JPH01237925A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスク、磁気
テープ、磁気ドラムなどの磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

従来の磁気記録媒体の例として、磁気ディスク装置に用
いられている磁気記録媒体の部分断面図を第５図に示す
。

第５図は、ｒ−Ｆｅ２Ｏ２などからなる磁性体微粒子と
高分子バインダーとを混合したものを、アルミニウム合
金などからなる非磁性基体上に塗布して作製した塗布型
磁気記録媒体であり、図中、（１）は非磁性基体、（６
）は塗布磁性層である。

しかしながら、近年磁気記録における高記録密度化が進
み、第５図に示すような塗布型磁気記録媒体では充分対
応できなくなってきている。磁気記録媒体を高記録密度
化するためには、ｌＡ磁性層自体薄膜化およびこれに伴
う出力囚下をおざなうための磁性層自体の高保磁力（Ｈ
ａ）化が重要でろち、高記録密度化に対応する丸め、非
磁性基体上にめっき法、蒸着法、スパッタリング法など
により磁性層を形成する金属薄膜型磁気記録媒体が使用
されはじめている。この例を第６図に示す。図中、（１
）はアルミニウム合金などからなる非磁性基体、（２）
はＮ１−Ｐめつき、アルマイト層などからなる下地硬化
層、（３）はＯｒ　、　Ｉｎ　、Ｂｉなどからなる非磁
性金属下地層、（７）はＣｏ　、　Ｃ！ｏ−Ｎｉ合金な
どからなる磁性層、（５）はカーボン、　５ｉ０２　、
　Ｓｉ３Ｎ４などからなる保護層である。前記塗布型磁
気記録媒体および金属薄膜型磁気記録媒体の媒体厚みお
よび保磁力（Ｈｃ）を第１表（磁性体ハンドブック、第
１１９９頁。

朝倉存店、　ｘ９ｓ２）　Ｋ示す。

第１表 ｒｉＴ者の塗布型磁気記録媒体の磁性層は酸化物からな
るため耐食性に関して極めて安定で、ちるが、第１表か
られかるように厚く、保磁力も小さい。

また、後者の金属薄膜型磁気記録媒体は膜厚が薄く高保
磁力であるが、磁性層が金属からなるため磁性層の耐食
性が劣るという欠点を有している。

このような欠点を解消した磁気記録媒体として、特開昭
６１−１９４６２６号公報および与開昭６１−２２’７
２２２号公報に磁性層としてＣｏにＮｉ　、　Ｏｒなど
を添加した本のを用いて耐食性を向上させた金属薄膜型
磁気記録媒体が開示されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

磁気記録は前述のような磁気記録媒体とヘッドとの組合
わせで情報の読み書きを行なうが、前述のような磁気記
録媒体の高密度化の動きに対応し、ヘッドも従来のモノ
リシックタイプのヘッドとは異なる薄膜ヘッド、ＭＩＧ
ヘッドなどが開発、実用化されてきている。これに伴い
、これらの高性能ヘッドに対応するため、さらにもう−
段階、高保磁力（Ｈａ）化された磁気記録媒体が求めら
れている。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の磁気記録媒体は、磁性層に元素および元素が適
量添加された０ｏ−Ｎｉ系合金を用いることにより、耐
食性を損うことなく、高い保磁力（Ｈａ）をえたもので
ある。

すなわち本発明は、非磁性基体上に磁性層、さらに磁性
層上に保護層が形成された磁気記録媒体であって、該磁
性層が１０−４０％（原子チ、以下同様）　Ｎｉ　、　
４〜１４％　Ｏｒ　、　１〜３ｊ５％　Ｔａおよび残部
をＣＯとしたものである。

〔実施例〕

本発明の磁気記録媒体は、非磁性基体上に磁性層、さら
に磁性層上に保護層が形成された磁気記録媒体であり、
その形態としては、たとえば磁気ディスク、磁気テープ
、磁気ドラムなどがあげられる。

本発明の磁気記録媒体は、たとえば第１図（部分断面図
）に示すように非磁性基体（１）Ｊ７．に下地硬化ｍｆ
２１．非磁性金居下地Ｒ（３）　、　Ｏｏ　、Ｎｉ　、
ＯｒおよびＴａからなる磁性層（４）、保１姐５）が順
次形成されて構成されたものである。

前記非磁性基体としては、とくに限定されず、従来から
磁気記録媒体に用いられているものがあげられ、その具
体例としては、たとえばＡト４重ｆ％Ｍ、などのアルミ
ニウム合金、ガラス、セランツク、ポリイミド樹脂など
からなるものがあげられる。磁気ディスクの基体として
は、ｋｌ−４重量−Ｍｇは非磁性軽量２機械的強度、加
工性などの点で優れているのでとくに好ましい材料であ
る。

前記下地硬化層は、情報を読み書きするヘッドが高速で
摺動するのに耐えうるような耐変形強度、表面仕上げ性
などをもたせるために形成される層であり、厚さ１０〜
３０μｍの硬質Ｎ１−Ｐめつき、アルマイト層、などか
らなるものが好ましく、無電解めっき法、陽極酸化法な
どによシ形成することができる。

前記非磁性金属下地層は磁性層の磁気特性、とくに保磁
力（Ｈａ　）向上のために形成される層であシ、厚さ１
００〜５０００人のＯｒ　、　Ｉｎ　、　Ｂｉなどから
なるものが好ましく、スパッタリング法、蒸着法、イオ
ンブレーティング法などによシ形成することができる。

なお、非磁性下地金属層の膜厚が厚くなるほど保磁力は
高くなるが、たとえばＣｏ−Ｎｉ　磁性層とＣｒ非磁性
金属下地層の組合わせでは約５０００〜１００００人で
飽和する。

前記磁性層は、１０〜４０％Ｎｉ　、　４〜１４％Ｏｒ
　、　１〜３．５％Ｔａおよび残部ＯＯからなるもので
アリ、好ましくは２０〜３０％Ｎｉ　、　６〜１０　％
　Ｃｒ　、　１．５〜３％Ｔａおよび残部ＣＯからなる
ものである。磁性層にこのようなＯｒ元素およびＴａ元
素が添加されたＣｏ−Ｎｉ系合金を用いることにより、
高い保磁力０１ｃ）を有する高記録密度化に対応可能な
磁気記録媒体がえられる。

磁性層中のＮ１の含有率がＩｃ）４未満の場合や、４０
チをこえると、保磁力が低下する。Ｃｒの含有率が４チ
未満の場合や１４チをこえる場合、さらに、Ｔａの含有
率が１−未満の場合や３．５チをこえる場合も保磁力が
低下したりする。

磁性層の厚さは１００〜１２００人、ざらに２００〜９
００人が好ましく、その形成方法としては、スパッタリ
ング法、蒸着法、イオンブレーティング法などがあげら
れる。なかでもスパッタリング法は、連続して成膜する
ことが容易であるので好ましい。

前記保護層は、磁気記録装置の作動時のヘッドの耐摺動
性向上および耐食性向上のために形成される層であり、
厚さ１００〜７００人の力〜ボン、５ｉｏ２　。

Ｓｉ３Ｎ４などからなるものが好ましく、スパッタリン
グ法、蒸着法、イオンブレーティング法などにより形成
することができる。

以上説明したような磁気記録媒体の製造において、非磁
性金属下地層を形成したのちの磁性層を形成するまでの
インターバル侍間が短時間であるほど磁性特性が良好に
なるため、非磁性金属下地層および磁性層を連続して形
成するのが好ましい。

特にＮ１−Ｐめつきなどからなる下地硬化層が形成され
たアルミニウム合金、ガラスなどからなる基体上に、非
磁性金属下地層、磁性層および保護層を連続して同一装
置内でスパッタリング法により形成するのが好ましい。

さらに、磁性層および非磁性層には酸素原子を極力混入
させないようにするのが好ましく、酸素原子が含まれる
と磁性層のＣ０−Ｎｉの結晶配向性が区下し、磁気特性
が低下する。

もちろんスパッタリング雰囲気も０２ガスを極力減らす
ことが好ましい。

本発明の磁気記録媒体は、第１図に示すような非磁性基
体上に下地硬化層、非磁性金属下地層。

磁性層および保護層が順次形成されて構成されているも
のに限定されず、本発明による磁性層が非磁性基体上に
直接形成されてなるもの、おるいは保護層に１さらに潤
滑層を形成されたものでもよい０ つぎに具体的実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもので
はない。

（実施例７および比較例１２） 第１図に示すような磁気記録媒体をつぎのようにして作
製した。

非磁性基体（１）として平均表面粗さ０．２μｍ以下に
仕１げた外径３．５φインチのディスク状アルミニウム
合金（ＡＮ−４重ｔ％Ｍｇ　）円板を用い、この基体上
に膜厚２０μｍのＮ１−Ｐ合金膜を無電解めっき法によ
り形成した後、平均表面粗さ０．０６μｍ以下まで鏡面
研摩仕上げ加工して下地硬化層（２）を形成した。つき
゛に、この基体をスパッタリング装置内に装着し、所定
の真空度５　Ｘ　１Ｏ−７Ｔｏｒｒまで真壁引きした後
、１５０°Ｃまで予備加熱を行ない、Ｃｒｊ１！を膜厚
が艶■入になるまでｌｏｍｍＴｏｒｒアルゴンガスｌ：
Ｅ雰囲気中でスパッタリング成膜して非磁性金部下地ｆ
ｍ　（３）を形成した。

つぎに磁性層（４）としてＣｏ／Ｎｉ原子比がワ：３（
Ｏｏ−Ｎｉ合金はＮ１含有量が１０〜４０％で高い保磁
力（Ｈｃ）を示すので、７：３に設定した）、Ｏｒおよ
びＴａ含有量が第２表に示す量のＣｏ　、　Ｎｉ　、　
ＯｒおよびＴａからなる磁性層を、非磁性金属下地層を
形成後、連続して同一スパッタリング装置内（雰囲気は
前記と同じ）で、 第２表 膜厚が５００Ａになるように形成した。さらに、続いて
同一スパッタリング装置内（雰囲気は前記と同じ）で膜
厚４００人のカーボンｉｔスパッタリング成膜し、保護
層を形成した。

このようＫして作製した試料の保磁力（Ｈｃ）を測定し
た。結果を第２図および第３図に示す。なお、第２図お
よび第３図中、（０）、（Δ）および（ロ）Ｆｉ本発明
の実施例であり、（＠Ｌ（ム）および（１）は比較例で
ある。

第２図から、Ｏｒを４〜１４係添加することにより、保
磁力（Ｈｃ）が向上することがわかる。着た、第３図か
ら、“Ｐａを１〜３．５チ添加することにより保磁力（
Ｈａ）が向上することがわかる。

なお、作製した試料の残留磁求密朋（Ｂｒ）は、いずれ
も５０００〜９０００　Ｇ（ｇａｕｓｓ　）　、角形（
Ｄｒ／Ｂｓ）は０．７〜０．９の範囲内でめった。

（実施例７および比較例１２） 磁性層として２７％Ｎ１−７％Ｏｒ　−２，２４Ｔａ残
部ＣＯ（実施例７）またはＣｏ　−３０チＮｉ（比較例
１２）から々る膜厚５００人の層を形成したほかは、実
施例１〜６と同様にして磁気ディスクを製雀した。

得られた磁気ディスクの耐食性を恒温恒湿暴露試験によ
って評価した。試験方法は、８５°Ｃ１相対湿度９０チ
雰囲気中、１０日間、さらに２０日間放置し、通常行な
われている円板テスターにより、エラー発生開数を測定
した。結果を第４図に示す。

第４図から、本発明の磁気記録媒体の磁性層は従来から
使用されているＣＯ−３０％Ｎ１合金からなる磁性層に
比べ耐食性にすぐれていることがわかる。

〔発明の効果〕

本発明の磁気記録媒体は、磁性層としてＯｒおよびＴａ
が適埼添加されたＣｏ−Ｎｉ、系合金が用いられている
ので、耐食性に優れ、かつ高保磁力（Ｈａ）の磁気記録
媒体である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による磁気記録媒体の部分断
面図、第２図は磁性層のＣｒ陰有量を変化させたときの
保磁力（Ｈａ）の変化を示す説明図、第３図は磁性層の
Ｔａ含有量を変化させたときの保磁力（Ｈａ）変化を示
す説明図、第４図は実施例７および比較例１２の磁気記
録媒体の恒温恒湿暴露試験の結果を示す説明図、第５図
および第６図は従来の磁気記録媒体の部分断面図でおる
。 図において、（１）は非磁性基体、（４）は磁性層であ
る０ なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す０

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基体上に磁性層を形成し、この磁性層上に
   保護層が形成された磁気記録媒体において、上記磁性層
   が１０〜４０原子％Ｎｉ、４〜１４原子％Ｃｒ、１〜３
   ．５原子％Ｔａおよび残部Ｃｏからなることを特徴とす
   る磁気記録媒体。