JP2502040B2 - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
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- JP2502040B2 JP2502040B2 JP6001869A JP186994A JP2502040B2 JP 2502040 B2 JP2502040 B2 JP 2502040B2 JP 6001869 A JP6001869 A JP 6001869A JP 186994 A JP186994 A JP 186994A JP 2502040 B2 JP2502040 B2 JP 2502040B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録が可能なＣ
ｏ合金磁性薄膜を有する面内記録型磁気ディスクの製造
方法に関する。
ｏ合金磁性薄膜を有する面内記録型磁気ディスクの製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のものとしては、アルミニ
ウム合金からなるディスク状基板の表面に同心円状の研
磨痕を形成し、その基板上にＣｏ合金磁性薄膜を形成し
て研磨痕の円周方向に配向性を持たせることにより、磁
気特性を向上するものが知られている（例えば特開昭５
５−１２５５３３号公報）。
ウム合金からなるディスク状基板の表面に同心円状の研
磨痕を形成し、その基板上にＣｏ合金磁性薄膜を形成し
て研磨痕の円周方向に配向性を持たせることにより、磁
気特性を向上するものが知られている（例えば特開昭５
５−１２５５３３号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これ
は、比較的軟らかい材料であるアルミニウム合金を基板
としているため、磁気ヘッドとの接触時における機械的
強度が十分でないという問題がある。このため、アルミ
ニウム合金基板に厚さ数十μｍのＮｉ−Ｐめっきを施し
て基板表面の硬度を高め、機械的強度を上げるようにし
ているが、一定の強度を確保するためにはめっき厚を１
μｍ以上にする必要があり、その場合、Ｎｉ−Ｐめっき
の表面に異常な突起が多数発生し、高密度記録に要求さ
れる表面精度を満足しないものとなってしまうという問
題がある。
は、比較的軟らかい材料であるアルミニウム合金を基板
としているため、磁気ヘッドとの接触時における機械的
強度が十分でないという問題がある。このため、アルミ
ニウム合金基板に厚さ数十μｍのＮｉ−Ｐめっきを施し
て基板表面の硬度を高め、機械的強度を上げるようにし
ているが、一定の強度を確保するためにはめっき厚を１
μｍ以上にする必要があり、その場合、Ｎｉ−Ｐめっき
の表面に異常な突起が多数発生し、高密度記録に要求さ
れる表面精度を満足しないものとなってしまうという問
題がある。
【０００４】本発明は、上述の点に鑑み、Ｎｉ−Ｐめっ
きしたアルミニウム合金基板の表面の状態に左右される
ことなく、Ｃｏ合金磁性薄膜の配向性に有効な研磨痕を
形成できるようにした磁気ディスクの製造方法を提供す
ることを技術的課題とする。
きしたアルミニウム合金基板の表面の状態に左右される
ことなく、Ｃｏ合金磁性薄膜の配向性に有効な研磨痕を
形成できるようにした磁気ディスクの製造方法を提供す
ることを技術的課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決するため、アルミニウム合金基板にＮｉ−Ｐめっき
を施すＮｉ−Ｐめっき工程と、そのＮｉ−Ｐめっきの表
面を鏡面に加工する鏡面加工工程と、その鏡面加工され
たＮｉ−Ｐめっきの表面に同心円状の研磨痕を形成する
研磨痕形成工程とからなる基板製造工程と、この工程に
より製造された基板上にＣｏ合金磁性薄膜を形成する磁
性薄膜形成工程とを備えることを特徴としている。
解決するため、アルミニウム合金基板にＮｉ−Ｐめっき
を施すＮｉ−Ｐめっき工程と、そのＮｉ−Ｐめっきの表
面を鏡面に加工する鏡面加工工程と、その鏡面加工され
たＮｉ−Ｐめっきの表面に同心円状の研磨痕を形成する
研磨痕形成工程とからなる基板製造工程と、この工程に
より製造された基板上にＣｏ合金磁性薄膜を形成する磁
性薄膜形成工程とを備えることを特徴としている。
【０００６】ここで、同心円状の研磨痕は、Ｎｉ−Ｐめ
っきの表面を表面粗さＲａ０．０２μｍ以下の鏡面に加
工した後、形成するのがよい。また、最表面にふっ素系
潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布工程を設けるのがより好ま
しい。
っきの表面を表面粗さＲａ０．０２μｍ以下の鏡面に加
工した後、形成するのがよい。また、最表面にふっ素系
潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布工程を設けるのがより好ま
しい。
【０００７】
【作用】本発明において、Ｎｉ−Ｐめっきにより基板表
面に生じる異常突起は、その表面を鏡面加工することに
より除去できるので、機械的強度を確保するためにＮｉ
−Ｐめっきを厚くしても、その表面の状態に左右される
ことなく、同心円状の研磨痕を形成することができる。
面に生じる異常突起は、その表面を鏡面加工することに
より除去できるので、機械的強度を確保するためにＮｉ
−Ｐめっきを厚くしても、その表面の状態に左右される
ことなく、同心円状の研磨痕を形成することができる。
【０００８】そして、その上に形成されるＣｏ合金磁性
薄膜は研磨痕の円周方向に配向するので、磁気特性の特
に記録密度と関係する角形比Ｓ* （コアシブスクエアネ
ス）を向上することができる。また、ふっ素系潤滑剤を
塗布することにより、磁気ヘッドとの摩擦特性を改善す
ることができる。
薄膜は研磨痕の円周方向に配向するので、磁気特性の特
に記録密度と関係する角形比Ｓ* （コアシブスクエアネ
ス）を向上することができる。また、ふっ素系潤滑剤を
塗布することにより、磁気ヘッドとの摩擦特性を改善す
ることができる。
【０００９】
【実施例】以下、比較例と共に本発明の実施例について
述べる。ディスク状のアルミニウム合金基板上にＮｉ−
Ｐめっきを施し、これを鏡面加工して表面粗さＲａ０．
０１〜０．０２μｍの範囲に形成したのち、基板を回転
しながらテープ研磨等の加工手段を用いて図１に拡大し
て示すように円周方向３に平行な規則正しい（同心円状
の）研磨痕２を有する本発明の一実施例の基板１と、比
較例としてＮｉ−Ｐめっき後表面粗さＲａ０．０１μｍ
以下に鏡面加工したままであって、図２に拡大して示す
ように無秩序な研磨痕１２を有する基板１０とを用意し
た。
述べる。ディスク状のアルミニウム合金基板上にＮｉ−
Ｐめっきを施し、これを鏡面加工して表面粗さＲａ０．
０１〜０．０２μｍの範囲に形成したのち、基板を回転
しながらテープ研磨等の加工手段を用いて図１に拡大し
て示すように円周方向３に平行な規則正しい（同心円状
の）研磨痕２を有する本発明の一実施例の基板１と、比
較例としてＮｉ−Ｐめっき後表面粗さＲａ０．０１μｍ
以下に鏡面加工したままであって、図２に拡大して示す
ように無秩序な研磨痕１２を有する基板１０とを用意し
た。
【００１０】次に、これらの基板に湿式によるＣｏ−Ｎ
ｉ−Ｐ磁性めっき膜を０．０６μｍの厚さに形成し、そ
の上に潤滑剤としてふっ素系樹脂、デュポン社商品名ク
ライトックス１５７ＦＳの０．０１％フレオン溶液をス
ピンコートして試料の磁気ディスクを作成した。この試
料の磁気ディスクの大きさは 5 1/4インチである。上述
した試料の磁気特性を振動式磁力測定機で、電磁変換特
性をＭｎ−Ｚｎフェライト製磁気ヘッドで周速２２．６
１ｍ／秒において測定した。得られた結果を表１、表２
に示す。なお、磁気特性の測定は、振動式磁力測定機の
印加磁場方向を磁気ディスクの円周方向、径方向の双方
にして測定した。
ｉ−Ｐ磁性めっき膜を０．０６μｍの厚さに形成し、そ
の上に潤滑剤としてふっ素系樹脂、デュポン社商品名ク
ライトックス１５７ＦＳの０．０１％フレオン溶液をス
ピンコートして試料の磁気ディスクを作成した。この試
料の磁気ディスクの大きさは 5 1/4インチである。上述
した試料の磁気特性を振動式磁力測定機で、電磁変換特
性をＭｎ−Ｚｎフェライト製磁気ヘッドで周速２２．６
１ｍ／秒において測定した。得られた結果を表１、表２
に示す。なお、磁気特性の測定は、振動式磁力測定機の
印加磁場方向を磁気ディスクの円周方向、径方向の双方
にして測定した。
【００１１】
【表１】
【００１２】
【表２】
【００１３】表からわかるように、本発明の実施例の同
心円状に規則正しく帯状の研磨痕を形成した基板１を使
用した磁気ディスクは、磁気特性が優れ、特に角形比Ｓ
* が比較例の０．８７から０．９２へと向上している。
また、実施例において、印加磁場の方向によって磁気特
性の差が生じているのは、Ｃｏ合金磁性薄膜のめっき時
にそのＣｏ粒子が研磨痕に沿って配向析出するためであ
る。
心円状に規則正しく帯状の研磨痕を形成した基板１を使
用した磁気ディスクは、磁気特性が優れ、特に角形比Ｓ
* が比較例の０．８７から０．９２へと向上している。
また、実施例において、印加磁場の方向によって磁気特
性の差が生じているのは、Ｃｏ合金磁性薄膜のめっき時
にそのＣｏ粒子が研磨痕に沿って配向析出するためであ
る。
【００１４】本発明において、同心円状の研磨痕は、テ
ープ研磨のほかにメカノケミカルポリッシュによっても
形成することができる。
ープ研磨のほかにメカノケミカルポリッシュによっても
形成することができる。
【００１５】
【発明の効果】以上のような本発明によれば、アルミニ
ウム合金基板にＮｉ−Ｐめっきを施し、その表面に鏡面
加工を施してから同心円状の研磨痕を形成し、その上に
Ｃｏ合金磁性薄膜を形成するようにしたので、Ｎｉ−Ｐ
めっきした表面の状態に左右されることなく、Ｃｏ合金
磁性薄膜を研磨痕の円周方向に配向させて磁気特性を向
上することができる。
ウム合金基板にＮｉ−Ｐめっきを施し、その表面に鏡面
加工を施してから同心円状の研磨痕を形成し、その上に
Ｃｏ合金磁性薄膜を形成するようにしたので、Ｎｉ−Ｐ
めっきした表面の状態に左右されることなく、Ｃｏ合金
磁性薄膜を研磨痕の円周方向に配向させて磁気特性を向
上することができる。
【００１６】従って、アルミニウム合金基板にＮｉ−Ｐ
めっきを施して機械的強度を満足させる共に、基板の表
面精度を上げ、かつ磁気特性を向上して記録密度を高め
ることができる。
めっきを施して機械的強度を満足させる共に、基板の表
面精度を上げ、かつ磁気特性を向上して記録密度を高め
ることができる。
【図１】本発明の一実施例の磁気ディスクの基板の表面
状態を示す拡大図
状態を示す拡大図
【図２】比較例の磁気ディスクの基板の表面状態を示す
拡大図
拡大図
１ 基板 ２ 研磨痕 ３ 円周方向
Claims (1)
- 【請求項１】アルミニウム合金基板にＮｉ−Ｐめっきを
施すＮｉ−Ｐめっき工程と、そのＮｉ−Ｐめっきの表面
を鏡面に加工する鏡面加工工程と、その鏡面加工された
Ｎｉ−Ｐめっきの表面に同心円状の研磨痕を形成する研
磨痕形成工程とからなる基板製造工程と、この工程によ
り製造された基板上にＣｏ合金磁性薄膜を形成する磁性
薄膜形成工程とを備えることを特徴とする磁気ディスク
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6001869A JP2502040B2 (ja) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | 磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6001869A JP2502040B2 (ja) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | 磁気ディスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8399985A Division JPS61242334A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06342520A JPH06342520A (ja) | 1994-12-13 |
| JP2502040B2 true JP2502040B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=11513566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6001869A Expired - Lifetime JP2502040B2 (ja) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2502040B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| DE2909891A1 (de) * | 1979-03-14 | 1980-09-25 | Basf Ag | Magnetischer aufzeichnungstraeger |
| JPS6055652B2 (ja) * | 1981-08-07 | 1985-12-06 | 地下構造株式会社 | 扶体を有する擁壁又は土留体の構築工法 |
| JPS5982626A (ja) * | 1982-11-01 | 1984-05-12 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 磁気デイスク基板 |
| JPH0450646A (ja) * | 1990-06-12 | 1992-02-19 | Fujikura Ltd | 限界電流式酸素センサ |
-
1994
- 1994-01-13 JP JP6001869A patent/JP2502040B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06342520A (ja) | 1994-12-13 |
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