JPH01162214A

JPH01162214A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH01162214A
Application number: JP32097087A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Niimi; 秀明新見
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Ltd
Priority date: 1987-12-18
Filing date: 1987-12-18
Publication date: 1989-06-26

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は薄膜型磁気記録媒体に関する。更に詳細には、
本発明は優れた耐摩耗性を備えた低ノイズ磁性層を有す
る薄膜型磁気記録媒体に関する。

［従来の技術］従来から一般に普及している磁気記録媒体は、針状の磁
性粉と高分子結合剤とを主体とする磁性塗料を非磁性基
体上に塗布して磁性層を形成した塗布型の磁気記録媒体
である。

現在、磁気記録再生装置はますます高密度化の傾向にあ
り、短波長記録特性に優れた磁気記録媒体が要望されて
いる。

しかし、塗布型磁気記録媒体における短波長記録特性の
改善には限界がある。これに対して、Ｃｏｓ’ｃｏＮｉ
ｔ　ＣｏＮ１Ｐ、ＣｏＣｒなどのＧ。

を主成分とする強磁性体を真空蒸着、スパッタリング、
まｈはイオンブレーティング等のいわゆる物理蒸着法に
よって非磁性基体上に形成する金属薄膜型の磁気記録媒
体は、その磁性層中に非磁性の結合剤が混入されていな
いので著しく高い残留磁束密度を得ることができ、かつ
、磁性層を極めて薄く形成することができるために、高
出力で短波長応答性に優れているという利点を有する。

この特徴により、最近は薄膜型磁気記録媒体が磁気媒体
の主流となりつつある。

しかし、薄膜型磁気記録媒体では信号記録時に粗大な磁
区が発生してノイズが大きくなり、Ｓ／Ｎ比が低下する
という問題があった。

この問題点を解決するため、強磁性金属と有機物を同時
蒸着することにより強磁性金属粒子間の磁気的相互作用
を弱める方法が特開昭５８−１０５３２５号公報に提案
されている。この方法によれば、ノイズは小さくなるが
、使用している有機物が柔らかいため、磁性層の耐摩耗
性が劣るという欠点があった。

［発明が解決しようとする問題点］この発明は、上記従来技術が持っていた、磁性層のノイ
ズが高いという問題を、耐摩耗性を低下させることなく
解決した磁気記録媒体を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］本発明者らが長年にわたり広範な実験と試作を続けた結
果、非磁性基体上に、酸化マグネシウムとコバルト金属
が混在した磁性層を設けることにより高Ｓ／Ｎ比と高耐
摩耗性を有する磁気記録媒体が得られることを発見した
。本発明は斯かる知見に基づき完成された。

特に、ｃｏ金属柱状粒子の周囲が酸化マグネシウム被膜
により被覆されている磁性層は高Ｓ／Ｎ比で極めて耐摩
耗性に優れている。この理由は恐らく、非磁性体の酸化
マグネシウムによりＣＯ金属柱状粒子が磁気的に遮閉さ
れ、ｃｏ金属柱状粒子は単磁区的挙動を示すためにＳ／
Ｎ比が向上されるのであろう。また、硬質の酸化マグネ
シウム被膜により耐摩耗性も向上されるものと思われる
。

本発明の磁気記録媒体はＭｇＯとＣｏを適度な析出速度
と基板温度で同時蒸着することにより作製できる。

ＭｇＯ対Ｃｏの原子比は一般的に０．１〜１゜０の範囲
内である。ＭｇＯ／Ｃｏの原子比が０゜１未溝ではＣｏ
金属−粒子の周囲に十分なＭｇＯ被膜が形成されず、ｃ
ｏの磁気的遮閉が不十分となり、ノイズ低減効果は期待
できない。一方、ＭｇＯ／Ｃｏの原子比が１．０超にな
ると、磁性層の飽和磁化が減少して、再生出力が低下す
る。ＭｇＯ対Ｃｏの析出速度比を０．１〜１．０の範囲
内とすると前記原子比の膜が得られる。

ＭｇＯおよびＣｏを同時蒸着させる際の基板温度は２０
０℃以−ヒであることが好ましい。基板温度を高くする
と、ＭｇＯとＣｏとは互いに和犬れない物質なので、冷
えるときに明確に分離し、Ｃｏ金属粒子の周囲にＭｇＯ
の被膜が形成される。

基板温度の上限は使用される基板の耐熱温度により変化
する。

ＭｇＯおよびＣｏはいずれもペーパーデポジション法に
より非磁性基体上に析出させることができる。この方法
には、真空蒸着法、イオン・ブレーティング法、高周波
イオンφブレーティング法。

イオン・クラスタービーム法、イオンビームデポジシジ
ン法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などがある。本発明
の複合磁性膜は斜め蒸着または垂直蒸着のいずれの態様
でも形成できる。

本発明の磁気記録媒体に使用される非磁性基板としては
、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート等の高分子
フィルム、ガラス類、セラミック。

アルミ、陽極酸化アルミ、黄銅などの金属板、Ｓｉ単結
晶板９表面を熱酸化処理したＳｉ単結晶板などがある。

この非磁性基体は必要に応じて、甲面研磨やテクスチャ
リング加工を行うためのニッケル・リン系合金層やアル
マイト処理層等の下地研磨層を設けることもできる。

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープや磁気ディスク、合成樹脂フィルム、アル
ミニウム板およびガラス板等からなる円盤やドラムを基
体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと
摺接する構造の種々の形態を包含する。

［実施例］以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。

第１図に示されるような２元蒸着装置を用いて、ＭｇＯ
とＣｏの原子比を下記の表１に示されるように様々に変
化させて磁気テープを作製した。べ−スフィルム２とし
て厚さ５０μｍのポリイミドフィルムを使用した。防着
板５により最低入射角を５０°に規制した。ベースフィ
ルム２上にＭｅ影形成れる磁性層の層厚は１０００人と
した。ベースフィルム２はキャンロール４により２００
℃に加温した。

このようにして作製された各原子比の試料１〜１０の再
生出力とＳ／Ｎ比を評価した。再生出力およびＳ／Ｎ比
は現行ＶＨ８型ＶＴＲにより測定した。測定結果を下記
の表１に要約して示す。

表１表１に示された結果から明らかなように、Ｍｇ０／Ｃｏ
原子比が０．１〜１．０の範囲内にある本発明の磁気テ
ープは、Ｍ　ｇ　Ｏ／　Ｃｏ原子比が前記範囲外の比較
例の磁気テープに比べて、再生出力が殆ど低下せずに、
Ｓ／Ｎ比が向上している点で優れている。

また、本発明の磁気テープである試料２〜６の耐摩耗性
と比較例の磁気テープである試料１の耐摩耗性を現行の
ＶＨ８型ＶＴＲにより再生出力が初期の１７２に低下す
るまでの時間（スチル時間）を測定することにより評価
した。本発明の磁気テープは全て６０分以上のスチル時
間を有していたが、比較例の磁気テープのスチル時間は
約５分程度であった。

本発明の磁気テープである試料４の断面構造を調べたと
ころ、第２図に示されるように、非磁性基体２上に斜め
蒸着されたＣｏ柱杖粒子１ｏの周囲がＭｇ０１１により
被覆された構造になっていた。

［発明の効果］以上説明したように、本発明の磁気記録媒体においては
、磁性体であるＣｏ柱状粒子がＭｇＯ被膜により被覆さ
れているので、各Ｃｏ柱状粒子が磁気的に連間され、単
磁区的挙動を示す。そのため、磁性層ぜんたのＳ／Ｎ比
が向上される。また、Ｃｏ柱状粒子の周囲が硬質のＭｇ
Ｏ被膜で被覆されているので磁性層全体の耐摩耗性も向
上される。

このように、本発明の磁気記録媒体は従来のポリマーと
磁性体とからなる磁気記録媒体と異なり、高Ｓ／Ｎ比を
実現すると共に、耐摩耗性の点でも非常に優れている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例で使用された真空蒸着装置の一
例を示す概要断面図、第２図は本発明の磁気記録媒体の
断面構造を示す模式図である。１・・・巻出しロール、２・・・ベースフィルム。３・・・真空槽、４・・・キャンロール、５・・・防着
板。６・・・蒸発源、７・・・巻取ロール、１０・・・Ｃｏ
柱状粒子、１１・・・ＭｇＯ被膜第１図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性基体上に、酸化マグネシウムとコバルト金
属が混在した磁性層を設けたことを特徴とする磁気記録
媒体。
（２）Ｃｏ粒子の周囲がＭｇＯ被膜で被覆されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録
媒体。
（３）Ｃｏ粒子が柱状粒子であることを特徴とする特許
請求の範囲第２項に記載の磁気記録媒体。
（４）ＭｇＯ／Ｃｏの原子比が０．１〜１．０の範囲内
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項
または第３項に記載の磁気記録媒体。