に対して
垂直に近い方向からCuまたはPbを蒸着することによ
り、Coの結晶成長を妨げることな<、CUまたはPb
をCo粒子.表面に成長させることができる。Cuまた
はPbを所定の角度範囲外から蒸着すると、CoとCu
またはPbが同方向に近い方向から蒸着されるため、両
原子が混合してしまい、粒子間のCuまたはPbによる
ビニング効果が十分に発揮されず、高保持力化が達成で
きない。
垂直に近い方向からCuまたはPbを蒸着することによ
り、Coの結晶成長を妨げることな<、CUまたはPb
をCo粒子.表面に成長させることができる。Cuまた
はPbを所定の角度範囲外から蒸着すると、CoとCu
またはPbが同方向に近い方向から蒸着されるため、両
原子が混合してしまい、粒子間のCuまたはPbによる
ビニング効果が十分に発揮されず、高保持力化が達成で
きない。
第1図に斜め蒸着法により作製した本発明の磁気記録媒
体1の模式的断面構造を示す。非磁性基体2の1−面に
斜め蒸着されたCo柱状粒子3の境界にCu層4が形成
されている。
体1の模式的断面構造を示す。非磁性基体2の1−面に
斜め蒸着されたCo柱状粒子3の境界にCu層4が形成
されている。
第2図に垂直蒸着法により作製した本発明の磁気記録媒
体lの模式的断而構造を冫1<す。非磁性基体2のト而
にCo柱状粒子3およびCu層4がITE.直に\γ設
されている。垂直蒸着法の場合、非磁性基体を回転させ
ながら蒸着処理が行われるので、第3図に示されるよう
に、Co柱状粒子3の周囲はCu層4により包囲された
形になる。
体lの模式的断而構造を冫1<す。非磁性基体2のト而
にCo柱状粒子3およびCu層4がITE.直に\γ設
されている。垂直蒸着法の場合、非磁性基体を回転させ
ながら蒸着処理が行われるので、第3図に示されるよう
に、Co柱状粒子3の周囲はCu層4により包囲された
形になる。
本発明の磁気記録媒体に使用される非磁性基板としては
、ポリイミド,ポリエチレンテレフタレート等の高分子
フィルム,ガラス類,セラミック,アルミ,陽極酸化ア
ルミ,黄銅などの金属板,Si eli結晶板,表面を
熱酸化処理したSi単結晶板などがある。この非磁性ノ
、(体は必堡に応じて、(1l而研磨やテクスチャリン
グ加工を行うためのニンケル●リン系合金層やアルマイ
ト処理層等の下地研磨層を設けることもできる。
、ポリイミド,ポリエチレンテレフタレート等の高分子
フィルム,ガラス類,セラミック,アルミ,陽極酸化ア
ルミ,黄銅などの金属板,Si eli結晶板,表面を
熱酸化処理したSi単結晶板などがある。この非磁性ノ
、(体は必堡に応じて、(1l而研磨やテクスチャリン
グ加工を行うためのニンケル●リン系合金層やアルマイ
ト処理層等の下地研磨層を設けることもできる。
また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープや磁気ディスク、合成樹脂フィルム、アル
ミニウム板およびガラス板等からなる円盤やドラムをノ
λ体とする峨気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッド
と摺接する構造の種々の形態を包含する。
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープや磁気ディスク、合成樹脂フィルム、アル
ミニウム板およびガラス板等からなる円盤やドラムをノ
λ体とする峨気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッド
と摺接する構造の種々の形態を包含する。
[実施例コ
以下、図面を参照しなから本発明を更に詳細に説明する
。
。
第3図に示されるような斜め蒸着装置を使用し、ポリエ
チレンテレフタレートフィルム13に、Co蒸発源20
から入射角αでCoを蒸着しながら、同時に、Cu蒸発
源16から入射角βでCuを蒸着した。なお、Cuの蒸
着法は、Cu蒸発源16からのCu蒸気を、1500゜
Cに加熱したタングステン板17で反射する方法を用い
た。
チレンテレフタレートフィルム13に、Co蒸発源20
から入射角αでCoを蒸着しながら、同時に、Cu蒸発
源16から入射角βでCuを蒸着した。なお、Cuの蒸
着法は、Cu蒸発源16からのCu蒸気を、1500゜
Cに加熱したタングステン板17で反射する方法を用い
た。
この装置を用いて、αを50゜,CoとCuの析出速度
を各々100人/see1 10人/ s eC一定と
し、Cuの入射各βを変化させて、様々な蒸着膜を作り
、飽和磁化と長子方向の保磁力を試料振動型磁力旧(V
SM)により調べた。結果を下記の表1に示す。
を各々100人/see1 10人/ s eC一定と
し、Cuの入射各βを変化させて、様々な蒸着膜を作り
、飽和磁化と長子方向の保磁力を試料振動型磁力旧(V
SM)により調べた。結果を下記の表1に示す。
の表2に示す。
前記の結果から明らかなように、Cu入射角βを、Co
の入射角+50゜に対して、−50゜以ドとすることに
より、保磁力が著しく高められる。
の入射角+50゜に対して、−50゜以ドとすることに
より、保磁力が著しく高められる。
実施例lで使用された蒸着装置と同じ装置を使用し、C
o入射角αを50″、Co析出速度を100人/see
1Cu入射角βを−70゜一定として、Cuの析出速度
を変化させることにより磁気記録媒体を作製した。得ら
れた各磁気記録媒体の蒸着膜の飽和磁化と長丁方向の保
磁力を試料振動型磁力j+(VSM)により調べた。結
果を下記前記の結果から明らかなように、Cuを同時蒸
着することにより、磁気記録媒体の飽和磁化をさほど低
下させることなく、保磁力を向上させることができる。
o入射角αを50″、Co析出速度を100人/see
1Cu入射角βを−70゜一定として、Cuの析出速度
を変化させることにより磁気記録媒体を作製した。得ら
れた各磁気記録媒体の蒸着膜の飽和磁化と長丁方向の保
磁力を試料振動型磁力j+(VSM)により調べた。結
果を下記前記の結果から明らかなように、Cuを同時蒸
着することにより、磁気記録媒体の飽和磁化をさほど低
下させることなく、保磁力を向上させることができる。
ただし、CLIの析出量が多すぎると、すなわち、析出
速度が高すぎると、保磁力の増大に反比例して、飽和磁
化量が低下してくるので好ましくない。
速度が高すぎると、保磁力の増大に反比例して、飽和磁
化量が低下してくるので好ましくない。
第5図に示されるような、基板回転機構を有する蒸着装
置を使用し磁気記録媒体を作製した。真空槽21内にお
いて、円形基板22を800tlmで回転させながら、
Co&允源25からCoを基板22に垂直蒸着させ、同
時に、Cu74発源24から入射角βでCuを蒸着させ
た。なお、Cuの蒸着法は、Cu蒸允源24からのCu
蒸気を1500℃に加熱したタングステン板23で反射
する方法を用いた。CoとCuの析出速度を各々100
人/see1 10人/ s e c一定とし、Cuの
入射各βを変化させて、様々な蒸着膜を作り、飽和磁化
と長丁方向の保磁力を試料振動型磁力計(VSM)によ
り調べた。結果を下記の表3に示す。ただし、保磁力は
膜而垂直方向の値である。
置を使用し磁気記録媒体を作製した。真空槽21内にお
いて、円形基板22を800tlmで回転させながら、
Co&允源25からCoを基板22に垂直蒸着させ、同
時に、Cu74発源24から入射角βでCuを蒸着させ
た。なお、Cuの蒸着法は、Cu蒸允源24からのCu
蒸気を1500℃に加熱したタングステン板23で反射
する方法を用いた。CoとCuの析出速度を各々100
人/see1 10人/ s e c一定とし、Cuの
入射各βを変化させて、様々な蒸着膜を作り、飽和磁化
と長丁方向の保磁力を試料振動型磁力計(VSM)によ
り調べた。結果を下記の表3に示す。ただし、保磁力は
膜而垂直方向の値である。
K1
実施例8で使用された蒸着装置と同じ装置を使用し、C
u入射角βを85°、Co析出速度を100人/sec
一定として、Cuの析出速度を変化させることにより磁
気記録媒体を作製した。得られた各磁気記録媒体の蒸着
膜の飽和磁化と長丁力向の保磁力を試料振動型磁力計(
VSM)により調べた。結果を゛ド記の表4に示す。保
磁力は膜而屯直方向の値である。
u入射角βを85°、Co析出速度を100人/sec
一定として、Cuの析出速度を変化させることにより磁
気記録媒体を作製した。得られた各磁気記録媒体の蒸着
膜の飽和磁化と長丁力向の保磁力を試料振動型磁力計(
VSM)により調べた。結果を゛ド記の表4に示す。保
磁力は膜而屯直方向の値である。
前記の結果から明らかなように、Coを東直蒸着する際
、基板を回転させなからCuを入射角70″以上で蒸着
させると磁気記録媒体の蒸着膜の保磁力を飛躍的に向上
させることができる。
、基板を回転させなからCuを入射角70″以上で蒸着
させると磁気記録媒体の蒸着膜の保磁力を飛躍的に向上
させることができる。
前記の結果から明らかなように、Coの市直蒸着におい
て、基板を回転させなからCuを同時蒸着することによ
り、磁気記録媒体の飽和磁化をさほど低下させることな
く、保磁力を向上させることができる。
て、基板を回転させなからCuを同時蒸着することによ
り、磁気記録媒体の飽和磁化をさほど低下させることな
く、保磁力を向上させることができる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、Co柱状粒子を
斜め蒸着あるいは垂直蒸着する際、cuまたはPbを所
定の角度範囲内で同時に蒸着させることにより、Co磁
性膜の飽和磁化をさほど低ドさせるこな《、保磁力を向
l―させることができる。
斜め蒸着あるいは垂直蒸着する際、cuまたはPbを所
定の角度範囲内で同時に蒸着させることにより、Co磁
性膜の飽和磁化をさほど低ドさせるこな《、保磁力を向
l―させることができる。
第1図は本発明の斜め蒸着法により作製された磁気記録
媒体の構造を示す模式的断面図であり、第2図は本発明
の重直蒸着法により作製された磁気記録媒体の構造を示
す模式的断面図であり、第3図は第2図の■一■線に沿
った模式的断面図であり、第4図は本発明の磁気記録媒
体の作製に使用される斜め蒸着装置の一例を示す模式図
であり、第5図は本発明の磁気記録媒体の作製に使用さ
れる屯直蒸着装置の一例を示す模式図である。
媒体の構造を示す模式的断面図であり、第2図は本発明
の重直蒸着法により作製された磁気記録媒体の構造を示
す模式的断面図であり、第3図は第2図の■一■線に沿
った模式的断面図であり、第4図は本発明の磁気記録媒
体の作製に使用される斜め蒸着装置の一例を示す模式図
であり、第5図は本発明の磁気記録媒体の作製に使用さ
れる屯直蒸着装置の一例を示す模式図である。
Claims (9)
- (1)Coを主成分とする柱状粒子構造を有する磁性薄
膜を記録層とする磁気記録媒体において、該柱状粒子の
間に、Coと同時蒸着しても固溶せず、Coよりも融点
が低い非磁性金属を存在させたことを特徴とする磁気記
録媒体。 - (2)非磁性金属がCuまたはPbである請求項1記載
の磁気記録媒体。 - (3)非磁性金属がCuである請求項1または2記載の
磁気記録媒体。 - (4)Coを主成分とする金属または合金を非磁性基体
上に入射角α度で斜め蒸着することからなる磁気記録媒
体の製造方法において、Coと同時蒸着しても固溶せず
、Coよりも融点が低い非磁性金属を入射角−α度から
−90度の範囲内の角度で同時蒸着することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - (5)非磁性金属がCuまたはPbである請求項4記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - (6)非磁性金属がCuである請求項4または5記載の
磁気記録媒体の製造方法。 - (7)Coを主成分とする金属または合金を非磁性基体
上に垂直蒸着することからなる磁気記録媒体の製造方法
において、非磁性基体を回転させながら、Coと同時蒸
着しても固溶せず、Coよりも融点が低い非磁性金属を
入射角70度〜90度の範囲内の角度で同時蒸着するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (8)非磁性金属がCuまたはPbである請求項7記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - (9)非磁性金属がCuである請求項7または8記載の
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5720089A JPH02236815A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5720089A JPH02236815A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02236815A true JPH02236815A (ja) | 1990-09-19 |
Family
ID=13048853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5720089A Pending JPH02236815A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02236815A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5679410A (en) * | 1994-06-06 | 1997-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Continuous fabrication of thin film magnetic recording medium with vacuum deposition |
JP2012226792A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
-
1989
- 1989-03-09 JP JP5720089A patent/JPH02236815A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5679410A (en) * | 1994-06-06 | 1997-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Continuous fabrication of thin film magnetic recording medium with vacuum deposition |
JP2012226792A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
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