JPH02161608A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、コンピュータ等の外部記憶装置（磁気ディス
ク装置）において、磁気記憶体として用いられる磁気デ
ィスク等に使用される高密度記録用の磁気記録媒体及び
その製造方法に関するもの［従来の技術］ 従来、コンピュータ等の記憶媒体としては磁性粉を塗布
したテープ、円板状の磁気ディスクなどが用いられてい
る。このうち、ランダムアクセスが可能なことから円板
状の磁気ディスクが広く用いられており、基板にアルミ
合金等を用いた磁気ディスク、いわゆるハードディスク
が使用されるようになってきている。この磁気ディスク
は、−般に、厚さ２１程度の堅い基板上に、厚さ１μｍ
程度の磁気記録層を形成することにより構成され・る。

この磁気記録層としては、γ−Ｆ８２０３などの磁性粉
をバインダと混合し、これをディスク基板上にスピンコ
ード等の手法で塗布したものが用いられてきたが、この
磁気記録層は飽和磁化の大きさに限界が在り、高密度記
録磁性媒体としてはほぼ限界に達してきているため、最
近では、より大きい飽和磁化を有するＣｏ、　Ｃｏ−Ｎ
１　、、　Ｃｏ−Ｐｔ　、、　Ｇ。

−Ｒｅ　ＳＳｍ−Ｃｏ等の金属あるいは、合金を真空蒸
着、スパッタリング等の真空成膜技術により、ディスク
基板上あるいは、基板」−に形成された下地層」二に形
成し、これを磁気記録層と１〜だ磁気ディスクが開発さ
れている。しかＩ７ながら、以」二のような合金薄膜な
どの磁気記Ｓ、Ａ媒”体はその磁気特性が、スパッタリ
ング等の直空成膜技術により基板」二に成膜する際の成
膜直前の到達真空度（バックグランドプレッシャー）に
大きく依存するために、真空槽の到達真空度をｐくコン
トロールしないと安定した高い磁気特性を白′する磁気
ディスクを得るのが困難であるという間；拍がある。

［発明が解決１−ようとする課題］ 本発明の目的は、優れた磁気特性を有する磁気記録媒体
及び成膜する際の成膜直前の到達真空度に依存しない安
定１７た磁気特性を有する磁気記録媒体の製造方法を提
供することにある。

［課題を解決するための手段〕 本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行な
った結果、非磁性下地層を有する磁気記Ｓ、Ａ媒体の非
磁性下地層に酸素を導入することにより、磁気記録媒体
の磁気特性、特に保磁力が向上することを見出だし本発
明を完成するに至った。

すなわち本発明は、基板、非磁性下地層、磁気記録層及
び保護層を含んでなる磁気記録媒体において、非磁性下
地層が酸素を含むことを特徴とする磁気記録媒体及びそ
の製造方法である。以下、図面に基づき本発明の詳細な
説明する。

第１図は、本発明の磁気記録媒体を用いて作製した磁気
ディスクの一実施例の部分断面図である。

基板１は、例えば旧−Ｐメツキ膜、陽極酸化アルマイト
膜等を被覆したアルミ合金、窒化硅素焼結体、酸化アル
ミ焼結体などのセラミックス、ステンレス、チタン合金
等の金属、ガラス、プラスチックなどから構成される。

非磁性下地層２は、基板１上に形成された非磁性金属膜
であり、本発明の特徴は接層が酸素を含むことにある。

ここで用いられる非磁性金属としては、例えばチタン、
バナジウム、タングステンから選ばれる少なくとも一種
以」−の金属などが挙げられる。ま。た、この層に含ま
れる酸素の量は、０．１−１０原子パーセントであるこ
とが好ま１２＜、更に好ましくは０，１〜５原子パーセ
ントである。酸素のｍが１０原子バー　セントを越える
場合、得られる磁気記録媒体の磁気特性が低下するおそ
れがある。また、非磁性下地層２の厚みは５００〜５０
００人であることが好ましく、更に好ましくは２０００
〜４０００人である。

非磁性下地層２の上の磁気記録層３は、非磁性下地層と
の密着性の点から、プラチナ、クロム、ロジウム、チタ
ン、レニウム、タングステン、タンタル、サマリウム及
びニッケルから選ばれる少なくとも一種以」二の添加元
素を含むコバルトあるいはコバルトニッケル系合金など
が好ましく用いられ、この層は例えばスパッタリング法
や蒸む法などによって３００〜２０００人の厚みで形成
される。保護層５は、厚さ５０〜４００人程度の炭素、
Ａ１０１、ＺｒＯ３などの無機物質の膜からなす、スパ
ッタリング法や蒸着法などにより形成される。更に、必
要に応じて厚さ５０〜２００人程度のクロム、チタン、
バナジウムなどの非磁性金属薄膜からなる表面層４を、
スパッタリング法や蒸着法などにより磁気記録層３と保
護層５の間に設けでもよい。また、磁気記録媒体の使用
に当たっては、上記保護層５」二に液体潤滑剤、または
固体潤滑剤、あるいはこれらの複合潤滑剤を塗布Ｉ〜で
潤滑層６を形成して使用することができる。

本発明の磁気記録媒体の非磁性下地層２は種々の方法で
形成されるが、例えばアルゴンガスと酸素ガスとの混合
ガスをスパッタガスとして用い、スパッタリング法によ
り成膜することにより、成膜する際の成膜直前の到達真
空度に依存しない安定した磁気特性を有する磁気記録媒
体を得ることができる。このとき用いる混合ガス中の酸
素ガスの割合はアルゴンガスに対して０．１〜５０パー
セント（流量比）が好ま１−＜、より好ましくは１〜１
０パーセントである。酸素ガスの割合が５０パーセント
を越える場合、得られる磁気記録媒体の磁気特性が低下
するおそれがある。

更に、非磁性下地層２は蒸着法により形成することもで
きるが、このとき、蒸着雰囲気中に酸素ガスのみを導入
することにより、酸素を含む非磁性下地層が得られる。

［実施例］ 以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１ 第１図に示す磁気記録ディスクを製造した。基板１とし
て、平均表面粗さ約１００人に研磨したＮ１−Ｐメツキ
膜被覆のアルミニウム合金を用い、この基板１の上にチ
タン薄膜からなる非磁性下地層２を、ＤＣスパッタリン
グ法により厚さ３０００人となるように形成した。非磁
性下地層２の成膜直前の到達真空度は、約６　Ｘ　１０
−７ｔｏｒｒであった。

またこのときのスパッタリングガスとして、アルゴンガ
スと酸素ガスの混合ガス（流量比１０：１）を用い、真
空槽内に導入１７全圧力を５　ｍｔｏｒｒとした。次に
、得られた非磁性下地層２膜の上に、ＤＣスパッタリン
グ法によりニッケルを２０原子パーセント含むコバル］
・合金薄膜を７００人磁気記録層３として形成し、該磁
気記録層の上に表面層４としてチタン層をＤＣスパッタ
リング法により厚さ１００人形成し、更にこの上に保護
層５として炭素膜をＤＣスパッタリング法により３００
人形成し磁気記録ディスクを作製した。得られた磁気記
録ディスクの磁気特性を評価比較した。この結果を表１
に示す。

実施例２〜４ 非磁性下地層２のスパッタリングの際に用いる混合ガス
の流量比を表１のとおりにかえた以外は実施例１と同様
の方法で磁気記録ディスクを得た。

得られた磁気記録ディスクの磁気特性を表１−に示す。

比較例１ 非磁性下地層２のスパッタリングの際に用いるスパッタ
ガスに酸素を混入しなかった以外は実施例１と同様の方
法で磁気記録ディスクを得た。得られた磁気記録ディス
クの磁気特性を表１に示す。

実施例５ 実施例１と同じ方法で同じ構造の磁気ディスクを作製し
た。ただし、本実施例の場合、非磁性下地層２成膜時の
アルゴンガスと酸素ガスの流量比を１００：１０と一定
にし、非磁性下３１層２成膜直前の到達真空度を各々変
化させた。このとき得られた磁気記録ディスクの各磁気
特性を表２に示す。

比較例２ 実施例１と同じ方法で同じ構造の磁気ディスクを作製し
た。ただし、本比較例の場合スパッタガスとしてアルゴ
ンガスのみを使用し、非磁性下地層２成膜直前の到達真
空度を各々変化させた。このとき得られた磁気記録ディ
スクの各磁気特性を表３に示す。

表２１表３より、本発明の方法によれば、得られる磁気
記録媒体の磁気特性は、非磁性下地層成膜直前の到達真
空度の変動に左右されず、安定していることがわかる。

５・・・保護層 ６・・・潤滑層 〔発明の効果］ 以」二述べたとおり、本発明の磁気記録媒体は磁気特性
に優れるものであり、更に、本発明の非磁性下地層の成
膜時にアルゴンガスと共に酸素ガスを導入する磁気記録
媒体の製造法によれば、非磁性下地層の成膜直前の到達
真空度変動に対しても安定した高い磁気特性を有する磁
気記録媒体が得られるので、その生産性は向上する。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板、非磁性下地層、磁気記録層及び保護層を含
   んでなる磁気記録媒体において、非磁性下地層が酸素を
   含むことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）非磁性下地層を、アルゴンガスと酸素ガスとの混
   合ガスをスパッタガスとして用い、スパッタリング法に
   より成膜することを特徴とする特許請求の範囲第１項に
   記載の磁気記録媒体の製造法。