JPH0334122A

JPH0334122A - 磁気記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0334122A
Application number: JP16522389A
Authority: JP
Inventors: Toshio Inao; 俊雄稲生; Shinichi Fukawa; 府川　信一; Akio Kondo; 近藤　昭夫
Original assignee: Tosoh Corp
Current assignee: Tosoh Corp
Priority date: 1989-06-29
Filing date: 1989-06-29
Publication date: 1991-02-14

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、コンピュータ等の外部記憶装置（磁気ディス
ク装置）の磁気記憶体として用いられる磁気記録媒体に
関するものである。

（従来の技術）従来、コンピュータなどの記憶媒体としては磁性粉を塗
布したテープが広く用いられていた。しかし、この記憶
テープでは記憶密度が小さくアクセス時間が長いなどの
欠点があった。そこで、ランダムアクセスが可能な円板
状の磁気ディスクが開発され、なかでも基板にアルミ合
金などを用いた磁気ディスク、いわゆるハードディスク
が使用されるようになってきている。従来、このハード
ディスクは厚さ２１ｎｆｆｌ程度の堅い基板上に、厚さ
１μｍ程度の磁気記録層を形成することにより構成され
、この磁気記録層は酸化鉄などの磁性粉をバインダと混
合し、これをディスク基板上にスピンコードなどの手法
で塗布し得られていた。しかし、この方法で得られる磁
気記録媒体は飽和磁化の大き１１こ限界があり、高密度
記録磁性媒体としてはほぼ限界に達してきているため、
最近ではより大きい飽和磁化を有するＣｏあるいはＣｏ
系合金を真空蒸着、スパッタリングなどの真空成膜技術
により成膜した薄膜を磁気記録層として用いた磁気記録
媒体あるいは無電解メツキなどの湿式法により形成した
Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐなどの合金薄膜を磁気記録層
として用いた磁気記録媒体などが使用されはじめている
。しかしながら、上記の金属、合金薄膜を磁気記録層と
して用いる磁気記録媒体は、高分解能に必要な高保磁力
を得るためには磁気記録層の膜厚を薄くしなければなら
ず、これを薄くすると高出力を維持するのが困難となる
という問題を有する。すなわち、高分解能を達成するた
めに磁気記録層の膜厚を薄くすると、残留磁化が小さく
なり、外部増幅器を通して再生信号を増幅しても雑音を
も増幅してしまい高出力を得るのが困難となる。

（発明が解決しようとする課題）本発明の目的は高分解能、高出力を示す磁気記録媒体を
提供することにある。

（課題を解決するための手段）本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行っ
た結果、磁気記録媒体の磁気記録層を構成する柱状晶の
粒径を大きくとることにより磁気記録媒体の磁気特性、
特に残留磁化と保磁力が同時に向上することを見出だし
、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、非磁
性下地層を被覆した基板、基板上に設けた磁性金属薄膜
からなる磁気記録層および該磁気記録層を保護するため
の保護層を含んでなる磁気記録媒体において、磁気記録
層の厚さ（δ）と磁気記録層の柱状晶の粒径（ｄ）の比
（Ｒ＝ｄ／δ）が１．５以上であることを特徴とする磁
気記録媒体およびその製造方性である。

本発明の磁気記録媒体は、磁気記録層を構成する柱状晶
の粒径が大きいものであり、磁気記録層のＲの値を１．
５以上とするものであるが、このことにより磁気記録媒
体の磁気特性、特に保磁力と残留磁化が向上する。従っ
て、本発明の磁気記録媒体はその磁気記録層の膜厚を薄
くしなくても高保磁力を得ることができ、その結果この
磁気記録媒体は、高出力、高分解能を有するものとなる
。

上記のように磁気特性が向上する理由は明らかではない
が、Ｒを大きくすることにより磁気記録層面内の形状異
方性効果が大きくなることが原因として考えられる。

本発明の磁気記録媒体におけるＲの値が１．５以上の磁
気記録層は、例えば磁気記録媒体を構成する非磁性下地
層および／または磁気記録層を成膜する際に、基板にバ
イアス電圧を印加しながら成膜することにより得ること
ができる。このとき印加するバイアス電圧の大きさを調
整することにより磁気記録層のＲの値を調整することが
でき、バイアス電圧を大きくすることにより、磁気記録
層を構成する柱状晶の粒径が大きくなる傾向がみられる
。印加するバイアス電圧の大きさは−５０〜−７００Ｖ
であることが好ましく、より好ましくは−２５０〜−５
００Ｖである。−５０Ｖ未満の場合磁気記録層のＲの値
が大きくならず、得られる磁気記録媒体の磁気特性が向
上しない傾向があり、−７００Ｖを越える場合逆スパツ
タリングの現象が生じ、非磁性下地層あるいは磁気記録
層がエツチングされるおそれがある。

以下、図面に基づき本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明の磁気記録媒体の構造の一例を示す部分
断面図である。下地体１はＮ　ｉ　−Ｐなどのメツキを
施した基板である。この基板は特に限定されるものでは
ないが、バイアス電圧を印加しながら非磁性層および／
または磁気記録層を成膜する方法により本発明の磁気記
録媒体を製造する際には、一定のバイアス電圧を印加で
きるものを用いることが好ましく、アルミニウム基板な
どが例示される。この下地体１上にはクロム、チタン、
バナジウム、タングステンあるいはこれらの合金などか
らなる非磁性下地層２が構成される。この膜厚は５００
〜５０００人程度であることが好ましい。更にこの非磁
性下地層２上に磁気記録層３が構成される。この磁気記
録層３としては、コバルト、コバルトニッケル合金また
はこれらに白金、クロム、ロジウム、チタン、レニウム
、タンタル、タングステン、ニッケル、サマリウムから
なる群から選ばれる少なくとも一種以上の金属を添加し
たものなどが用いられる。また、この厚みは１００〜２
０００人であることが好ましい。上記した非磁性下地層
２および／または磁気記録層３を成膜する際に、基板に
バイアス電圧を印加することにより、磁気記録層３のＲ
の値を大きく調整することができる。この磁気記録層３
上に炭素、酸化アルミニウム、ジルコニアなどの無機物
質からなる保護層５をスパッタなどによって形成するこ
とにより、磁気記録層３は外部環境から保護される。な
お保護層５の厚みは５０〜４００人程度が適当である。

また磁気記録層の耐蝕性を向上せしめるために、必要に
応じて磁気記録層３と保護層５の間に表面層４を設けて
もよい。この表面層４は、クロム、チタン、バナジウム
などの金属薄膜からなり、その厚みは５０〜２００人が
適当である。更に本発明の磁気記録媒体の使用に当たり
ては、上記保護層に肢体潤滑剤、または固体潤滑剤、あ
るいはこれらの複合潤滑剤を塗布して潤滑層６を形成し
て使用することができる。非磁性下地層２、磁気記録層
３、表面層４および保護層５の各層はスパッタリング広
、真空蒸着法などの真空成膜技術により成膜され、潤滑
層６はスパッタリング法、真空蒸着法、スピンコード、
ディッピング法などの方法により形成することかできる
。

（実施例）以下、本発明の具体的な実施例と比較例について説明す
る。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。

実施例１　比較例１第１図に示す磁気記録媒体を作製した。下地体１として
アルミニウム基板上にＮ１−Ｐメツキ膜を被覆し、これ
を平均表面粗さ約１００人に研磨したものをを用い、こ
の下地体１の上に非磁性下地層２としてＤＣスパッタリ
ング法により厚さ３０００人のクロム薄膜を形成した。

次にこの非磁性下地層２上に磁気記録層３としてＤＣス
パッタリング法によりニッケルを２０原子パーセント、
クロムを１０原子パーセント含むコバルト合金薄膜を８
００人形成した。なお、非磁性下地層２および磁気記録
層３をスパッタリングして形成する際に、下地体１の基
板にバイアス電圧を印加した。

更に、この磁気記録層３の上に表面層４としてクロムを
ＤＣスパッタリング法により厚さ１００人形成し、表面
層４上に保護層５として炭素からなる膜をＤＣスパッタ
リング法により３００人形成し磁気記録ディスクを作製
した。

非磁性下地層２および磁気記録層３を成膜する際に、基
板に印加するバイアス電圧を変化させて磁気記録媒体を
得た。得られた磁気記録媒体の磁気特性の評価結果を表
１に示す。また磁気記録層３の柱状晶の粒径（ｄ）を走
査型電子顕微鏡を用いて１ｌｌｌｌ定し、厚さ（δ）と
の比Ｒ＝ｄ／δを求めた。その結果を表１に示す。

また比較例１として、バイアス電圧を印加しないで磁気
記録媒体を作製し、この磁気特性を評価した。その結果
を表１にあわせて示す。

表１単位：保磁力（Ｏｅ）　　残留磁化（ｎｍ飽和磁化（ｎ
ｍ　　Ｔ）Ｔ）実施例２実施例１と同じ方法で同じ構造の磁気記録媒体を作製し
た。ただし本実施例の場合、非磁性下地層２の成膜時の
みに基板にバイアス電圧を印加し、磁気記録媒体を得た
。これらの磁気特性の評価結果を表２に示す。

表２１１１位：保磁力（Ｏｅ）　　残留磁化（ｎｍ　　Ｔ）
飽和磁化（ｎｍ　　Ｔ）実施例３実施例１と同し方法で同じ構造の磁気記録媒体を作製し
た。ただし本実施例の場合、磁気記録層３の成膜時のみ
に基板にバイアス電圧を印加し、磁気記録媒体を得た。

これらの磁気特性の評価結果を表３に示す。

表３単位：保磁力（Ｏｅ）　　残留磁化（ｎｍ　　Ｔ）飽和
磁化（ｎｍ　　Ｔ）（発明の効果）以上述べたとおり、本発明の磁気記録媒体は磁気特性、
特に保磁力、残留磁化に優れ、高出力、高分解能を有す
る磁気記録媒体である。また磁気記録層の厚みを薄くす
ることなく磁気特性を向上することのできるものとなる
。

４、

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の構造の一例を示す図で
ある。図中、・・下地体２・・・非磁性下地層３・・・磁気記録層４・・・表面層５・・・保護層６・・・潤滑層を各々示す。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）非磁性下地層を被覆した基板、基板上に設けた磁
性金属薄膜からなる磁気記録層および該磁気記録層を保
護するための保護層を含んでなる磁気記録媒体において
、磁気記録層の厚さ（δ）と磁気記録層の柱状晶の粒径
（ｄ）の比（Ｒ＝ｄ／δ）が１．５以上であることを特
徴とする磁気記録媒体。
（２）基板にバイアス電圧を印加しながら非磁性下地層
および／または磁気記録層を成膜することを特徴とする
特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体の製造方法
。