JPS59217224A - 磁気記憶体 - Google Patents
磁気記憶体Info
- Publication number
- JPS59217224A JPS59217224A JP58090191A JP9019183A JPS59217224A JP S59217224 A JPS59217224 A JP S59217224A JP 58090191 A JP58090191 A JP 58090191A JP 9019183 A JP9019183 A JP 9019183A JP S59217224 A JPS59217224 A JP S59217224A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coated
- magnetic
- oxide
- film
- metallic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気的記憶装置（磁気ディスク装置および磁気
ドラム装置等）に用いられる蝉気記１意体に関する。
ドラム装置等）に用いられる蝉気記１意体に関する。
現在実用化されている磁気記憶体は不連続媒体粒子を有
機樹脂からなる結合剤中に混合分散して、基体上に塗布
・乾燥・焼成して装造するため、磁化の要請によシ、連
続薄膜媒体からなる磁気記録媒体の研究−発が盛んに行
なわれている。この連続薄膜媒体の１つにメッキ、真空
蒸着、スパッタ。
機樹脂からなる結合剤中に混合分散して、基体上に塗布
・乾燥・焼成して装造するため、磁化の要請によシ、連
続薄膜媒体からなる磁気記録媒体の研究−発が盛んに行
なわれている。この連続薄膜媒体の１つにメッキ、真空
蒸着、スパッタ。
イオンブレーティング等の手法により作られる金属磁性
媒体が知られている１、該金属磁性媒体は下地の種類に
よって磁気特性あるいは出力の均一性が左右される。
媒体が知られている１、該金属磁性媒体は下地の種類に
よって磁気特性あるいは出力の均一性が左右される。
本発明の目的は金属磁性媒体に優れた磁気特性と出力の
均一性を与える該媒体の下地を有する磁気記憶体を提供
するものである。
均一性を与える該媒体の下地を有する磁気記憶体を提供
するものである。
すなわち本発明の磁気記憶体は金属円盤上に非磁性金属
層又は非磁性金属酸化物層が被覆され、該非磁性金属層
又は非磁性金属酸化物層上にＣ。
層又は非磁性金属酸化物層が被覆され、該非磁性金属層
又は非磁性金属酸化物層上にＣ。
酸化物あるいはＣｏ −Ｎｉ 酸化物を介してコバルト
合金からなる金属薄膜媒体が被覆され、該媒体上に保護
膜が被覆されて構成されている。
合金からなる金属薄膜媒体が被覆され、該媒体上に保護
膜が被覆されて構成されている。
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
図は本発明の磁気記憶体の部分断面図である。図におい
て磁気記憶体の金属円盤１としてアルミ合金が軽くて加
工性が良く安価なことから最も良く用いられるが、場合
によってはチタン合金が用いられることもある。基盤表
面は機械加工によシ小さなうねシ（円周方向で５０μｍ
以下、半径方向で１１００ｐ以下）を有する面に仕上げ
られている。
て磁気記憶体の金属円盤１としてアルミ合金が軽くて加
工性が良く安価なことから最も良く用いられるが、場合
によってはチタン合金が用いられることもある。基盤表
面は機械加工によシ小さなうねシ（円周方向で５０μｍ
以下、半径方向で１１００ｐ以下）を有する面に仕上げ
られている。
次にこの基盤１の上に非磁性金属層２としてニッケルー
燐合金がめっきによシ被覆され、該金属層２０表面は機
械的研磨によシ最犬表面粗さ０．０３μｍ以下に鏡面仕
上げされる。
燐合金がめっきによシ被覆され、該金属層２０表面は機
械的研磨によシ最犬表面粗さ０．０３μｍ以下に鏡面仕
上げされる。
次に上記金属層２の上にＣｏ−Ｐ又はＣｏ −Ｎ ｉ
−Ｐがメッキ法によって被覆され、該Ｃｏ−Ｐ又はＣｏ
−Ｎ１−Ｐ被膜を希硝酸に浸漬して２５０〜３００℃で
焼成しＣｏ酸化物あるいはＣｏ −Ｎ ｉ酸化物からな
る転化膜３を形成する。該転化膜３の上にＣｏ−Ｐｔ。
−Ｐがメッキ法によって被覆され、該Ｃｏ−Ｐ又はＣｏ
−Ｎ１−Ｐ被膜を希硝酸に浸漬して２５０〜３００℃で
焼成しＣｏ酸化物あるいはＣｏ −Ｎ ｉ酸化物からな
る転化膜３を形成する。該転化膜３の上にＣｏ−Ｐｔ。
Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐｔ 、 Ｃｏ−’Ｎ−Ｐｔ 、 Ｃ
ｏ−Ｖ−Ｐｔ 、 Ｃｏ−Ｃｒ −Ｐｔ 、Ｃｏ −Ｒ
ｅ−Ｐｔ 、Ｃｏ−８ｔ −Ｐｔ 、Ｃｏ −Ｇｅ−Ｐ
ｔ 。
ｏ−Ｖ−Ｐｔ 、 Ｃｏ−Ｃｒ −Ｐｔ 、Ｃｏ −Ｒ
ｅ−Ｐｔ 、Ｃｏ−８ｔ −Ｐｔ 、Ｃｏ −Ｇｅ−Ｐ
ｔ 。
Ｃｏ −Ｍｏ−Ｐｔ 、 Ｃｏ −Ｔａ−Ｐｔ 、 Ｃ
ｏ−Ｔｉ −Ｐｔ 、 Ｃｏ−Ｚｒ−ＰｔあるいはＣｏ
−Ｈｆ −Ｐ ｔ などのコバルト及び白金を含む
金属磁性媒体４がスパッタリング、メッキ、−７９蒸着
又はイオンブレーティング法によ）被膜される。Ｃｏ酸
化物からなる転化膜３の上に被覆された上記媒体４は保
磁力（Ｈｅ） ５００＝１７０ＵｏＱ（エルステッド）
、飽和磁束密度（Ｂｓ） ３０００〜１秒０００ Ｇ
（ガウス）、角形比０．８〜０．９７の範囲の優れたヒ
ステリシス特性を示す。
ｏ−Ｔｉ −Ｐｔ 、 Ｃｏ−Ｚｒ−ＰｔあるいはＣｏ
−Ｈｆ −Ｐ ｔ などのコバルト及び白金を含む
金属磁性媒体４がスパッタリング、メッキ、−７９蒸着
又はイオンブレーティング法によ）被膜される。Ｃｏ酸
化物からなる転化膜３の上に被覆された上記媒体４は保
磁力（Ｈｅ） ５００＝１７０ＵｏＱ（エルステッド）
、飽和磁束密度（Ｂｓ） ３０００〜１秒０００ Ｇ
（ガウス）、角形比０．８〜０．９７の範囲の優れたヒ
ステリシス特性を示す。
金属磁性媒体４の上に被覆される保踵膜は硬質であるこ
とが好ましく、オスミウム、ルテニウム。
とが好ましく、オスミウム、ルテニウム。
イリジウム、マンガン、タングステン等の金属あるいは
ケイ素、チタン、タンタルまたはハフニウムの酸化物、
窒化物または炭化物あるいはホウ素。
ケイ素、チタン、タンタルまたはハフニウムの酸化物、
窒化物または炭化物あるいはホウ素。
炭素あるいはホウ素と炭素の合金あるいはダイアモンド
状カーボンあるいはポリ珪酸が望ましい。
状カーボンあるいはポリ珪酸が望ましい。
さらに保護膜４の上にＲ−Ｇ（ＲはＣ数１０〜４０の飽
和又は不飽和炭化水素又は）ν素化炭化水素。
和又は不飽和炭化水素又は）ν素化炭化水素。
ＧはＣ０ＯＨ，ＯＨ，ＮＨ，、Ｃ０ＯＲ’ 、 Ｓｉ
（ＯＲ’ ）ｓ 。
（ＯＲ’ ）ｓ 。
エチレンテロマー等の潤滑剤を塗布することも出来る。
次にいくつかの例をあけて本発明を説明する。
実施例１゜
金属円盤１として旋盤加工および熱矯正によって十分小
さなうねシ（円周方向で５０ｐｍ以下および半径方向で
１０μｍ以下）を有する面に仕上げられたディスク状ア
ルミニウム合金盤上に非磁性合金としてニッケルー燐合
金を約５０ｐｍの厚さにめっきし、このニッケルー燐め
っき膜を最大表面粗さ０．０２μｍ、厚さ３０μｍまで
鏡面研磨仕上げした。
さなうねシ（円周方向で５０ｐｍ以下および半径方向で
１０μｍ以下）を有する面に仕上げられたディスク状ア
ルミニウム合金盤上に非磁性合金としてニッケルー燐合
金を約５０ｐｍの厚さにめっきし、このニッケルー燐め
っき膜を最大表面粗さ０．０２μｍ、厚さ３０μｍまで
鏡面研磨仕上げした。
次にこのニッケルー燐めっき膜２上にＧｏ−Ｐをめっき
によシ０．１μｍの厚さに被覆し、０．５４の希硝酸水
溶液に浸漬した後、２７５℃で１時間焼成してコバルト
酸化物からなる転化）換３を形成した。
によシ０．１μｍの厚さに被覆し、０．５４の希硝酸水
溶液に浸漬した後、２７５℃で１時間焼成してコバルト
酸化物からなる転化）換３を形成した。
次にこの転化膜３の上に金属薄膜媒体４としてＣ００Ｊ
ｐｔ６．ｌ薄膜がスパッタリングによシ膜厚５００Ａ
で被覆され該媒体上に保護膜５として５ｉｎ２が２００
Ｘの膜厚でスパッタリングによる被覆して磁気ディスク
を作った。
ｐｔ６．ｌ薄膜がスパッタリングによシ膜厚５００Ａ
で被覆され該媒体上に保護膜５として５ｉｎ２が２００
Ｘの膜厚でスパッタリングによる被覆して磁気ディスク
を作った。
実施例２゜
実施例１と同様にして但し転化膜３としてＣｏ−Ｎ１−
ＰをめっきによＪｏ、１μｍの厚さに被覆し、０．１％
の希硝酸水溶液に浸漬した後、３００℃で１時間焼成し
てコバルト・ニッケル酸化物からなるノ摸を形成して磁
気ディスクを作った。
ＰをめっきによＪｏ、１μｍの厚さに被覆し、０．１％
の希硝酸水溶液に浸漬した後、３００℃で１時間焼成し
てコバルト・ニッケル酸化物からなるノ摸を形成して磁
気ディスクを作った。
実施例３゜
実施例１と同様にして但し金属磁性媒体４としてＣｏ−
Ｎ ｉ −Ｐ ｔを用いて磁気ディスクを作った。
Ｎ ｉ −Ｐ ｔを用いて磁気ディスクを作った。
実施例４
実施例１と同様にして但し金属磁性媒体４としてＣｏ−
８ｉ−Ｐｔを用いて磁気ディスクを作った。
８ｉ−Ｐｔを用いて磁気ディスクを作った。
実施例５
実施例１と同様にして但し金属磁性媒体４としてＣｏ−
Ｇｅ−Ｐｔを用いて磁気ディスクを作った。
Ｇｅ−Ｐｔを用いて磁気ディスクを作った。
実施例６
実施例１と同様にして但し金属磁性媒体４としてＣｏ−
ＩＶＩｏ −Ｐ ｔを用いて磁気ディスクを作った。
ＩＶＩｏ −Ｐ ｔを用いて磁気ディスクを作った。
実施例７
実施例１と同様にして但し金属磁性媒体４としてＣｏ
−Ｖ−Ｐ ｔ を用いて磁気ディスクを作った。
−Ｖ−Ｐ ｔ を用いて磁気ディスクを作った。
実施例８
実施例１と同様にして但し金属磁性媒体４としてＣｏ−
Ｃｒ−Ｐｔを用いて磁気ディスクを作った。
Ｃｒ−Ｐｔを用いて磁気ディスクを作った。
実施例９゜
実施例１と同様にして但し保護膜５としてテトラヒドロ
キシシラン２．４重蓋％イソグロビルアルコール溶液を
スピン塗布して被覆したポリ珪酸を用いて磁気ディスク
を作った。
キシシラン２．４重蓋％イソグロビルアルコール溶液を
スピン塗布して被覆したポリ珪酸を用いて磁気ディスク
を作った。
実施例１０゜
実施例１と同様にして但し保護膜５としてタングステン
をスパッタリングにょシ被覆して磁気ディスクを作った
。
をスパッタリングにょシ被覆して磁気ディスクを作った
。
以上実施例１〜１０で示した磁気ディスクを用いて電磁
変換特性およびヘッドとの摩耗試験および環境試験を行
なった結果、次の特性を得た。電磁変換特性については
実施例１〜のディスクについて４ＩＯ００〜８０，００
０ ＦＲＰＩの記録密度が得られた。ヘッドとの摩耗試
験は２万回のコンタクトスタートストップテストを行な
ったところ、ディスク表面に傷は全く見られなかった。
変換特性およびヘッドとの摩耗試験および環境試験を行
なった結果、次の特性を得た。電磁変換特性については
実施例１〜のディスクについて４ＩＯ００〜８０，００
０ ＦＲＰＩの記録密度が得られた。ヘッドとの摩耗試
験は２万回のコンタクトスタートストップテストを行な
ったところ、ディスク表面に傷は全く見られなかった。
又、温度８０℃。
相対湿度９０９６で６ケ月放置する壊境試朕を行なった
ところ、実施例１〜１０についてはエラーの増加数は全
てゼロであっｆｃｏまだ転化膜を介さないで直接非磁性
金属上に金属薄膜媒体を被覆した場合に比べＳ、Ｈは３
ｄＢ改善された。
ところ、実施例１〜１０についてはエラーの増加数は全
てゼロであっｆｃｏまだ転化膜を介さないで直接非磁性
金属上に金属薄膜媒体を被覆した場合に比べＳ、Ｈは３
ｄＢ改善された。
以上の結果から本発明の磁気記憶体は優れた副食性（耐
環境性）及び耐摩耗性及び高記憶密度特性を有している
ことが分った。
環境性）及び耐摩耗性及び高記憶密度特性を有している
ことが分った。
図は本発明の磁気記憶体の一実施例の部分哨面図。
図中、１は金属円盤、２は非磁性合金ノー、３はＣｏ
（７１化物あるいはＣｏ−Ｎ ｉ酸化物からなる転化膜
、４はコバルト及び白金を含む金属薄膜媒体、５は保護
膜である。
（７１化物あるいはＣｏ−Ｎ ｉ酸化物からなる転化膜
、４はコバルト及び白金を含む金属薄膜媒体、５は保護
膜である。
Claims (3)
- （１） 金属円盤上に非磁性合金が被覆され、さらに
該非磁性合金上にｃｏ酸化物あるいはＣｏ−Ｎｉ酸化物
からなる転化膜が被覆され、さらに該転化膜の上処コバ
ルトおよび白金を含む金属磁性媒体が被覆され、さらに
該媒体上に保護膜が被覆されて構成されたことを特徴と
する磁気記憶体。 - （２）転化膜１）ｉｃｏ Ｏ、ＣｏｇＯ，、ＣｏｇＯ４
、ＮｉＯ（１）うち少なくとも１以上を含んでいる特許
請求の範囲第１項記載の磁気記憶体。 - （３） コバルトおよび白金を含む金属磁性媒体がＣ
ｏ−Ｐｔ 、Ｃｏ −Ｎｉ−Ｐｔ 、Ｃｏ−Ｗ−ＰＬ
、Ｃｏ−Ｖ−Ｐｔ 。 Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ 、Ｃｏ −Ｒｅ−Ｐｔ、 Ｃｏ−８
ｉ −Ｐｔ 、Ｃｏ −Ｇｅ −Ｐｔ 、Ｃｏ −Ｍｏ
−Ｐｔ 、 Ｃｏ −Ｔａ−Ｐｔ 、 Ｇｏ −Ｔｉ
−Ｐｔ 、 Ｃｏ−Ｚｒ−Ｐｔ あるいはＣｏ−ＨｆＰ
ｔ である特許請求の範囲第１．！１Ｉｉ１記載の磁気
記憶体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58090191A JPS59217224A (ja) | 1983-05-23 | 1983-05-23 | 磁気記憶体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58090191A JPS59217224A (ja) | 1983-05-23 | 1983-05-23 | 磁気記憶体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59217224A true JPS59217224A (ja) | 1984-12-07 |
| JPH0474772B2 JPH0474772B2 (ja) | 1992-11-27 |
Family
ID=13991587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58090191A Granted JPS59217224A (ja) | 1983-05-23 | 1983-05-23 | 磁気記憶体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59217224A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61250836A (ja) * | 1985-04-29 | 1986-11-07 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US4786564A (en) * | 1987-02-25 | 1988-11-22 | Komag, Inc. | Method for manufacturing a magnetic disk having reduced bit shift, minimized noise, increased resolution and uniform magnetic characteristics, and the resulting disk |
| US4789598A (en) * | 1987-01-20 | 1988-12-06 | International Business Machines Corporation | Thin film medium for horizontal magnetic recording having an improved cobalt-based alloy magnetic layer |
| US5024903A (en) * | 1988-04-04 | 1991-06-18 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Magnetic recording medium having a magnetic layer of a quaternary alloy |
| US5153044A (en) * | 1987-02-25 | 1992-10-06 | Komag, Inc. | Magnetic disk for longitudinal recording comprising an amorphous intermediate layer |
| JPH04281214A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-06 | Nec Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH05151567A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-06-18 | Nec Corp | 磁気記録体の製造方法 |
-
1983
- 1983-05-23 JP JP58090191A patent/JPS59217224A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61250836A (ja) * | 1985-04-29 | 1986-11-07 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US4789598A (en) * | 1987-01-20 | 1988-12-06 | International Business Machines Corporation | Thin film medium for horizontal magnetic recording having an improved cobalt-based alloy magnetic layer |
| US4786564A (en) * | 1987-02-25 | 1988-11-22 | Komag, Inc. | Method for manufacturing a magnetic disk having reduced bit shift, minimized noise, increased resolution and uniform magnetic characteristics, and the resulting disk |
| US5153044A (en) * | 1987-02-25 | 1992-10-06 | Komag, Inc. | Magnetic disk for longitudinal recording comprising an amorphous intermediate layer |
| US5024903A (en) * | 1988-04-04 | 1991-06-18 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Magnetic recording medium having a magnetic layer of a quaternary alloy |
| JPH04281214A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-06 | Nec Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH05151567A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-06-18 | Nec Corp | 磁気記録体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0474772B2 (ja) | 1992-11-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0580804B2 (ja) | ||
| JPH0572727B2 (ja) | ||
| JPS59217224A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JP2540479B2 (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS5961107A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS61199224A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6018817A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0556006B2 (ja) | ||
| JP2952967B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS59180829A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0556007B2 (ja) | ||
| JPH0514325B2 (ja) | ||
| JPH0580805B2 (ja) | ||
| JPS6035332A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS615437A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPS60193124A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0580803B2 (ja) | ||
| JPS59116923A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS6364623A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61199236A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0467252B2 (ja) | ||
| JPH0467251B2 (ja) | ||
| JPH0467250B2 (ja) | ||
| JPS62256217A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61199230A (ja) | 磁気記録媒体 |