JPH0450646B2 - - Google Patents
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- JPH0450646B2 JPH0450646B2 JP60083999A JP8399985A JPH0450646B2 JP H0450646 B2 JPH0450646 B2 JP H0450646B2 JP 60083999 A JP60083999 A JP 60083999A JP 8399985 A JP8399985 A JP 8399985A JP H0450646 B2 JPH0450646 B2 JP H0450646B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- polishing marks
- present
- circumferential direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 6
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は、高密度記録が可能な磁性薄膜を有す
る磁気デイスクに関する。
る磁気デイスクに関する。
従来、磁性薄膜を形成する技術としては、めつ
きスパツタリング等が知られているが、例えばめ
つき技術を用いて磁性薄膜を形成する磁気デイス
クは、アルミニウム合金基板表面にNi−Ｐ合金
を数十μｍの厚さにめつきし、これを表面粗さ
Ra0.01μｍ以下に鏡面加工したのち磁性膜をめつ
きしたものが使用されていた。しかし高密度記録
化に伴い、さらに磁気特性の向上が要求されてい
る。
きスパツタリング等が知られているが、例えばめ
つき技術を用いて磁性薄膜を形成する磁気デイス
クは、アルミニウム合金基板表面にNi−Ｐ合金
を数十μｍの厚さにめつきし、これを表面粗さ
Ra0.01μｍ以下に鏡面加工したのち磁性膜をめつ
きしたものが使用されていた。しかし高密度記録
化に伴い、さらに磁気特性の向上が要求されてい
る。
本発明は、上述の要求に応じてさらに磁気特性
の向上した磁気デイスクを提供することを目的と
する。
の向上した磁気デイスクを提供することを目的と
する。
上述の目的を達成するため、本発明の磁気デイ
スクは、表面に同心円状の研摩痕を有する基板
と、該基板上に設けられ、研摩痕の円周方向に配
向性を有する磁性薄膜とを備えることを特徴とし
ている。ここで、同心円状の研摩痕は、基板表面
を表面粗さRa0.02μｍ以下の鏡面に加工した後、
形成するのがよい。 本発明においては、基板表面に同心円状の研摩
痕を有して磁性薄膜が研摩痕の円周方向に配向し
ているので、第２図に示すような鏡面加工をした
だけで表面に無秩序な研摩痕１２のある基板１を
用いた従来のものと比較し、磁気特性の特に記録
密度と密接な関係のあるS*（コアシブスクエアネ
ス）が向上する。
スクは、表面に同心円状の研摩痕を有する基板
と、該基板上に設けられ、研摩痕の円周方向に配
向性を有する磁性薄膜とを備えることを特徴とし
ている。ここで、同心円状の研摩痕は、基板表面
を表面粗さRa0.02μｍ以下の鏡面に加工した後、
形成するのがよい。 本発明においては、基板表面に同心円状の研摩
痕を有して磁性薄膜が研摩痕の円周方向に配向し
ているので、第２図に示すような鏡面加工をした
だけで表面に無秩序な研摩痕１２のある基板１を
用いた従来のものと比較し、磁気特性の特に記録
密度と密接な関係のあるS*（コアシブスクエアネ
ス）が向上する。
以下比較例と共に本発明の実施例について述べ
る。アルミニウム合金基板上にNi−Ｐめつきを
施し、これを鏡面加工してRa0.01〜0.02μｍの範
囲に成形したのち、基板を回転しながらテープ研
摩等の加工手段を用いて第１図に拡大して示すよ
うに円周方向３に平行な規則正しい研摩痕２を有
する本発明の一実施例の基板と、比較例として
Ni−Ｐめつき後表面粗さ0.01μｍ以下に鏡面加工
したままの基板とを用意した。次にこれらの基板
に湿式によるCo−Ni−Ｐ磁性めつき膜を0.06μｍ
の厚さに形成し、その上に潤滑剤としてふつ素系
樹脂、デユポン社商品名クライトツクス157FSの
0.01％フレオン溶液をスピンコートして試料を作
成した。試料デイスクの大きさは５ 1/4インチで
ある。 上述した試料の磁気特性を振動式磁力測定機
で、電磁変換特性をMn−Znフエライト製磁気ヘ
ツドで周速22.61ｍ／秒において測定した。得ら
れた結果を第１、第２表に示す。なお、磁気特性
の測定は振動式磁力測定機の印加磁場方向を磁気
デイスク基板の円周方向、径方向の双方にして測
定した。
る。アルミニウム合金基板上にNi−Ｐめつきを
施し、これを鏡面加工してRa0.01〜0.02μｍの範
囲に成形したのち、基板を回転しながらテープ研
摩等の加工手段を用いて第１図に拡大して示すよ
うに円周方向３に平行な規則正しい研摩痕２を有
する本発明の一実施例の基板と、比較例として
Ni−Ｐめつき後表面粗さ0.01μｍ以下に鏡面加工
したままの基板とを用意した。次にこれらの基板
に湿式によるCo−Ni−Ｐ磁性めつき膜を0.06μｍ
の厚さに形成し、その上に潤滑剤としてふつ素系
樹脂、デユポン社商品名クライトツクス157FSの
0.01％フレオン溶液をスピンコートして試料を作
成した。試料デイスクの大きさは５ 1/4インチで
ある。 上述した試料の磁気特性を振動式磁力測定機
で、電磁変換特性をMn−Znフエライト製磁気ヘ
ツドで周速22.61ｍ／秒において測定した。得ら
れた結果を第１、第２表に示す。なお、磁気特性
の測定は振動式磁力測定機の印加磁場方向を磁気
デイスク基板の円周方向、径方向の双方にして測
定した。
【表】
【表】
表からわかるように、本発明の実施例の同心円
状に規則正しく帯状の研摩痕を形成した基板は、
磁気特性がすぐれ、特に角形比S*が従来基板の
0.87から0.92と向上している。また、実施例の基
板においては印加磁場方向によつて磁気特性の差
が生じるのはCo合金磁性膜のめつき時にそのCo
粒子が研摩痕に沿つて配向析出するためである。 本発明による同心円状の研摩痕は、テープ研摩
のほかにメカノケミカルポリツシユによつても有
効に形成できる。
状に規則正しく帯状の研摩痕を形成した基板は、
磁気特性がすぐれ、特に角形比S*が従来基板の
0.87から0.92と向上している。また、実施例の基
板においては印加磁場方向によつて磁気特性の差
が生じるのはCo合金磁性膜のめつき時にそのCo
粒子が研摩痕に沿つて配向析出するためである。 本発明による同心円状の研摩痕は、テープ研摩
のほかにメカノケミカルポリツシユによつても有
効に形成できる。
以上のような本発明によれば、基板表面に同心
円状の研摩痕を設けて磁性薄膜を研摩痕の円周方
向に配向させ、磁性特性の特にＳ＊を向上させた
ので、より高密度な記録が可能となる。
円状の研摩痕を設けて磁性薄膜を研摩痕の円周方
向に配向させ、磁性特性の特にＳ＊を向上させた
ので、より高密度な記録が可能となる。
第１図は本発明の実施例における磁性めつき膜
形成前の基板表面の拡大図、第２図は従来の同様
な基板表面の拡大図である。 １：アルミニウム合金基板、２：研摩痕、３：
円周方向。
形成前の基板表面の拡大図、第２図は従来の同様
な基板表面の拡大図である。 １：アルミニウム合金基板、２：研摩痕、３：
円周方向。
Claims (1)
- １ 表面に同心円状の研摩痕を有する基板と、該
基板上に設けられ、研摩痕の円周方向に配向性を
有するCo合金磁性薄膜とを備えることを特徴と
する面内記録型磁気デイスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8399985A JPS61242334A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8399985A JPS61242334A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 磁気ディスク |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6001869A Division JP2502040B2 (ja) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61242334A JPS61242334A (ja) | 1986-10-28 |
| JPH0450646B2 true JPH0450646B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=13818225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8399985A Granted JPS61242334A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61242334A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH087865B2 (ja) * | 1990-12-12 | 1996-01-29 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気ディスク用アモルファスカーボン基板 |
| JPH05114127A (ja) * | 1991-10-23 | 1993-05-07 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク及びその製造方法並びに磁気デイスク装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS501438A (ja) * | 1973-05-11 | 1975-01-09 | ||
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP8399985A patent/JPS61242334A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS501438A (ja) * | 1973-05-11 | 1975-01-09 | ||
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61242334A (ja) | 1986-10-28 |
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