JP2000268342A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 基板上に準軟磁性膜と磁化容易軸が基板
に対し垂直に配向した垂直磁性膜とを備え、準軟磁性膜
が垂直磁性膜よりも基板側に設けられ、特に準軟磁性膜
の保磁力が１０〜１０００Ｏｅ、膜厚が１〜２００ｎ
ｍ、飽和磁化Ｍｓが２００〜１０００ｅｍｕ／ｃｃであ
り、また、垂直磁性膜の保磁力Ｈｃが１５００〜４００
０Ｏｅ、膜厚が１０〜２００ｎｍ、飽和磁化Ｍｓが２０
０〜１０００ｅｍｕ／ｃｃであることを特徴とする磁気
記録媒体。 【効果】 本発明の磁気記録媒体にあっては、従来の面
内磁気記録媒体を記録再生する際に用いられるマージ型
ＭＲヘッドの適用が可能であり、しかも高い再生出力が
得られるものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
し、特に高い再生出力を示す磁気記録媒体に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】現在実用に供されている磁気記録媒体
は、磁化容易軸が基板に対し平行に配向した面内磁気記
録媒体が殆どである。しかし、面内磁気記録媒体は、高
密度記録達成のためには磁性膜の薄膜化、磁性膜を構成
する磁性粒子の微細化が必要不可欠であり、その結果、
熱揺らぎなどにより磁化情報そのものが消えてしまうお
それがある。また、極度の薄膜化により、磁気記録媒体
作製プロセスの困難を招くだけではなく、高い再生出力
も得られない。

【０００３】これに対し、磁性膜の磁化容易軸が基板に
対し垂直に配向した垂直磁気記録媒体は、高密度化のた
めに磁性層の極端な薄膜化の必要がなく、熱揺らぎに対
し強い媒体として近年注目を集めている。

【０００４】しかしながら、垂直磁気記録媒体は、従来
技術である面内記録用のリング型ヘッドで記録を行った
場合、急峻な垂直磁化転移が形成されず、必ずしも高密
度特性が達成されないことが指摘されている。また、垂
直磁性層のみの媒体においては高い再生出力が得られな
いことが指摘されている。

【０００５】このため、軟磁性膜と垂直磁性膜の２つの
膜を備え、面内磁気記録用のマージ型ＭＲヘッドを用い
た場合でも急峻な垂直磁化転移の形成、更には再生出力
の増大を測ることのできる垂直磁性層／軟磁性層二層型
磁気記録媒体が提案されているが、製造プロセス等に問
題がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように、近年では
磁気記録媒体の更なる高密度化が要求されているが、従
来の面内磁気記録媒体では、上述したように、熱揺らぎ
等の問題があり、このためより熱揺らぎ特性に優れた磁
気記録媒体が要望されていた。

【０００７】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、面内記録で一般に用いられているマージ型ＭＲヘッ
ドをそのまま適用可能であり、しかも高い再生出力を示
す新規磁気記録媒体を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、基板上に準軟磁性膜を形成し、その上に磁化容易軸
が基板に対して垂直に配向した垂直磁性膜を形成するこ
と、この場合、準軟磁性膜としてＮｉ又はＮｉ合金のス
パッタ膜は、結晶配向制御膜を用いることなく（１１
１）配向し、この（１１１）配向したＮｉ又はＮｉ合金
スパッタ膜に対しＣｏ合金をスパッタすると、Ｃｏの磁
化容易軸である〔００１〕軸が基板面に対し垂直配向
し、容易かつ確実に垂直磁性膜が形成され、保磁力Ｈｃ
が１５００〜４０００Ｏｅ、飽和磁化Ｍｓが２００〜１
０００ｅｍｕ／ｃｃの垂直磁性膜が得られることを知見
した。

【０００９】即ち、上記課題は、基板上に準軟磁性膜と
磁化容易軸が基板に対し垂直に配向した垂直磁性膜とを
備え、準軟磁性膜が垂直磁性膜よりも基板側に設けら
れ、特に準軟磁性膜の保磁力が１０〜１０００Ｏｅ、膜
厚が１〜２００ｎｍ、飽和磁化Ｍｓが２００〜１０００
ｅｍｕ／ｃｃであり、また、垂直磁性膜の保磁力Ｈｃが
１５００〜４０００Ｏｅ、膜厚が１０〜２００ｎｍ、飽
和磁化Ｍｓが２００〜１０００ｅｍｕ／ｃｃであること
を特徴とする磁気記録媒体によって解決することができ
ることを知見し、本発明をなすに至ったものである。

【００１０】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
図１は、本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示すもの
で、ここに示す磁気記録媒体は、基板１上に準軟磁性膜
２、垂直磁性膜３及び保護膜４を順次形成してなるもの
である。

【００１１】ここで、基板１としては、ＮｉＰめっき膜
を有するアルミニウム合金のほか、ガラス、セラミック
等からなる公知のものを用いることができる。

【００１２】また、基板１は、その表面にメカニカルテ
クスチャ処理などのテクスチャ処理を施したものとして
もよい。

【００１３】準軟磁性膜２は、急峻な垂直磁化転移を形
成させ、かつ再生出力を増大させると共に、垂直磁性膜
３の結晶のｃ軸を垂直方向に向けるためのものであり、
ＮｉあるいはＮｉを主成分としたＮｉ合金からなるもの
とすることが好ましい。この場合、Ｎｉ合金としては、
ＮｉとＣｏ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｔｉなどの１種又は２種以上
の金属との合金とすることができる。

【００１４】なお、本明細書において、主成分とは当該
成分を５０ａｔ％を超えて含むことを指す。

【００１５】垂直磁性膜３は、その磁化容易軸が基板に
対し主に垂直方向に向いたものである。垂直磁性膜３の
材料としては、Ｃｏ／Ｃｒ系，Ｃｏ／Ｃｒ／Ｔａ系，Ｃ
ｏ／Ｃｒ／Ｐｔ／Ｔａ系，Ｃｏ／Ｃｒ／Ｎｉ／Ｐｔ／Ｔ
ａ系，Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ／Ｔａ／Ｚｒ系合金などを用い
ることができる。

【００１６】保護膜４は、カーボンからなるものとする
ことが好ましい。保護膜４の厚さは２〜１０ｎｍとする
ことが好ましい。

【００１７】また、保護膜４上にはパーフルオロポリエ
ーテル（ＰＦＰＥ）などからなる潤滑膜を形成すること
もできる。

【００１８】上記構成の磁気記録媒体を製造するには、
まず基板１上に上記準軟磁性膜２及び垂直磁性膜３をス
パッタリング法により形成し、続いて保護膜４をスパッ
タリング法，プラズマＣＶＤ法，イオンビーム法等によ
り形成する方法を採用することができる。この場合、面
内磁化膜（準軟磁性膜）の結晶配向面を（１１１）配向
させることにより、垂直磁性膜を直接成膜することがで
きる。

【００１９】また、保護膜４上に潤滑膜を形成するに
は、ディッピング法などを採用することができる。

【００２０】本発明の磁気記録媒体にあっては、上記垂
直磁性膜の保磁力Ｈｃが１５００〜４０００Ｏｅ、特に
２０００〜３０００Ｏｅ、膜厚が１０〜２００ｎｍ、特
に１０〜１００ｎｍ、飽和磁化Ｍｓが２００〜１０００
ｅｍｕ／ｃｃ、特に３００〜６００ｅｍｕ／ｃｃである
ことが好ましい。また、面内磁化膜（準軟磁性膜）の保
磁力が１０〜１０００Ｏｅ、特に１００〜５００Ｏｅ、
膜厚が１〜２００ｎｍ、特に１０〜１００ｎｍ、飽和磁
化Ｍｓが２００〜１０００ｅｍｕ／ｃｃ、特に３００〜
６００ｅｍｕ／ｃｃであることが好ましい。これによっ
て、再生出力が増大し、かつ熱揺らぎに強い媒体とな
る。

【００２１】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。

【００２２】〔実施例〕２．５インチガラス基板上にス
パッタリング法により準軟磁性膜としてＮｉ／Ｃｒ，垂
直磁性膜としてＣｏ／Ｃｒ／Ｐｔ／Ｔａ，保護膜として
Ｃを順次成膜し、媒体作成を行った（図１参照）。この
媒体の結晶構造については、まず、最初に形成されるｆ
ｃｃＮｉ／Ｃｒについて、結晶配向制御層を用いること
なく（１１１）配向が認められた。また、その上に成膜
されるＣｏ／Ｃｒ／Ｐｔ／Ｔａは、Ｎｉ／Ｃｒ下地層と
の良好なマッチングによってＣｏの磁化容易軸である
〔００１〕軸が膜面に対し垂直配向した二層膜の作成が
可能であることが示された。

【００２３】この媒体の記録再生特性を評価したとこ
ろ、表１に示すように、垂直記録単層媒体と比較して、
再生出力の増大が確認された。また、図２に再生出力の
下地層膜厚依存性を示す。図２より、再生出力の増大効
果は広い下地層膜厚領域で確認された。ノイズに関して
は、下地層起因のノイズが大きいことから、膜厚増大に
より増大する傾向が認められた。両者を併せ考えると、
本媒体は、下地層膜厚が薄い領域で高い能力を示すこと
がわかる。このことは、生産におけるマシンタイムとい
う点からも有利である。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体にあっては、従来
の面内磁気記録媒体を記録再生する際に用いられるマー
ジ型ＭＲヘッドの適用が可能であり、しかも高い再生出
力が得られるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示す一部
断面図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の記録再生時における再
生出力の下地Ｎｉ／Ｃｒ準軟磁性膜厚依存性を示したも
のである。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 準軟磁性膜 ３ 垂直磁性膜 ４ 保護膜

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に準軟磁性膜と、磁化容易軸が基
   板に対し垂直に配向した垂直磁性膜とを備え、準軟磁性
   膜が垂直磁性膜よりも基板側に設けられた磁気記録媒
   体。
2. 【請求項２】 請求項１記載の磁気記録媒体において、
   垂直磁性膜の保磁力Ｈｃが１５００〜４０００Ｏｅ、膜
   厚が１０〜２００ｎｍ、飽和磁化Ｍｓが２００〜１００
   ０ｅｍｕ／ｃｃであることを特徴とする磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の磁気記録媒体にお
   いて、面内磁化膜の保磁力が１０〜１０００Ｏｅ、膜厚
   が１〜２００ｎｍ、飽和磁化Ｍｓが２００〜１０００ｅ
   ｍｕ／ｃｃであることを特徴とする磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 請求項１，２又は３記載の磁気記録媒体
   において、準軟磁性膜としてＮｉもしくはＮｉ−Ｘ（Ｘ
   ＝Ｃｏ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｔｉ）を用い、その上に直接垂直
   磁性膜を形成した磁気記録媒体。