JPS615437A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS615437A JPS615437A JP12580684A JP12580684A JPS615437A JP S615437 A JPS615437 A JP S615437A JP 12580684 A JP12580684 A JP 12580684A JP 12580684 A JP12580684 A JP 12580684A JP S615437 A JPS615437 A JP S615437A
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- Japan
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- magnetic
- magnetic disk
- material layer
- disk
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」 １この発明は
表面保膿性の嵩い磁気ディスクの製造方法に関するもの
でおる。
表面保膿性の嵩い磁気ディスクの製造方法に関するもの
でおる。
「従来の技術」
周知のように、磁気ディスク記憚装置は、ｌ〜ｌＯ枚程
度の磁気ディスクを同一軸上に適尚な間隔を置いて配列
して、これを記録媒体とし、例えば−これら磁気でィス
クの各面に対し、通常ｌ鯛のヘッドを設け、これち￥１
つの可動機構に固定して同時に動くようにし、読出し・
書込みにおいてこれらのヘッドをディスクの中径方向に
移動する構造の装置である。この装置においては、記録
密度を上げるためには、ヘッドとディスク表面との間隔
をできるだけ接近させ、かつ一定に保つことが必要であ
り、現在はディスクの高速回転によりディスク表面に生
ず全空気流によりヘッドを浮かせて間隔を保つ浮動ヘッ
ド方式が採用されている。従って、ディスクの停止時に
ヲキヘッドはディスク表面上に当接しており、ディスク
の始動、停止の前後においてはディスク表面にヘッドが
摺接することになる。
度の磁気ディスクを同一軸上に適尚な間隔を置いて配列
して、これを記録媒体とし、例えば−これら磁気でィス
クの各面に対し、通常ｌ鯛のヘッドを設け、これち￥１
つの可動機構に固定して同時に動くようにし、読出し・
書込みにおいてこれらのヘッドをディスクの中径方向に
移動する構造の装置である。この装置においては、記録
密度を上げるためには、ヘッドとディスク表面との間隔
をできるだけ接近させ、かつ一定に保つことが必要であ
り、現在はディスクの高速回転によりディスク表面に生
ず全空気流によりヘッドを浮かせて間隔を保つ浮動ヘッ
ド方式が採用されている。従って、ディスクの停止時に
ヲキヘッドはディスク表面上に当接しており、ディスク
の始動、停止の前後においてはディスク表面にヘッドが
摺接することになる。
一方、薄膜磁気ディスクには、磁性めっき層が潤ｆｙ＃
剤を介し【表面に露出している構造のものと、磁性めっ
き層の上に保護層としてｓｉｏ、薄膜層、ニッケル合金
層などが塑成され、その上に潤滑剤を脆布した構造のも
のが、ある。
剤を介し【表面に露出している構造のものと、磁性めっ
き層の上に保護層としてｓｉｏ、薄膜層、ニッケル合金
層などが塑成され、その上に潤滑剤を脆布した構造のも
のが、ある。
「発明が解決しようとする問題点」
上記のような構造の従来の磁気ディスクにおいては、上
記したヘッドとの構造上の関係から下記のような問題点
が発生しており、その解決が望まれている。
記したヘッドとの構造上の関係から下記のような問題点
が発生しており、その解決が望まれている。
すなわち、上記した２つの構造の磁気ディスクのどちら
においても、つまり、磁性めっき層が表面にある場合で
も、その上にニッケル合金層等の保護層が表面にある場
合でも、これら磁性めつきＩＷｉおよび保護層の硬度、
耐摩耗性が比較的低いので、ディスクの始動、停止時に
ヘッドがディスク表面に摺接するその経時変化によりデ
ィスク表面の摩耗がすすみ、出力の低下、摩耗粉による
ヘッドクラッシュ等が発生してしまうという問題点であ
る。
においても、つまり、磁性めっき層が表面にある場合で
も、その上にニッケル合金層等の保護層が表面にある場
合でも、これら磁性めつきＩＷｉおよび保護層の硬度、
耐摩耗性が比較的低いので、ディスクの始動、停止時に
ヘッドがディスク表面に摺接するその経時変化によりデ
ィスク表面の摩耗がすすみ、出力の低下、摩耗粉による
ヘッドクラッシュ等が発生してしまうという問題点であ
る。
これに対し、化学的安定性、硬度などの特性に置れた金
属酸化物層を保護層とした磁気ディスクも知られている
が、この磁気ディスクにおいては、その金属酸化物層は
周知のスパッタ法により形成するものなので、イニシア
ルコストが高くなり、また処理条件の設定がむずかしい
という欠点が６る。
属酸化物層を保護層とした磁気ディスクも知られている
が、この磁気ディスクにおいては、その金属酸化物層は
周知のスパッタ法により形成するものなので、イニシア
ルコストが高くなり、また処理条件の設定がむずかしい
という欠点が６る。
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ヘッド
の摺接によってその表面が摩耗されることが少なく、摩
耗粉の発生４ｉとんど見られず、コスト高を招くことの
ない磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とす
るものである。
の摺接によってその表面が摩耗されることが少なく、摩
耗粉の発生４ｉとんど見られず、コスト高を招くことの
ない磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とす
るものである。
［問題点を解決するための手段」
この発明に係る磁気ディスクの製造方法は、最外層を形
成している磁性材層またはこの磁性材層上にさらに形成
した非磁性金属材層の表面をオゾンによって酸化し、最
外層に不純物の混入のない金属酸化物層を形成し、これ
によって表面保護性の高い磁気ディスクを容易に得るこ
とができるようにしたものである。なお、オゾン雰囲気
化における酸化処理は、常温にて行なってもよいが、加
熱下（２５０℃以下）で行なえば処理時間を短かくシ、
ディスクの製造速度を上げることができる。
ｌ・「作用」 上記のように、この発明の方法によれば、磁気ディスク
の最外層に安価、容易に不純物のない金属酸化物層を形
成することができるので、長期に亘って特性上問題とな
る摩耗を受けることがなく、したがって摩耗粉の発生も
ほとんどなく、ヘッドクラッシュを起こすことのない表
面保麟性の高い磁気ディスクを容易かつコスト高を招く
ことなく製造することができる。
成している磁性材層またはこの磁性材層上にさらに形成
した非磁性金属材層の表面をオゾンによって酸化し、最
外層に不純物の混入のない金属酸化物層を形成し、これ
によって表面保護性の高い磁気ディスクを容易に得るこ
とができるようにしたものである。なお、オゾン雰囲気
化における酸化処理は、常温にて行なってもよいが、加
熱下（２５０℃以下）で行なえば処理時間を短かくシ、
ディスクの製造速度を上げることができる。
ｌ・「作用」 上記のように、この発明の方法によれば、磁気ディスク
の最外層に安価、容易に不純物のない金属酸化物層を形
成することができるので、長期に亘って特性上問題とな
る摩耗を受けることがなく、したがって摩耗粉の発生も
ほとんどなく、ヘッドクラッシュを起こすことのない表
面保麟性の高い磁気ディスクを容易かつコスト高を招く
ことなく製造することができる。
また、保護被膜としての金属酸化物層は１．素地に充分
に密着していることが大切なことは言うまでもないが、
それと同時に均一かつ薄膜でおることも重要な要素とな
る。つまり、金Ｆ４＃を化物層表面の荒れ、膜厚の不均
一が起こると、この金属酸化物層は磁気ディスクの保護
膜として実用に供することができない。これに対し、本
方法のようにオゾンを用いると、酸化力の調整が容易と
なり、表向の荒れのない膜厚の均一かつ薄い金属酸化物
層を形成することかでき、きわめて高品質の磁気ディス
クが得られる。
に密着していることが大切なことは言うまでもないが、
それと同時に均一かつ薄膜でおることも重要な要素とな
る。つまり、金Ｆ４＃を化物層表面の荒れ、膜厚の不均
一が起こると、この金属酸化物層は磁気ディスクの保護
膜として実用に供することができない。これに対し、本
方法のようにオゾンを用いると、酸化力の調整が容易と
なり、表向の荒れのない膜厚の均一かつ薄い金属酸化物
層を形成することかでき、きわめて高品質の磁気ディス
クが得られる。
また、本方法における酸化処理はオゾンにより行なうの
で、処理の簡単なドライ処理とするととができ、しかも
無害で公害を起こすこともない。
で、処理の簡単なドライ処理とするととができ、しかも
無害で公害を起こすこともない。
次に、この発明を実施例によりさらに詳しく説明するっ
「実施例」
図に示すように、非磁性基板として充分に小さなうねり
（円周方向で５０μｍ以下かつ半径方向で１０μｍ以下
）をもつ面に仕上げた円板状のアルミニウム合金板１上
に無電解めっきにより２０μｍ厚のニッケル・リン合金
に層（磁性材層）２を形成したつこのニッケル・リン合
金層２０表面２ａを表面粗さＲｍ□ ０，１μｍに研磨
仕上げし、この上に無電解めっきにより０．１０μｍ厚
のコバルト・リン合金層（磁性材層）３を形成した。次
に、このようにして作製したディスクを１２０℃に加熱
したオゾン雰囲気中に１時間保持して最外層にほぼ０．
０５μｍの酸化コバルト＃（金属酸化物層）４を形成し
た。最後にこの酸化コバルト層４上に潤滑剤としてパー
７０ロボリエーテル５を約Ｑ、０１１１ｍ塗布した。
（円周方向で５０μｍ以下かつ半径方向で１０μｍ以下
）をもつ面に仕上げた円板状のアルミニウム合金板１上
に無電解めっきにより２０μｍ厚のニッケル・リン合金
に層（磁性材層）２を形成したつこのニッケル・リン合
金層２０表面２ａを表面粗さＲｍ□ ０，１μｍに研磨
仕上げし、この上に無電解めっきにより０．１０μｍ厚
のコバルト・リン合金層（磁性材層）３を形成した。次
に、このようにして作製したディスクを１２０℃に加熱
したオゾン雰囲気中に１時間保持して最外層にほぼ０．
０５μｍの酸化コバルト＃（金属酸化物層）４を形成し
た。最後にこの酸化コバルト層４上に潤滑剤としてパー
７０ロボリエーテル５を約Ｑ、０１１１ｍ塗布した。
上記のようにして製造した磁気ディスクを２ｘ１０’回
のＣＢＳテスト（コンタクト・スタート・ストップテス
ト）に供した結果、電磁変換特性に変化は認められず、
摩耗粉の発生も、ヘッドクラッシュの発生も見られなか
った。これによりこの発明の方法により製造した磁気デ
ィスクは、すぐれた耐久性を有し、高信頼性、高品質性
をもつことが確められた。
のＣＢＳテスト（コンタクト・スタート・ストップテス
ト）に供した結果、電磁変換特性に変化は認められず、
摩耗粉の発生も、ヘッドクラッシュの発生も見られなか
った。これによりこの発明の方法により製造した磁気デ
ィスクは、すぐれた耐久性を有し、高信頼性、高品質性
をもつことが確められた。
「効果」
以上説明したように、この発明に係る磁気ディス、りの
製造方法は、最外層を形成している磁性材層またはこの
磁性材層上にさらに形成された非磁性材層をオゾンによ
り酸化して最外層に不純物の混入のない金属酸化物層を
均一に、かつ容易、安価、安全に形成するものなので、
経時的なヘッドの摺接によって表面が摩耗されることが
少なく、摩耗粉の発生も捻とんど見られず、すぐれた耐
久性を発揮し、高信頼性、高品質な磁気ディスクを容易
かつコスト高を招くことなく製造することができる。
製造方法は、最外層を形成している磁性材層またはこの
磁性材層上にさらに形成された非磁性材層をオゾンによ
り酸化して最外層に不純物の混入のない金属酸化物層を
均一に、かつ容易、安価、安全に形成するものなので、
経時的なヘッドの摺接によって表面が摩耗されることが
少なく、摩耗粉の発生も捻とんど見られず、すぐれた耐
久性を発揮し、高信頼性、高品質な磁気ディスクを容易
かつコスト高を招くことなく製造することができる。
図はこの発明の方法によって製造した磁気ディスクの一
例を示す断面構成図である。 １・・・アルミニウム合金板（非磁性基板）、２・・・
ニッケル・リン合金層（磁性材層）、３・・・コバルト
・リン合金層（磁性材層）、４・・・酸化コバルト層（
金属酸化物層）、５・・・パーフロロポリエーテル（潤
滑剤）。
例を示す断面構成図である。 １・・・アルミニウム合金板（非磁性基板）、２・・・
ニッケル・リン合金層（磁性材層）、３・・・コバルト
・リン合金層（磁性材層）、４・・・酸化コバルト層（
金属酸化物層）、５・・・パーフロロポリエーテル（潤
滑剤）。
Claims (2)
- （１）ディスク本体の最外層の磁性材層または非磁性金
属材層の表面をオゾンによつて酸化し、前記ディスク本
体の最外層に保護被膜となる金属酸化物層を形成するこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - （２）オゾンによる酸化処理を加熱雰囲気下において行
なうことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12580684A JPS615437A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12580684A JPS615437A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS615437A true JPS615437A (ja) | 1986-01-11 |
Family
ID=14919368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12580684A Pending JPS615437A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS615437A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62282858A (ja) * | 1986-05-27 | 1987-12-08 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US4816334A (en) * | 1986-04-04 | 1989-03-28 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| KR20200123214A (ko) | 2018-04-11 | 2020-10-28 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 슬라이딩 게이트 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5960738A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1984
- 1984-06-19 JP JP12580684A patent/JPS615437A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5960738A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4816334A (en) * | 1986-04-04 | 1989-03-28 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| JPS62282858A (ja) * | 1986-05-27 | 1987-12-08 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| KR20200123214A (ko) | 2018-04-11 | 2020-10-28 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 슬라이딩 게이트 |
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