JPS61168118A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61168118A JPS61168118A JP832185A JP832185A JPS61168118A JP S61168118 A JPS61168118 A JP S61168118A JP 832185 A JP832185 A JP 832185A JP 832185 A JP832185 A JP 832185A JP S61168118 A JPS61168118 A JP S61168118A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- substrate
- film
- thin film
- scar
- Prior art date
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばメッキ型磁気ディスクといった磁気記
録媒体に関するものである。
録媒体に関するものである。
例えば、コンピュータ周辺機器の記憶媒体として用いら
れている磁気ディスクには、塗布型のものとメッキ型の
ものとがある。
れている磁気ディスクには、塗布型のものとメッキ型の
ものとがある。
これらのうちメッキ型のものは、磁性膜形成にバインダ
ー樹脂が用いられていないので、すなわち例えばＣｏ系
磁性合金材料を非磁性基体上にメッキ手段で設けたもの
であるから、磁性材料の充填密度が高く、高密度化に適
しているものの、これで充分満足できるものでもなく、
さらなる研究が続けられている。
ー樹脂が用いられていないので、すなわち例えばＣｏ系
磁性合金材料を非磁性基体上にメッキ手段で設けたもの
であるから、磁性材料の充填密度が高く、高密度化に適
しているものの、これで充分満足できるものでもなく、
さらなる研究が続けられている。
つまり、従来のメッキ型磁気ディスクは、メッキ磁性膜
の膜面内での磁化容易軸が等方向なものとなっているこ
とより、その再生出力、分解能等にふ・いて問題が残さ
れていたのである。
の膜面内での磁化容易軸が等方向なものとなっているこ
とより、その再生出力、分解能等にふ・いて問題が残さ
れていたのである。
本発明者は、例えばメッキ型磁気ディスクのメッキ磁性
膜は、その成膜過程における下地膜の表面状態によって
大きく影響を受けるのではないかと考え、このような発
想に基いて研究を続けた所、メッキ磁性膜の磁化容易軸
方向は下地膜の表面状態によって影響を受けることを見
い出し、このような点より本発明をなしとげたのである
。
膜は、その成膜過程における下地膜の表面状態によって
大きく影響を受けるのではないかと考え、このような発
想に基いて研究を続けた所、メッキ磁性膜の磁化容易軸
方向は下地膜の表面状態によって影響を受けることを見
い出し、このような点より本発明をなしとげたのである
。
すなわち、例えば磁気ディスクの場合にあっては、その
非磁性基体上に略同心円状のあるいは略渦巻状のといっ
たように、再生ヘッドの走行方向にほぼ沿った方向に傷
を付けてふ・き、このように表面処理された非磁性基体
の表面処理面にメッキ処理で磁性膜を構成すると、この
メッキ磁性膜はメッキ磁性膜の下地面の影響を受けて、
再生ヘッドの走行方向に沿った方向に磁化容易軸をもつ
磁気異方性のあるものとなることを見い出したのである
。
非磁性基体上に略同心円状のあるいは略渦巻状のといっ
たように、再生ヘッドの走行方向にほぼ沿った方向に傷
を付けてふ・き、このように表面処理された非磁性基体
の表面処理面にメッキ処理で磁性膜を構成すると、この
メッキ磁性膜はメッキ磁性膜の下地面の影響を受けて、
再生ヘッドの走行方向に沿った方向に磁化容易軸をもつ
磁気異方性のあるものとなることを見い出したのである
。
尚、この非磁性基体上に形成する傷の程度は微細なもの
であって、例えば傷の深さの基準としては、中心線平均
粗さＲａの表現手段で約０．００２〜０．１７１ｍ程度
であり、又、ピッチは約５０μｍ以下、より好ましくは
約０．１〜１０μｍ程度であることが望ましい。
であって、例えば傷の深さの基準としては、中心線平均
粗さＲａの表現手段で約０．００２〜０．１７１ｍ程度
であり、又、ピッチは約５０μｍ以下、より好ましくは
約０．１〜１０μｍ程度であることが望ましい。
つまり、中心線平均粗さＲａが０．００２μｍより大巾
に小さな傷付は程度であると、配向効果が小さくなり、
又、逆に中心線平均粗さＲａが０．１μｍ より大巾に
大きな傷付は程度であると、再生ヘッドの浮上安定性が
確保されにくく、例えばヘッドクラッシュが起きやすく
なったりするからであり、又、傷のピッチが５０μｍを
越えて大きくなりすぎると、配向効果が小さくなるから
である。
に小さな傷付は程度であると、配向効果が小さくなり、
又、逆に中心線平均粗さＲａが０．１μｍ より大巾に
大きな傷付は程度であると、再生ヘッドの浮上安定性が
確保されにくく、例えばヘッドクラッシュが起きやすく
なったりするからであり、又、傷のピッチが５０μｍを
越えて大きくなりすぎると、配向効果が小さくなるから
である。
そして、このような傷付け、例えば非磁性基体面」〕に
研磨砥粒等を配し、非磁性基体を回転させることで簡単
に形成できる。
研磨砥粒等を配し、非磁性基体を回転させることで簡単
に形成できる。
第１図ａ、ｂは、本発明に係る磁気記録媒体の１実施例
の製造工程説明図である。
の製造工程説明図である。
まず、第１図ａに示す如く、約１．９■厚のアルミニウ
ム製基板を用意し、このアルミニウム製基板１面上に例
えば無電解メッキ手段で約１０〜２０Ｐｎ厚のニッケル
ーリン非磁性薄膜２を形成し、その後このニッケルーリ
ン非磁性薄膜２面上に前述のような手段で略円周方向に
沿った方向に傷方向を有する傷３を形成する。
ム製基板を用意し、このアルミニウム製基板１面上に例
えば無電解メッキ手段で約１０〜２０Ｐｎ厚のニッケル
ーリン非磁性薄膜２を形成し、その後このニッケルーリ
ン非磁性薄膜２面上に前述のような手段で略円周方向に
沿った方向に傷方向を有する傷３を形成する。
尚、この傷３の深さは中心線平均粗さＲａ がクリステ
ツブによれば約０００７〜０．０４μｍであり、かつ傷
３のピッチｐは約１μｍである。
ツブによれば約０００７〜０．０４μｍであり、かつ傷
３のピッチｐは約１μｍである。
その後、この傷３の付けられたニッケルーリン非磁性薄
膜２０面上に、例えばＣｏ Ｓ Ｏ４・７ ＬＯＯ，０
５ｍａｔ／’Ｌ、 ＮａＨ２ＰＯ２”Ｈ２Ｏ０，１５ｍ
ｏＡ／Ａ、 （ＮＨ４）２５０４０．５０ ｍｏ ｔ／
Ｌ、 Ｎ ａ ２ｃｈｔ（４０ｃ ＠ Ｈ２Ｏ０，５０
ｍｏ ＪＬのｐＨ約８の組成浴のメッキ浴を用い、７０
℃の温度で無電解といった湿式メッキ手段により、コバ
ルト−リン磁性膜４を約６００ Ａ、厚形酸して磁気デ
ィスクを構成する。
膜２０面上に、例えばＣｏ Ｓ Ｏ４・７ ＬＯＯ，０
５ｍａｔ／’Ｌ、 ＮａＨ２ＰＯ２”Ｈ２Ｏ０，１５ｍ
ｏＡ／Ａ、 （ＮＨ４）２５０４０．５０ ｍｏ ｔ／
Ｌ、 Ｎ ａ ２ｃｈｔ（４０ｃ ＠ Ｈ２Ｏ０，５０
ｍｏ ＪＬのｐＨ約８の組成浴のメッキ浴を用い、７０
℃の温度で無電解といった湿式メッキ手段により、コバ
ルト−リン磁性膜４を約６００ Ａ、厚形酸して磁気デ
ィスクを構成する。
〔比較例１〕
つたニッケルーリン非磁性薄膜面上に、実施例と同様な
湿式メッキ手段でコバルト−リン磁性膜を形成し、磁気
ディスクを構成する。
湿式メッキ手段でコバルト−リン磁性膜を形成し、磁気
ディスクを構成する。
〔比較例２〕
実施例のような略円周方向の傷ではなく、等方向（ラン
ダム）な傷（傷の深さはＲａが約０．００７〜０．０２
７１ｍ）の付いたニッケルーリン非磁性薄膜面上に、実
施例と同様な湿式メッキ手段でコバルト−リン磁性膜を
形成し、磁気ディスクを構成する。
ダム）な傷（傷の深さはＲａが約０．００７〜０．０２
７１ｍ）の付いたニッケルーリン非磁性薄膜面上に、実
施例と同様な湿式メッキ手段でコバルト−リン磁性膜を
形成し、磁気ディスクを構成する。
上記実施例及び比較例１で得た磁気ディスク（実施例に
おける傷の深さはＲａが約０．０１５μｍ）について、
ギャップ長１．２μｍ１トラツク幅５０μｍである。同
図中、白丸印は実施例のもの、黒丸印は比較例１のもの
を示す。
おける傷の深さはＲａが約０．０１５μｍ）について、
ギャップ長１．２μｍ１トラツク幅５０μｍである。同
図中、白丸印は実施例のもの、黒丸印は比較例１のもの
を示す。
これによれば、本実施例の磁気ディスクは比較例１の磁
気ディスクよりその出力の高いものであることがわかる
。つまり、再生ヘッドの走行方向る。
気ディスクよりその出力の高いものであることがわかる
。つまり、再生ヘッドの走行方向る。
又、上記実施例及び比較例１，２で得た磁気ディスクに
ついて、そのＤＣ消去ノイズを測定すると、第３図に示
す通りである。同図中、白丸印は実施例のもの、黒丸印
は比較例１のもの、Ｘ印は比較例２のものを示す。
ついて、そのＤＣ消去ノイズを測定すると、第３図に示
す通りである。同図中、白丸印は実施例のもの、黒丸印
は比較例１のもの、Ｘ印は比較例２のものを示す。
これによれば、本実施例のものは、傷が付いていてもこ
の傷は再生ヘッドの走行方向に沿ったものである為漏洩
磁界が発生しにくいことによるのか、傷付けによるＤＣ
消去ノイズの増加はない。
の傷は再生ヘッドの走行方向に沿ったものである為漏洩
磁界が発生しにくいことによるのか、傷付けによるＤＣ
消去ノイズの増加はない。
これに対して、比較例２のものでは、傷付けによってＤ
Ｃ消去□ノイズが著しく増加している。
Ｃ消去□ノイズが著しく増加している。
又、上記実施例の磁気ディスク（傷の深さはＲａが約０
０１５μｍ）について、最大印加磁場１０ＫＯｅでＶＳ
Ｍを用いて静磁気特性を調べると、円周方向に磁場を印
加した場合には、保磁力Ｈｃが７００エルステツド、角
型比Ｒｓが０８０、Ｓ＊が０．９０であるのに対し、半
径方向に磁場を印加した場合にはＨｃが６５０エルステ
ツド、Ｒｓが０６５、Ｓ＊が０８０であって、円周方向
に磁化容易軸のあることがわかる。
０１５μｍ）について、最大印加磁場１０ＫＯｅでＶＳ
Ｍを用いて静磁気特性を調べると、円周方向に磁場を印
加した場合には、保磁力Ｈｃが７００エルステツド、角
型比Ｒｓが０８０、Ｓ＊が０．９０であるのに対し、半
径方向に磁場を印加した場合にはＨｃが６５０エルステ
ツド、Ｒｓが０６５、Ｓ＊が０８０であって、円周方向
に磁化容易軸のあることがわかる。
又、本実施例のものは、傷の程度がほぼ一定であること
より、配向がほぼ一定のものとなって、出力変動の小さ
なものである。
より、配向がほぼ一定のものとなって、出力変動の小さ
なものである。
再生出力の高く、ＤＣ消去ノイズの少ない高密度記録の
行なえるものである。
行なえるものである。
第１図ａ、ｂは本発明に係る磁気記録媒体の１実施例の
製造工程説明図、第２図及び第３図は本発明に係る磁気
記録媒体の特性説明図である。 １・・・アルミニウム製基板、２・・・非磁性薄膜、３
・・・傷、４・・・磁性膜。 （，２） 才１昭 ズ ２ 關 ｂピα（Ｐｅ）
製造工程説明図、第２図及び第３図は本発明に係る磁気
記録媒体の特性説明図である。 １・・・アルミニウム製基板、２・・・非磁性薄膜、３
・・・傷、４・・・磁性膜。 （，２） 才１昭 ズ ２ 關 ｂピα（Ｐｅ）
Claims (1)
- 再生ヘッドの走行方向にほぼ沿つた方向に傷のある基板
上にメッキ磁性膜を構成したことを特徴とする磁気記録
媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP832185A JPS61168118A (ja) | 1985-01-22 | 1985-01-22 | 磁気記録媒体 |
| US06/820,494 US4698251A (en) | 1985-01-22 | 1986-01-17 | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| DE19863601848 DE3601848A1 (de) | 1985-01-22 | 1986-01-22 | Magnetisches aufzeichnungsmedium und verfahren zu dessen herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP832185A JPS61168118A (ja) | 1985-01-22 | 1985-01-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61168118A true JPS61168118A (ja) | 1986-07-29 |
| JPH0467684B2 JPH0467684B2 (ja) | 1992-10-29 |
Family
ID=11689895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP832185A Granted JPS61168118A (ja) | 1985-01-22 | 1985-01-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61168118A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62273619A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-27 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| JPS6361409A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS55125533A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-27 | Basf Ag | Magnetic recording carrier and method of fabricating same |
-
1985
- 1985-01-22 JP JP832185A patent/JPS61168118A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS55125533A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-27 | Basf Ag | Magnetic recording carrier and method of fabricating same |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62273619A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-27 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| JPS6361409A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-17 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0833983B2 (ja) * | 1986-09-01 | 1996-03-29 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0467684B2 (ja) | 1992-10-29 |
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