JP2792118B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、コンピュータ等の外部記憶装置（磁気ディ
スク装置）において、磁気記録体として用いられる磁気
ディスク等に使用される高密度記録用の磁気記録媒体に
関するものである。

（従来の技術） 従来、コンピュータなどの記録媒体としては磁性粉を
塗布したテープが広く用いられていた。しかし、この記
憶テープでは記憶密度が小さくアクセス時間が長いなど
の欠点があった。そこで、ランダムアクセスが可能な円
板状の磁気ディスクが開発され、なかでも基板にアルミ
合金などを用いた磁気ディスク、いわゆるハードディス
クが使用されるようになってきている。従来、このハー
ドディスクは厚さ2mm程度の堅い基板上に、厚さ１μｍ
程度の磁気記録層を形成することにより構成され、この
磁気記録層は酸化鉄などの磁性粉をバインダと混合し、
これをディスク基板上にスピンコートなどの手法で塗布
し得られていた。しかし、この方法で得られる磁気記録
媒体は飽和磁化の大きさに限界があり、高密度記録磁性
媒体としてはほぼ限界に達してきているため、最近では
より大きい飽和磁化を有するCoあるいはCo系合金を真空
蒸着、スパッタリングなどの真空成膜技術により成膜し
た薄膜を磁気記録層として用いた磁気記録媒体あるいは
無電解メッキなどの湿式法により形成したCo−Ｐ、Co−
Ni−Ｐなどの合金薄膜を磁気記録層として用いた磁気記
録媒体などが使用されはじめている。しかしながら、上
記の金属、合金薄膜を磁気記録層として用いる磁気記録
媒体は、高分解能に必要な高保磁力を得るためには磁気
記録層の膜厚を薄くしなければならず、これを薄くする
と残留磁化が小さくなり、高出力を維持するのが困難と
なるという問題を有する。すなわち、保磁力と残留磁化
とは負の相関がありために、高分解能を達成するために
磁気記録層の膜厚を薄くすると、残留磁化が小さくな
り、外部増幅器を通して再生信号を増幅しても雑音をも
増幅してしまい高出力を得るのが困難となる。

（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、高分解能、高出力を示す磁気記録媒
体を提供することにある。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行
った結果、磁気記録層の膜厚を薄くすることなく保磁力
を同時に向上せしめる磁気記録層の作製方法を見出だ
し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、非
磁性下地層を被覆した基板、磁性金属を含む磁気記録層
及び該磁気記録層を保護するための保護層を含んでなる
磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録層中に磁性
金属よりスパッタ率の高い金属を混入せしめ、磁気記録
層の成膜後にドライエッチング処理を行ない磁気記録層
を作製することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法で
ある。以下、本発明を詳細に説明する。

本発明により製造される磁気記録媒体の磁気記録層中
に含まれる磁性金属は特に限定されないが、例えば従来
用いられているCo、Co−Ni合金などのCo系合金などが例
示される。また、本発明の製造方法において、磁気記録
層中に磁性金属よりスパッタ率の大きい金属を混入せし
めるが、具体的にこの金属は、CoあるいはCo系合金を磁
性金属として用いる場合、銀、アルミニウム、金、クロ
ム、銅、パラジウム、白金、ロジウム、ケイ素、チタン
などが例示される。また、これらの金属は一種または二
種以上用いてもよく、更にその混入量は磁気記録層中に
１原子％以上であることが好ましい。混入量が１原理％
未満の場合、保磁力の大幅な向上が望めないおそれがあ
る。本発明の磁気記録媒体の製造方法における磁気記録
層の作製方法は、上記スパッタ率の高い金属を磁気記録
層中に混入せしめ、磁気記録層の成膜後にドライエッチ
ング処理を行なうものであるが、この方法により、磁気
記録層に高保磁力を付与することができる。その理由は
明らかではないが、成膜後、ドライエッチング処理を行
なうことにより、磁気記録層中のスパッタ率の大きい金
属が優先的にエッチングされ、磁性金属のグレインが孤
立化し、このことによりグレイン間の相互作用が弱くな
り、単磁区粒子的なふるまいを示すものとなり、保磁力
が増加すると考えられる。また、この保磁力の向上は磁
気記録層の膜厚を薄くすることなく行なうことができる
ため、膜厚を薄くすることに伴なう残留磁化の低下のお
それがなくなる。従って、本発明の方法により、高分解
能および高出力の両方特性を有する磁気記録媒体が得ら
れる。

以下に、図面を参照して本発明を詳細に説明する。第
１図は本発明の方法により得られる磁気記録媒体の一実
施例を示す部分断面図である。下地体１は金属、セラミ
ックス、ガラスまたはプラスチックなどからなる基板を
Ni−Ｐメッキ膜、陽極酸化アルマイト膜などを被覆して
なる。非磁性下地層２はクロム、チタン、バナジウム、
タングステンなどを含む薄膜であり、その厚みは通常、
500〜5000Åである。この非磁性下地層２上に、スパッ
タ率の大きい金属が混入している磁性金属を含む磁気記
録層３を100〜2000Å程度の厚みで成膜する。磁気記録
層３の成膜後、ドライエッチング処理を行なうが、この
処理手法は特に限定されず、従来行なわれているDCある
いはRFなどの手法により行なうことができる。また、ド
ライエッチング処理により磁性金属もエッチングされ、
飽和磁化が低減するおそれもあることから、その条件
は、各々目的とする磁気記録媒体の保磁力、残留磁化な
どの磁気特性にあわせて適宜設定が行なわれる。磁気記
録層３の作製の後、該層上に炭素、酸化アルミニウム、
ジルコニアなどの無機物質からなる保護層５を厚さ50〜
400Å程度に形成する。また、磁気記録媒体への耐蝕性
の付与の目的など必要に応じて磁気記録層３と保護層５
の間に表面層４を加えてもよい。この表面層４として
は、例えば厚み50〜200Å程度のクロム、チタン、バナ
ジウムなどの金属薄膜などが形成される。更に、磁気記
録媒体の使用にあたっては保護層５上に液体潤滑剤、固
体潤滑剤あるいはこれらの複合潤滑剤を塗布して潤滑層
６を形成して使用することができる。非磁性下地層２、
磁気記録層３、表面層４および保護層５の各層はスパッ
タリング法、真空蒸着法などの真空成膜技術により成膜
することができ、潤滑層６はスパッタリング法、真空蒸
着法、スピンコート、ディッピング法などの方法により
形成することができる。

（実施例） 以下、本発明の具体的な実施例と比較例について説明
する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。

実施例１ 比較例１ 第１図に示す磁気記録媒体を製造した。下地体１とし
てアルミニウム基板上にNi−Ｐメッキ膜を被覆し、これ
を平均表面粗さ約100Åに研磨したものを用い、この下
地体１の上に非磁性下地層２としてDCスパッタリング法
により厚さ3000Åのクロム薄膜を形成した。次にこの非
磁性下地層２上に磁気記録層３として、DCスパッタリン
グ法によりニッケルを20原子パーセント含むコバルト合
金に銀を混入させた金属薄膜を厚さ800Å成膜した。磁
気記録層３の成膜後、圧力10mtorrのアルゴン雰囲気中
で、500Wの電力でRFエッチングを５分間行なった。その
後、磁気記録層３の上に、表面層４としてクロムをDCス
パッタリング法により厚さ100Å形成し、更にこの上に
保護層５として炭素を同じくDCスパッタリング法により
300Å形成し磁気記録媒体を作製した。ここで、磁気記
録層３中に混入する銀の混入量を変化させ、得られた磁
気記録媒体の磁気特性を評価比較した。この結果を表１
に示す。また、磁気記録層３に銀を混入しなかったもの
を製造し、これを比較例１とした。その磁気特性を表１
にあわせて示す。

実施例２ 比較例２ 実施例１と同じ方法で同じ構造の磁気記録媒体を製造
した。ただし本実施例の場合、磁気記録層３中の銀の含
有量を５原子％と一定にし、磁気記録層３の成膜後のRF
エッチングの時間を変化させ得られた磁気記録ディスク
の磁気特性を評価比較した。この結果を表２に示す。ま
た、エッチング処理を行なわずに製造したものを比較例
２としてその磁気特性を表２にあわせて示す。

（発明の効果） 以上述べたとおり、本発明の磁気記録媒体の製造方法
によれば磁気特性、得に保磁力、残留磁化の高い磁気記
録媒体が得られ、高出力、高分解能を有する磁気記録媒
体が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法により得られる磁気記録媒体の一
実施例を示す部分断面図である。 図中、 １……下地体、２……非磁性下地層 ３……磁気記録層、４……表面層 ５……保護層、６……潤滑層 を各々示す。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性下地層を被覆した基板、磁性金属を
   含む磁気記録層及び該磁気記録層を保護するための保護
   層を含んでなる磁気記録媒体の製造方法において、磁気
   記録層中に磁性金属よりスパッタ率の高い金属を混入せ
   しめ、磁気記録層の成膜後にドライエッチング処理を行
   ない磁気記録層を作製することを特徴とする磁気記録媒
   体の製造方法。