JPH0450646B2 - - Google Patents

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JPH0450646B2
JPH0450646B2 JP60083999A JP8399985A JPH0450646B2 JP H0450646 B2 JPH0450646 B2 JP H0450646B2 JP 60083999 A JP60083999 A JP 60083999A JP 8399985 A JP8399985 A JP 8399985A JP H0450646 B2 JPH0450646 B2 JP H0450646B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
magnetic
polishing marks
present
circumferential direction
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP60083999A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61242334A (ja
Inventor
Koji Ito
Megumi Nagano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP8399985A priority Critical patent/JPS61242334A/ja
Publication of JPS61242334A publication Critical patent/JPS61242334A/ja
Publication of JPH0450646B2 publication Critical patent/JPH0450646B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【発明の属する技術分野】
本発明は、高密度記録が可能な磁性薄膜を有す
る磁気デイスクに関する。
【従来技術とその問題点】
従来、磁性薄膜を形成する技術としては、めつ
きスパツタリング等が知られているが、例えばめ
つき技術を用いて磁性薄膜を形成する磁気デイス
クは、アルミニウム合金基板表面にNi−P合金
を数十μmの厚さにめつきし、これを表面粗さ
Ra0.01μm以下に鏡面加工したのち磁性膜をめつ
きしたものが使用されていた。しかし高密度記録
化に伴い、さらに磁気特性の向上が要求されてい
る。
【発明の目的】
本発明は、上述の要求に応じてさらに磁気特性
の向上した磁気デイスクを提供することを目的と
する。
【発明の要点】
上述の目的を達成するため、本発明の磁気デイ
スクは、表面に同心円状の研摩痕を有する基板
と、該基板上に設けられ、研摩痕の円周方向に配
向性を有する磁性薄膜とを備えることを特徴とし
ている。ここで、同心円状の研摩痕は、基板表面
を表面粗さRa0.02μm以下の鏡面に加工した後、
形成するのがよい。 本発明においては、基板表面に同心円状の研摩
痕を有して磁性薄膜が研摩痕の円周方向に配向し
ているので、第2図に示すような鏡面加工をした
だけで表面に無秩序な研摩痕12のある基板1を
用いた従来のものと比較し、磁気特性の特に記録
密度と密接な関係のあるS*(コアシブスクエアネ
ス)が向上する。
【発明の実施例】
以下比較例と共に本発明の実施例について述べ
る。アルミニウム合金基板上にNi−Pめつきを
施し、これを鏡面加工してRa0.01〜0.02μmの範
囲に成形したのち、基板を回転しながらテープ研
摩等の加工手段を用いて第1図に拡大して示すよ
うに円周方向3に平行な規則正しい研摩痕2を有
する本発明の一実施例の基板と、比較例として
Ni−Pめつき後表面粗さ0.01μm以下に鏡面加工
したままの基板とを用意した。次にこれらの基板
に湿式によるCo−Ni−P磁性めつき膜を0.06μm
の厚さに形成し、その上に潤滑剤としてふつ素系
樹脂、デユポン社商品名クライトツクス157FSの
0.01%フレオン溶液をスピンコートして試料を作
成した。試料デイスクの大きさは5 1/4インチで
ある。 上述した試料の磁気特性を振動式磁力測定機
で、電磁変換特性をMn−Znフエライト製磁気ヘ
ツドで周速22.61m/秒において測定した。得ら
れた結果を第1、第2表に示す。なお、磁気特性
の測定は振動式磁力測定機の印加磁場方向を磁気
デイスク基板の円周方向、径方向の双方にして測
定した。
【表】
【表】 表からわかるように、本発明の実施例の同心円
状に規則正しく帯状の研摩痕を形成した基板は、
磁気特性がすぐれ、特に角形比S*が従来基板の
0.87から0.92と向上している。また、実施例の基
板においては印加磁場方向によつて磁気特性の差
が生じるのはCo合金磁性膜のめつき時にそのCo
粒子が研摩痕に沿つて配向析出するためである。 本発明による同心円状の研摩痕は、テープ研摩
のほかにメカノケミカルポリツシユによつても有
効に形成できる。
【発明の効果】
以上のような本発明によれば、基板表面に同心
円状の研摩痕を設けて磁性薄膜を研摩痕の円周方
向に配向させ、磁性特性の特にS*を向上させた
ので、より高密度な記録が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例における磁性めつき膜
形成前の基板表面の拡大図、第2図は従来の同様
な基板表面の拡大図である。 1:アルミニウム合金基板、2:研摩痕、3:
円周方向。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 表面に同心円状の研摩痕を有する基板と、該
    基板上に設けられ、研摩痕の円周方向に配向性を
    有するCo合金磁性薄膜とを備えることを特徴と
    する面内記録型磁気デイスク。
JP8399985A 1985-04-19 1985-04-19 磁気ディスク Granted JPS61242334A (ja)

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JP6001869A Division JP2502040B2 (ja) 1994-01-13 1994-01-13 磁気ディスクの製造方法

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JPS61242334A JPS61242334A (ja) 1986-10-28
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH087865B2 (ja) * 1990-12-12 1996-01-29 株式会社神戸製鋼所 磁気ディスク用アモルファスカーボン基板
JPH05114127A (ja) * 1991-10-23 1993-05-07 Hitachi Ltd 磁気デイスク及びその製造方法並びに磁気デイスク装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS501438A (ja) * 1973-05-11 1975-01-09
JPS53123906A (en) * 1977-04-05 1978-10-28 Fujitsu Ltd Magnetic disc

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