JPH05128476A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPH05128476A
JPH05128476A JP31731491A JP31731491A JPH05128476A JP H05128476 A JPH05128476 A JP H05128476A JP 31731491 A JP31731491 A JP 31731491A JP 31731491 A JP31731491 A JP 31731491A JP H05128476 A JPH05128476 A JP H05128476A
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JP
Japan
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magnetic recording
recording layer
magnetic
film
recording medium
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Pending
Application number
JP31731491A
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English (en)
Inventor
Kentaro Naito
神奈川県海老名市河原口2398番地
Toshio Inao
Akio Kondo
愛知県江南市東野土手5番地10号
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】非磁性基板上に、非磁性下地層、磁気記録層、
保護層を積層した磁気記録媒体で、磁気記録層が、下記
の組成式で表される合金の薄膜からなる磁気記録媒体。 Co(100−x−y−z)CrRePt (但し、3≦x≦15、0.5≦y≦5、1≦z≦18
(原子%)) 【効果】この磁気記録媒体は、高保磁力を持ち、高い生
産性で得ることができる。 又、磁気記録層をこの構成
とすることにより、記録層の成膜前の到達真空度が低い
場合でも、高保磁力を持つ媒体が得られ、磁気特性の到
達真空度依存性の小さい磁気記録媒体である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュ−タ等の外部
記憶装置(磁気ディスク装置)において、磁気記憶体と
して用いられる磁気ディスク等に使用される高密度記録
用の磁気記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、コンピュ−タ等の記憶媒体として
は、磁性粉を塗布したテ−プ等が広く用いられている。
しかし、この記憶テ−プ方式では、記憶密度が小さくア
クセス時間が長いなどの欠点がある。このため、最近で
は、ランダムアクセスが可能な円板状の磁気ディスクが
広く用いられており、なかでも、基板にアルミ合金等を
用いた磁気ディスク、いわゆるハ−ドディスクが使用さ
れるようになってきている。
【0003】この磁気ディスクは、一般に、2mm程度
の堅い基板上に、厚さ1μm程度の磁気記録層を形成す
ることにより構成され、磁気記録層としては、一般に、
γ−Fe等の磁性粉をバインダと混合し、これを
ディスク基板上にスピンコ−ト等の手法で塗布したもの
が用いられてきた。しかし、この方法で得られる磁気デ
ィスクは、飽和磁化の大きさに限界があり、高密度記録
媒体としての使用には制限がある。
【0004】そこで、より高密度記録が可能な媒体を得
るために、高保磁力を有するCo−Cr−Pt合金薄膜
を、真空蒸着、スパッタリング等の真空成膜技術によ
り、ディスク基板上あるいは基板上に形成された下地層
上に形成したものが使用され始めている。
【0005】しかしながら、上記のCo−Cr−Pt合
金薄膜を用いる磁気記録媒体は、高密度記録を達成する
ために必要な高保磁力を得るためには、成膜直前の真空
槽内の到達真空度を10−7torr台以下に制御しな
ければならず、また、磁気特性の到達真空度依存性が強
いことから、安定した生産性を維持すること、更にそれ
を向上させることが困難となるなどの問題点がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点に鑑み、成膜前の到達真空度が低い状態で成膜し
ても、高保磁力を達成できる生産性に優れた磁気記録媒
体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、特に磁気記録層を構成する成分に関し
て鋭意検討を行った結果、磁気記録層に、下記の式で示
される組成の金属薄膜を用いると、低い到達真空度でも
高保磁力を有する生産性に優れた磁気記録媒体を得るこ
とができることを見出した。
【0008】即ち本発明は、非磁性基板上に、非磁性下
地層を介して磁性金属薄膜からなる磁気記録層及び該磁
気記録層を保護するための保護層を設けてなる磁気記録
媒体において、該磁気記録層が、下記組成式で表される
組成の金属薄膜からなることを特徴とする磁気記録媒体
に関するものである。
【0009】 Co(100−x−y−z)CrRePt 但し、x、y、およびzは、それぞれ原子%で、3≦x
≦15、0.5≦y≦5、1.5≦z≦18であり、好
ましくは、6≦x≦12、1≦y≦4、1≦z≦15で
ある。
【0010】本発明の媒体の磁気記録層は、コバルト、
クロム、レニウム、白金の4元素より構成されることが
特徴である。これら4元素の量的割合が、前記範囲を外
れ、クロム、レニウム、白金の量的割合が少なすぎた場
合においては、本発明による効果が得られなくなるか、
もしくは保磁力が低下するおそれがある。
【0011】又、同じく量的割合が多すぎた場合には同
様に本発明による効果が得られないか、もしくは保磁力
および飽和磁化が低下するおそれがある。なかでも、白
金の含有量を多くした場合には経済面で実用的ではな
い。
【0012】本発明での磁気記録層の厚さは、100〜
2000A、より好ましくは300〜1500Aであ
る。
【0013】以下、図面に基づき本発明を詳細に説明す
る。図1は、本発明による磁気記録媒体の一実施態様を
示す部分断面図である。基板としての下地体1は、Ni
−Pメッキ膜、陽極酸化アルマイト膜等を被覆したアル
ミニウム合金、窒化硅素焼結体、酸化アルミニウム焼結
体等のセラミックス、ステンレス、チタン合金等の金
属、ガラス、プラスチック等が用いられる。又、下地層
2として、クロム等の非磁性薄膜を500〜5000A
の厚さに成膜したものが通常用いられる。
【0014】この下地層上に本発明による、Co−Cr
−Re−Pt系組成の金属薄膜からなる磁気記録層3を
形成する。さらにこの層の上に、炭素、酸化アルミニウ
ム、酸化ジルコニウム等の無機物質からなる保護層5を
形成する。この保護層の厚みは50〜400Aが適当で
ある。また、必要に応じて磁気記録層3と保護層5の間
に表面層4を加えてもよい。この表面層は、クロム、チ
タン、バナジウム等の金属薄膜からなりその厚みは50
〜200Aが適当である。
【0015】なお、磁気記録層3の構成成分としてタン
タル0.5〜5原子%を加えることにより、記録媒体の
ノイズを低減させることも可能である。
【0016】以上の通り得られた磁気記録媒体の使用に
あたっては、必要に応じて保護層5の上に液体潤滑剤、
または固体潤滑剤、あるいはこれらの複合潤滑剤を塗布
して潤滑層6を形成して使用することができる。
【0017】図1に於ける2〜5の各層の形成方法は特
に制限されないが、通常実施されているスパッタリング
法、真空蒸着方等の真空成膜技術等により成膜すること
ができ、潤滑層6の形成についても同じくスパッタリン
グ法、真空蒸着法、スピンコ−ティング法、ディッピン
グ法等の通常の方法を用いることができる。
【0018】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、高保磁力を持
ち、高い生産性で得ることができる。又、本発明の構成
とすることにより、記録媒体の成膜前の到達真空度が低
い場合においても、高保磁力を持つ媒体が得られ、磁気
特性の到達真空度依存性の小さい磁気記録媒体である。
【0019】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例と比較例につ
いて説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定され
るものではない。
【0020】実施例1 図1に示した構成の磁気記録媒体を作製した。下地体1
は、平均表面粗さ100Aに研磨したNi−Pメッキ膜
被覆のアルミニウム合金を用いた。この下地体の上に下
地層2として厚さ3000Aのクロム膜および、磁気記
録層3として、Co−Cr−Re−Pt合金薄膜(但
し、Cr:12原子%、Re:2原子%、Pt:5原子
%とし、残部Co)600Aを、共にDCスパッタリン
グ法により、同一チャンバ−内で成膜した。
【0021】更にこの層の上に、保護層5として炭素膜
をDCスパッタ法により300Aの厚みに形成した。下
地層2を成膜する直前の真空槽内の到達真空度を変化さ
せた時の保磁力の変化を図2に示した。図2から保磁力
は到達真空度によらずほぼ一定となることがわかる。
【0022】実施例2 到達真空度を、5×10−7torr(図3(a))、
5×10−6torr(図3(b))とし、磁気記録層
Co−Cr−Re−Pt膜のCrの含有量を12原子
%、Reの含有量を2原子%とし、Ptの含有量を図に
示したように変化させた以外は、実施例1と同様の方法
で磁気記録媒体を得た。
【0023】図3に保磁力のPt含有量依存性を示し
た。図3によれば、磁気特性を損なわずに本発明の効果
を得ることができるPt含有量(z)の範囲は1≦z≦
18原子%であることがわかる。
【0024】実施例3 磁気記録層Co−Cr−Re−Pt膜のCr含有量を1
2原子%、Ptの含有量を5原子%とし、Reの含有量
を図に示したように変化させた以外は、実施例2と同様
の方法で磁気記録媒体を得た。
【0025】図4に保磁力のRe含有量依存性を示す。
図4によれば磁気特性を損なわずに、本発明の効果を得
ることができるReの含有量(y)の範囲は0.5≦y
≦5原子%であることがわかる。
【0026】実施例4 磁気記録層Co−Cr−Re−Pt膜のRe含有量を2
原子%、Ptの含有量を5原子%とし、Crの含有量を
図に示したように変化させた以外は、実施例2と同様の
方法で磁気記録媒体を得た。
【0027】図5に保磁力のCr含有量依存性を示す。
図5によれば磁気特性を損なわずに、本発明の効果を得
ることができるCrの含有量(x)の範囲は3≦x≦1
5原子%であることがわかる。
【0028】比較例1 磁気記録層3をCo−Cr−Pt(但し、Cr:12原
子%、Pt:5原子%、残部Co)とした以外は実施例
1と同様の方法で磁気ディスクを作製した。このとき成
膜直前の到達真空度を変化させて磁気記録媒体を作製し
た。
【0029】図6に、保磁力の到達真空度依存性を示
す。図6によれば、保磁力は到達真空度が悪くなるのに
伴い低下する傾向にあることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気記録媒体を用いて得た磁気記録媒
体の一例を示す部分断面図。
【図2】磁気記録層にCo81−Cr12−Re−P
(原子%)膜を用いた時の、保磁力の到達真空度依
存性を示す図。
【図3】磁気記録層にCo(100−12−2−z)
Cr12−Re−Pt(原子%)膜を用いた時の、
保磁力のPt濃度依存性を示す図。
【図4】磁気記録層にCo(100−12−5−y)
Cr12−Re−Pt(原子%)膜を用いた時の、
保磁力のRe濃度依存性を示す図。
【図5】磁気記録層にCo(100−2−5−x)−C
−Re−Pt(原子%)膜を用いた時の、保磁
力のCr濃度依存性を示す図。
【図6】磁気記録層にCo83−Cr12−Pt(原
子%)膜を用いた時の、保磁力の到達真空度依存性を示
す図。
【符号の説明】
1:下地体 2:下地層 3:磁気記録層 4:表面層 5:保護層 6:潤滑層

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非磁性基板上に、非磁性下地層を介して磁
    性金属薄膜からなる磁気記録層及び該磁気記録層を保護
    するための保護層を設けてなる磁気記録媒体において、
    該磁気記録層が、下記組成式 Co(100−x−y−z)CrRePt (但し、x、y、zはそれぞれ原子%で、3≦x≦1
    5、0.5≦y≦5、1≦z≦18である)で表される
    組成の金属薄膜からなることを特徴とする磁気記録媒
    体。
JP31731491A 1991-11-06 1991-11-06 磁気記録媒体 Pending JPH05128476A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019065385A (ja) * 2017-10-03 2019-04-25 光洋應用材料科技股▲分▼有限公司 Co−Pt−Re系スパッタリングターゲット、その製造方法及び磁気記録層

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019065385A (ja) * 2017-10-03 2019-04-25 光洋應用材料科技股▲分▼有限公司 Co−Pt−Re系スパッタリングターゲット、その製造方法及び磁気記録層
JP2020073715A (ja) * 2017-10-03 2020-05-14 光洋應用材料科技股▲分▼有限公司 Co−Pt−Re系スパッタリングターゲット、その製造方法及び磁気記録層

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