JP2003157516A - 垂直磁気記録媒体および磁気記録装置 - Google Patents

垂直磁気記録媒体および磁気記録装置

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JP2003157516A
JP2003157516A JP2001358205A JP2001358205A JP2003157516A JP 2003157516 A JP2003157516 A JP 2003157516A JP 2001358205 A JP2001358205 A JP 2001358205A JP 2001358205 A JP2001358205 A JP 2001358205A JP 2003157516 A JP2003157516 A JP 2003157516A
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JP2001358205A
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Kazuyuki Hikosaka
和志 彦坂
Soichi Oikawa
壮一 及川
Futoshi Nakamura
太 中村
Takayuki Iwasaki
剛之 岩崎
Hiroshi Sakai
浩志 酒井
Akira Sakawaki
彰 坂脇
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Resonac Holdings Corp
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Showa Denko KK
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】熱揺らぎ耐性が良好、かつ媒体SNRが高い磁
気記録を実現する。 【解決手段】垂直磁気記録層の磁性粒子のエピタキシャ
ル結晶成長を中断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】磁気ディスク装置における記
録媒体、特に垂直磁気記録方式に用いられる垂直磁気記
録媒体に関わる。
【0002】
【従来の技術】従来より、磁気記録装置には、磁気記録
層の磁化方法が面内を向いた、面内磁気記録方式が使用
されてきた。しかし、面内磁気記録方式で、さらに記録
密度を向上させようとした場合、媒体SNRを向上させ
るために、記録層の磁性粒子を小さくしてゆくと、熱揺
らぎのために、記録した情報が消えて行くということが
問題になってきている。媒体SNRを向上し、熱揺らぎ
を防止するために、これまでは、記録層の磁気異方性を
高める方法で対応してきた。しかしながら、記録ヘッド
による記録のしやすさの点で、これ以上、磁気異方性を
高めることができず、媒体ノイズを低減による媒体SN
Rの向上、熱揺らぎ耐性を向上させるということの両立
が、困難になってきている。
【0003】これに対して、磁気記録層の磁化方向を垂
直にする垂直磁気記録方式では、磁化の遷移領域で、磁
化を安定化させるような磁界が互いに働くため、急峻な
遷移領域が形成され、高密度化ができる。また、このた
め、面内磁気記録媒体と比較して、同じ記録分解能を得
るために記録層の膜厚を厚くできる。このことは、記録
層の磁性粒子体積を大きく出来ることから、熱揺らぎに
対しても有利となる。記録密度が小さいビットの場合
に、記録ビット内での反磁界が大きく、この際に、熱揺
らぎが厳しくなるが、面内磁気記録媒体と異なり高密度
では安定である。
【0004】さらに、垂直磁気記録層の下に、軟磁性膜
を設けた垂直2層膜媒体の場合、面内磁気記録と比較し
て、ヘッド磁界を大きくすることができるため、より大
きな異方性材料を媒体として用いることができる。
【0005】このような点から、最近、垂直磁気記録方
式に対して、注目が集まっている。
【0006】上記のように、垂直磁気記録では、面内磁
気記録と比較して、記録層の膜厚を厚くできるが、この
膜厚が厚すぎる場合には、ヘッドの書き込み能力が充分
でなくなるので、高記録密度を達成できないという問題
があった。しかしながら、現状以降の記録密度を考えた
場合、記録層の膜厚は、少なくとも50nm以下、好ま
しくは30nm以下とすることが必要であると考えられ
る。
【0007】記録媒体の高SNR化は、面内磁気記録媒
体と同様、重要な特性であるが、面内磁気記録媒体で
は、記録層を形成している磁性粒子を微細化することが
有効である。また、面内方向の結晶粒径を微細化すると
ともに、非磁性層を記録層の間に入れることによって、
高SNR化に効果があることが知られている。垂直磁気
記録媒体でも、例えば特開平7-176027号公報に記載され
ているように、記録層の間に非磁性中間層を用い、各層
がエピタキシャル成長しているものが知られている。し
かし、垂直磁気記録媒体では、磁性層を各々エピタキシ
ャル成長させた場合、ノイズ成分も各層で揃ってしまう
ために、低ノイズ化が出来ないという問題があった。こ
の上下の磁性層でノイズ成分が揃ってしまう影響は、理
想的な垂直磁気記録ができる垂直2層膜媒体でより顕著
となっていた。また、非磁性中間層を磁性層間に設ける
ことにより、上下の磁性層が磁気的に分断されているの
で、磁化反転単位が膜厚方向に小さく、熱揺らぎに弱く
なってしまっていた。また、中間層を用いない積層構成
の垂直媒体として、特公平03-57535号公報には、CoC
rからなる垂直磁気記録媒体において、Crの組成分布
が膜厚方向に変化している磁性層を、複数層積層するこ
とと、リング記録ヘッドとの組み合わせで、SN比の向
上した記録媒体が得られることが記載されている。しか
し、この磁気記録層の膜厚は、l00nm〜1000n
mと厚く、もし、磁気記録層が例えば50nmのように
薄い場合には、Crの組成分布が膜厚方向に充分変化し
ない。このため、SNRの向上ができないという問題が
あった。
【0008】以上のように、垂直磁気記録媒体には、良
好な熱揺らぎ耐性及びSNRを両立し、かつ磁気記録層
の厚さを薄くすることが望ましいという課題があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決するためになされたものであり、熱揺らぎ耐性が良
好であり、かつ媒体SNRが高い磁気記録を実現するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の垂直磁気記録媒
体は、基板と、該基板上に形成され、そのエピタキシャ
ル成長が中断された垂直磁気記録層とを具備することを
特徴とする。
【0011】本発明の磁気記録再生装置は、基板、及び
該基板上に形成され、そのエピタキシャル成長が中断さ
れた垂直磁気記録層を有する垂直磁気記録媒体と、前記
磁気記録媒体を支持及び回転駆動する駆動手段と、前記
磁気記録媒体に対して情報の記録を行う単磁極記録ヘッ
ドとを具備する特徴とする
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の垂直磁気記録媒体は、基
板と、基板上に形成され垂直磁気記録層を有し、この垂
直磁気記録層は、その磁性粒子のエピタキシャル結晶成
長が中断された構成を有する。
【0013】本発明によれば、垂直磁気記録層が、膜厚
方向に、その磁性粒子のエピタキシャル結晶成長が中断
された部分を有することにより、中断された部分を境に
一方で発生するノイズと、もう一方で発生させるノイズ
との一致を防ぎ、媒体シグナルノイズレート(SNR)
を向上させることが可能となる。また、本発明に用いら
れる垂直磁気記録層は、膜厚方向に、エピタキシャル結
晶成長は中断されていても、磁気的には分断されない。
このため、磁化反転単位の膜厚方向の厚みが十分とな
り、良好な熱揺らぎ耐性が得られる。
【0014】垂直磁気記録層は、好ましくは二層以上の
構成を有する。
【0015】また、垂直磁気記録層は、その厚さが好ま
しくは50nmないし5nm、さらに好ましくは30n
mないし10nmである。5nm未満であると、記録層
の磁化量が十分でなくなり、ヘッド出力が小さくなっ
て、これを用いて装置を組み立てた際にエラーレートが
とれなくなる傾向があり、50nmを超えると、ヘッド
の書き込み能力が十分でなくなり、記録分解能も低下す
る傾向がある。
【0016】エピタキシャル結晶成長が中断された構成
の一例として、基板上に、順に、第1の磁性層及び第2
の磁性層を有する垂直磁気記録層において、第1の磁性
層の磁性粒子の結晶の磁化容易軸が、第2の磁性層の磁
性粒子の結晶の磁化容易軸と一致しない場合があげられ
る。
【0017】図1に、互いに磁化容易軸の異なる二層の
磁性層を有する磁気記録媒体を表すモデル図を示す。
【0018】図示するように、この磁気記録媒体は、基
板1上に、例えばバイアス付与層2、例えば軟磁性層
3、及び磁気記録層6が順に積層された構成を有する。
図中、矢印は、磁化容易軸を表す。この磁気記録層6
は、図示するように互いにその磁化容易軸が異なる第1
の磁性層4及び第2の磁性層5から構成される。なお、
第1の磁性層4及び第2の磁性層5中の複数の区画は、
各々膜厚方向にエピキシャル結晶成長された磁性粒子の
結晶断面を概略的に表す。
【0019】エピタキシャル成長が中断された構成の他
の例として、第1の磁性層と第2の磁性層において、そ
の磁性粒子の結晶粒径が互いに異なる場合があげられ
る。このとき、結晶粒径は、好ましくは5nmないし2
0nmである。また、結晶粒径の違いは、好ましくは2
nmないし5nmである。
【0020】図2に、互いに結晶粒径の異なる二層の磁
性層を有する磁気記録媒体を表すモデル図を示す。
【0021】図示するように、この磁気記録媒体は、磁
気記録層6の代わりに、互いに結晶粒径の異なる第1の
磁性層7及び第2の磁性層8からなる磁気記録層9を設
けること以外は、図1と同様の構成を有する。
【0022】このようなエピタキシャル結晶成長が中断
された構成を得るには、例えば第2の磁性層の格子定数
を、第1の磁性層の格子定数に対し4%以上小さいか、
あるいは2%以上大きくすることができる。
【0023】第2の磁性層の格子定数が第1の磁性層の
格子定数に対し、−4より大きく+2より小さい場合、
第2の磁性層と第1の磁性層の界面に発生する歪みエネ
ルギーが大きくなり、第2の磁性層と第1の磁性層の磁
化容易軸が傾いて一致しない傾向がある。
【0024】また、エピタキシャル成長が中断された構
成を得るには、例えば第2の磁性層は、第1の磁性層を
形成した後、第1の磁性層表面に酸素を暴露し、第1の
磁性層の酸化層を形成し、その上に、第2の酸化層を形
成することができる。酸化層は、その深さが4nm以
下、好ましくは2nmないし0.5nmである。4nm
より大きい場合は、第1の磁性層と第2の磁性層の磁気
的結合が弱くなって熱揺らぎに弱くなり、0.5nm未
満である場合は、エピタキシャル成長となる傾向があ
る。
【0025】第2の磁性層の格子定数を、第1の磁性層
の格子定数に対し4%以上小さいか、あるいは2%以上
大きくする例としては、第1及び第2の磁性層を、コバ
ルト系磁性層とし、第1の磁性層にプラチナを5at%
以下、第2の磁性層にプラチナを24at%以上、好ま
しくは25ないし40at%添加することができる。
【0026】また、このような例として、磁気記録層を
3つのコバルト系磁性層の積層体にして、第1及び第3
の磁性層はプラチナを24at%以上、好ましくは25
ないし75at%、第2の磁性層はプラチナを5at%
以下添加することができる。
【0027】図3に、3層の磁性層を積層した磁気記録
層を有する磁気記録媒体の一例を表す図を示す。
【0028】図示するように、この磁気記録媒体は、磁
気記録層6の代わりに、互いに結晶粒径の異なる第1の
磁性層14、第2の磁性層15及び第3の磁性層16か
らなる磁気記録層17を設けること以外は、図1と同様
の構成を有する。
【0029】さらに、本発明によれば、2層以上の磁性
層の任意の層間に中間層を設けることができる。
【0030】中間層としては、例えば第1及び第2の磁
性層をコバルト系磁性層とし、各々プラチナを20at
%以下、好ましくは5ないし20at%含み、かつ第1
及び第2の磁性層の間に、例えばルテニウムチタン、及
びハフニウムからなる群から選択される金属を含む中間
層をさらに設けることができる。これにより、磁気記録
層では、第2の記録層は、第1の記録層の磁化容易軸に
対し、その磁化容易軸が傾いて成長される。
【0031】図4に、第1及び第2の磁性層間に中間層
を設けた磁気記録媒体の一例を表す図を示す。
【0032】図示するように、この磁気記録媒体は、磁
気記録層6の代わりに、例えばCo−66at%,Pt
−18at%,Cr−16at%からなる第1の磁性層
10、例えばハフニウムからなる中間層11、及び第1
の磁性層10と同組成の第2の磁性層12から構成され
る磁気記録層13を設ける以外は、図1と同様の構成を
有する。
【0033】また、例えば第1及び第2の磁性層を、H
CP相コバルト系磁性層とし、各々プラチナを20at
%以上、好ましくは20ないし30at%含み、かつ第
1及び第2の磁性層の間にbcc相クロムを含む中間層
をさらに設けることができる。これにより、磁気記録層
は、第2の磁性層は、第1の磁性層の磁化容易軸に対
し、その磁化容易軸が傾いて成長される。
【0034】第1及び第2の磁性層の間に例えば炭素等
の非晶質の中間層をさらに設けることができる。これに
より、磁気記録層は第2の磁性層は、第1の磁性層の磁
化容易軸に対し、その磁化容易軸が傾いて成長される。
【0035】また、本発明に使用される垂直磁気記録層
の材料としては、例えばCoCrPt系合金、CoCr
PtO系合金、FePt規則合金、及びCo/PdCo/
PtFe/Ptの人工格子等があげられる。
【0036】また、本発明の垂直磁気記録媒体では、基
板と磁気記録層との間に、基板上に設けられたバイアス
付与層及びバイアス付与層上に設けられた軟磁性層をさ
らに設けることができる。
【0037】バイアス付与層としては、例えばCoCr
Pt合金、CoSn合金、CoPtO合金、及びFeP
t合金があげられる。
【0038】基板とバイアス付与層との間には、例えば
NiAl、TiN、銅、及びMgO等のシード層、及び
例えばCr合金、V合金、及びRu合金等の下地層を設
けることができる。
【0039】また、垂直磁気記録層を形成する前に、例
えばTi、銅、MgO等のシード層、及び例えばRu、
及び非磁性CoCr等の下地層を設けることができる。
【0040】また、本発明の磁気記録再生装置は、上述
の垂直磁気記録体と、磁気記録媒体を支持及び回転駆動
する駆動手段と、磁気記録媒体に対して情報の記録を行
う単磁極記録ヘッドとを具備する。
【0041】図5に、本発明にかかる磁気記録再生装置
の一例を一部分解した斜視図を示す。
【0042】本発明に係る情報を記録するための剛構成
の磁気ディスク121はスピンドル122に装着されて
おり、図示しないスピンドルモータによって一定回転数
で回転駆動される。磁気ディスク121にアクセスして
情報の記録行う単磁極型記録ヘッド及び情報の再生を行
うためのMRヘッドを搭載したスライダー123は、薄
板状の板ばねからなるサスペンション124の先端に取
付けられている。サスペンション124は図示しない駆
動コイルを保持するボビン部等を有するアーム125の
一端側に接続されている。
【0043】アーム125の他端側には、リニアモータ
の一種であるボイスコイルモータ126が設けられてい
る。ボイスコイルモータ126は、アーム125のボビ
ン部に巻き上げられた図示しない駆動コイルと、それを
挟み込むように対向して配置された永久磁石および対向
ヨークにより構成される磁気回路とから構成されてい
る。
【0044】アーム125は、固定軸127の上下2カ
所に設けられた図示しないボールベアリングによって保
持され、ボイスコイルモータ126によって回転揺動駆
動される。すなわち、磁気ディスク121上におけるス
ライダー123の位置は、ボイスコイルモータ126に
よって制御される。なお、図5中、128は蓋体を示し
ている。
【0045】以下、実施例を示し、本発明をより具体的
に説明する。
【0046】
【実施例】実施例1 まず、2.5インチ結晶化ガラス基板を用意した。この
2.5インチ結晶化ガラス基板上に、NiAlのシード
層、Cr合金下地膜、及びCo68Cr12Pt20合金面内
硬磁性膜を順にスパッタにより、各々、5nm、10n
m、及び30nm形成した。その後、CoCrPt合金
面内硬磁性膜上に、CoZrNb軟磁性膜をスパッタに
より150nm形成した。この上に、垂直記録層用Ti
合金シード層、及びRu合金下地層を形成し、Co73P
t5Cr22合金膜よりなる第1の垂直磁性層を15nm
スパッタにより形成し、さらにこの上に、第1の垂直磁
性層とは格子定数が2%以上大きくなるようにターゲッ
トのPt組成を選んだ第2の垂直磁性層をCo64Pt24
Cr12組成ターゲットを用いて、酸素を含むArガス雰
囲気中で15nm厚形成した。さらにこの上に、CDV
カーボンを6nm形成し、パーフロロポリエーテル潤滑
剤をディップして、垂直磁気記録媒体を作製した。最後
に、得られた面内硬磁性膜を半径方向に着磁した。
【0047】図6に、得られた磁気記録媒体の構成を表
す概略断面図を示す。
【0048】図示するように、この磁気記録媒体は、
2.5インチ結晶化ガラス基板21上に、NiAlシー
ド層22、Cr合金下地層23、CoCrPt合金バイ
アス付与層24、CoZrNb軟磁性層25、Ti合金
シード層26、Ru合金下地層27、Co73Pt5Cr2
2合金からなる第1の垂直磁性層28、Co64Pt24C
r12からなる第2の垂直磁性層29、及び保護層30を
スパッタリングにより順に積層し、CDVカーボンから
なる保護層30上にパーフロロポリエーテル潤滑層51
がディップコーティング法により形成された構成を有す
る。
【0049】第1及び第2の垂直磁性層からなる磁気記
録層の断面構造を透過型電子顕微鏡(TEM)により、
観察した。第1及び第2の垂直磁性層の境界が明確であ
り、膜厚方向のエピタキシャル成長がこの境界で中断し
ていた。この場合、第2の垂直磁性層のHCP構造粒子
と第1の垂直磁性層のHCP構造粒子のC軸の成長方向
すなわち結晶磁化容易軸に違いが見られた。
【0050】得られた磁気記録媒体に、記録トラック幅
0.4umの単磁極記録ヘッドと再生トラック幅0.3
μmのGMR再生ヘッドで記録・再生を行なった。40
0kFCIの媒体ノイズ(Nmrms)と再生孤立波(S
O)の比SNRは、23.0(dB)であった。得られ
た結果を下記表1に示す。
【0051】比較例1 比較として、第2の垂直磁性層を形成せず、第1の垂直
磁性層のみを膜厚30nm形成する以外は、実施例1と
同様にして垂直磁気記録媒体を作製した。
【0052】この膜の断面構造を観察したところ、記録
層の膜厚方向のエピタキシャル成長の中断はなかった。
SNRは、20.5(dB)と低かった。得られた結果
を下記表1に示す。
【0053】比較例2 比較として、第1の垂直磁性層を形成せず、第2の垂直
磁性層のみを膜厚30nm形成する以外は、実施例1と
同様にして垂直磁気記録媒体を作製した。
【0054】この膜の断面構造を観察したところ、記録
層の膜厚方向のエピタキシャル成長の中断はなかった。
SNRは、20.3(dB)と低かった。得られた結果
を下記表1に示す。
【0055】比較例3 比較として、第2の垂直磁性層とその格子定数をほぼ一
致させるように、第1の垂直磁性層として、Co73Pt
15Cr12合金層をスパッタにより形成した以外は、実施
例1と同様にして垂直磁気記録媒体を作製した。
【0056】この膜の断面構造を観察したところ、記録
層の膜厚方向のエピタキシャル成長の中断はなかった。
SNRは、20.2(dB)と低かった。得られた結果
を下記表1に示す。
【0057】比較例4 比較として、第2の垂直磁性層の格子定数とその格子定
数をほぼ一致させるように、第1の垂直磁性層として、
Co68Pt20Cr12合金層をスパッタにより形成した以
外は、実施例1と同様にして垂直磁気記録媒体を作製し
た。
【0058】この膜の断面構造を観察したところ、記録
層の膜厚方向のエピタキシャル成長の中断はなかった。
SNRは、20.4(dB)と低かった。得られた結果
を下記表1に示す。
【0059】実施例2 第1の垂直磁性層に対してその格子定数が+2%以上に
なるように第2の垂直磁性層材料からCrを除いて第2
の垂直磁性層を形成する以外は実施例1と同様にして、
垂直磁気記録媒体を作製した。
【0060】この膜の断面構造を観察したところ、記録
層の膜厚方向のエピタキシャル成長の中断がみられた。
SNRは、23.3(dB)であった。得られた結果を
下記表1に示す。
【0061】実施例3 第1の垂直磁性層に対してその格子定数が+2%以上に
なるように第2の垂直磁性層中のCr添加量を18at
%とする以外は実施例1と同様にして、垂直磁気記録媒
体を作製した。
【0062】この膜の断面構造を観察したところ、記録
層の膜厚方向のエピタキシャル成長の中断がみられた。
SNRは、23.5(dB)であった。得られた結果を
下記表1に示す。
【0063】実施例4 2.5インチ結晶化ガラス基板を用意した。この基板上
に、NiAlのシード層、Cr合金下地層、及びCo66
Cr18Pt16合金面内硬磁性膜をスパッタにより、順
次、各々、5nm、5nm、及び40nm形成した。得
られた面内硬磁性膜を半径方向に着磁した。その後、得
られた面内硬磁性膜上にCoZrNb軟磁性膜をスパッ
タにより150nm形成した。この上に、垂直記録層用
Ti合金シード層、Ru合金下地層を形成し、Co64P
t20Cr16合金組成のターゲットを用いて酸素を含むA
rガス雰囲気中でスパッタし、CoPtCrO膜よりな
る第1垂直記録膜を15nm形成した。さらに、この上
に、中間層として、第1の磁性膜の格子定数に対し、そ
の格子定数が2%以上大きいRu90Ti10合金中間層を
3nm弱形成した。この上に、第2の垂直磁性層とし
て、Co62Pt20Cr18合金膜を15nm直接形成し
た。中間層の格子定数に対し第2の垂直磁性膜の格子定
数は4.05%小さかった。さらに、この上に、CDV
カーボンを6nmスパッタ形成し、最後にパーフロロポ
リエーテル潤滑剤をディップコーティングして、垂直磁
気記録媒体を作製した。
【0064】図7に、得られた磁気記録媒体の構成を表
す概略断面図を示す。
【0065】図示するように、この磁気記録媒体は、R
u合金下地層27上に、第1及び第2の垂直磁性層2
8,29のかわりに、Co64Pt20Cr16合金からなる
第1の垂直磁性層31、Ru90Ti10合金中間層32、
及びCo68Pt20Cr18合金からなる第2の垂直磁性層
33が設けられる以外は、実施例1と同様の構成を有す
る。
【0066】この膜の断面構造をTEMで観察したとこ
ろ、第1磁性膜と第2磁性膜との境界と考えられる膜厚
位置で、結晶の境界が明白となっており、上下の磁性膜
はエピタキシャル結晶成長が中断している様子が見られ
た。
【0067】400kFCIの媒体ノイズ(Nmrms)
と再生孤立波(SO)の比SNRは、23.3(dB)
であった。得られた結果を下記表2に示す。
【0068】比較例5 比較例として、中間層の格子定数が第1の垂直磁性層の
1%以内、第2の垂直磁性層の格子定数が中間層の4%
以内となるように、Ru90Ti10合金中間層の代わりに
Cu中間層を用いた以外は、実施例4と同様にして垂直
磁気記録媒体を作製した。
【0069】この膜の断面構造をTEMで観察したとこ
ろ、第1磁性膜と第2磁性膜がエピタキシャル成長して
いた。
【0070】400kFCIの媒体ノイズ(Nmrm
s)と再生孤立波(SO)の比SNRは、20.6(d
B)と低かった。得られた結果を下記表2に示す。
【0071】実施例5 Ru90Ti10合金中間層の代わりに、中間層の格子定数
が第2の記録層より20%以上異なるHfを用いた以外
は、実施例4と同様にして垂直磁気記録媒体を作製し
た。
【0072】この膜の断面構造をTEMで観察したとこ
ろ、上下の磁性膜の磁化容易軸方向は一致していなかっ
た。
【0073】400kFCIの媒体ノイズ(Nmrm
s)と再生孤立波(SO)の比SNRは、23.9(d
B)であった。また、磁気記録層の保磁力の低下が顕著
となった。得られた結果を下記表2に示す。
【0074】実施例6 Ru90Ti10合金中間層の代わりに、中間層の格子定数
が第2の記録層より2.18%異なり、BCC構造を有
するCr2nmを形成した以外は、実施例4と同様にし
て垂直磁気記録媒体を作製した。
【0075】この膜の断面構造をTEMで観察したとこ
ろ、第1及び第2の垂直磁性層の細密面の法線方向すな
わち磁化容易軸が異なっていた。
【0076】400kFCIの媒体ノイズ(Nmrm
s)と再生孤立波(SO)の比SNRは、23.2(d
B)であった。得られた結果を下記表2に示す。
【0077】実施例7 Ru90Ti10合金中間層の代わりに、スパッタにより形
成された非晶質のCを用いた以外は、実施例4と同様に
して垂直磁気記録媒体を作製した。
【0078】この膜の断面構造をTEMで観察したとこ
ろ、第1及び第2の垂直磁性層の結晶粒径が互いに異な
っていた。
【0079】400kFCIの媒体ノイズ(Nmrm
s)と再生孤立波(SO)の比SNRは、23.6(d
B)であった。得られた結果を下記表2に示す。
【0080】中間層に非晶質材料を用いた場合には、第
1及び第2の磁性層の結晶粒径に違いが認められた。結
晶粒径に違いが見られる場合、磁化遷移のジグザグ形状
が第1及び第2の磁性層で異なってくるため、ノイズ成
分が一致せず、平均化されて、SNRが向上する。
【0081】実施例8 第1の垂直磁性層を形成した後、酸素ガス雰囲気にさら
し、第1の垂直磁性層上に酸化層を形成した後、第1の
垂直磁性層と同様の組成を有する第2の垂直磁性層を形
成する以外は、実施例4と同様にして磁気記録媒体を得
た。
【0082】この膜の断面構造をTEMで観察したとこ
ろ、第1及び第2の垂直磁性層の磁化容易軸が互いに異
なっていた。
【0083】400kFCIの媒体ノイズ(Nmrm
s)と再生孤立波(SO)の比SNRは、23.1(d
B)であった。得られた結果を下記表2に示す。
【0084】実施例9 2.5インチ結晶化ガラス基板上に、NiAlのシード
層、Cr合金下地層、及びCo64Cr20Pt16合金面内
硬磁性膜を、順次、各々、5nm、5nm、及び50n
m形成した。得られた面内硬磁性膜を半径方向に着磁し
た。得られた面内硬磁性膜上にCoZrNb軟磁性膜を
150nm形成した。この上に、垂直記録層用Ti合金
シード層、Ru合金下地層を形成した。次に、Co68P
t20Cr12合金組成のターゲットを用いてCoPtCr
合金膜よりなる第1垂直磁性層を12nm形成した。さ
らに、この上に、第2の磁性層としてCo74Pt5Cr2
0B1合金膜を5nm形成した。さらに、この上に、第3
の垂直磁性層として、Co55Cr21Pt24合金膜を12
nm形成した。最後に、この上に、CDVカーボンを6
nm形成し、パーフロロポリエーテル潤滑剤をディップ
して、垂直磁気記録媒体を作製した。
【0085】図8に、得られた磁気記録媒体の構成を表
す概略断面図を示す。
【0086】図示するように、この磁気記録媒体は、R
u合金下地層27上に、第1及び第2の垂直磁性層2
8,29のかわりに、第1ないし第3の垂直磁性層3
5,36,37が形成されている以外は、実施例4と同
様の構成を有する第2の垂直磁性層は第1の垂直磁性層
よりも、その格子定数が1.63%小さい、第3の垂直
磁性層は第2の垂直磁性層よりも、その格子定数が2.
10%大きい。
【0087】第1ないし第3の垂直磁性層の断面構造を
観察したところ、第1の記録層と第2の記録層との間に
は成長の中断がみられなかった。しかしながら、第2の
磁性膜と第3の磁性膜との間で、エピタキシャル成長の
中断が見られた。この結果を下記表3に示す。
【0088】比較例6 比較として、第2の垂直磁性層の格子定数が第1の垂直
磁性層及び第3の垂直磁性層と2%以内となるように、
第1の垂直磁性層としてCo64Pt20Cr16合金層を使
用第2の垂直磁性層としてCo62Pt22Cr16合金層を
使用する以外は実施例9と同様にして垂直磁気記録媒体
を作製した。
【0089】第1ないし第3の垂直磁性層の断面構造を
観察したところ、第1ないし第3の垂直磁性層との間
で、エピタキシャル成長していた。
【0090】また、400kFCIの媒体ノイズ(Nm
rms)と再生孤立波(SO)の比SNRは、20.4
(dB)であった。
【0091】この結果を下記表3に示す。
【0092】
【表1】
【0093】
【表2】
【0094】
【表3】
【0095】
【発明の効果】本発明によれば、熱揺らぎ耐性が良好で
あり、かつ媒体SNRを向上した磁気記録を行うことが
できる。また、本発明によれば、磁気記録層の膜厚が5
0nm以下と薄い場合においても、磁気記録媒体の良好
な熱揺らぎ耐性及び高い媒体SNRを実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の磁気記録媒体に用いられる磁気記録
層の結晶の状態の一例を表すモデル図
【図2】 本発明の磁気記録媒体に用いられる磁気記録
層の結晶の状態の他の一例を表すモデル図
【図3】 本発明の磁気記録媒体の構成の一例を表す断
面図
【図4】 本発明の磁気記録媒体の構成の他の一例を表
す断面図
【図5】 本発明の磁気記録再生装置の構成の一例を表
す概略図
【図6】 本発明の磁気記録媒体の構成のさらに他の一
例を表す断面図
【図7】 本発明の磁気記録媒体の構成のさらにまた他
の一例を表す断面図
【図8】 本発明の磁気記録媒体の構成のさらにまた他
の一例を表す断面図
【符号の説明】
1,21…基板、2,24…バイアス付与層、3,25
…軟磁性層,4,7,10,14,28,32,36…
第1の垂直磁性層、5,8,29,33,37…第2の
垂直磁性層、6,9,13,17…磁気記録層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 及川 壮一 東京都青梅市末広町2丁目9番地 株式会 社東芝青梅工場内 (72)発明者 中村 太 東京都青梅市末広町2丁目9番地 株式会 社東芝青梅工場内 (72)発明者 岩崎 剛之 東京都青梅市末広町2丁目9番地 株式会 社東芝青梅工場内 (72)発明者 酒井 浩志 千葉県市原市八幡海岸通5番の1 昭和電 工エイチ・ディー株式会社内 (72)発明者 坂脇 彰 千葉県市原市八幡海岸通5番の1 昭和電 工エイチ・ディー株式会社内 Fターム(参考) 5D006 BB01 BB08 CA03 CA06 DA03 DA08 FA09

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、該基板上に形成され、そのエピ
    タキシャル成長が中断された垂直磁気記録層とを具備す
    ることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
  2. 【請求項2】 前記垂直磁気記録層は、二層以上の磁性
    層を含む請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】 前記垂直磁気記録層は、第1の磁性層と
    該第1の磁性層上に形成され、その磁性粒子の磁化容易
    軸が、該第1の磁性層の磁性粒子の磁化容易軸と一致し
    ない第2の磁性層とを含むことを特徴とする請求項2に
    記載の垂直磁気記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記垂直磁気記録層は、第1の磁性層と
    該第1の磁性層上に形成され、その磁性粒子の結晶粒径
    が、該第1の磁性層の磁性粒子の結晶粒径と異なる第2
    の磁性層とを含むことを特徴とする請求項2に記載の垂
    直磁気記録媒体。
  5. 【請求項5】 前記第2の磁性層は、前記第1の磁性層
    上に酸素を暴露した後に形成されることを特徴とする請
    求項3または4に記載の垂直磁気記録媒体。
  6. 【請求項6】 前記第2の磁性層は、その格子定数が、
    前記第1の磁性層の格子定数に対し4%以上小さいか、
    あるいは2%以上大きいことを特徴とする請求項3に記
    載の垂直磁気記録媒体。
  7. 【請求項7】 前記第1及び第2の磁性層は、コバルト
    系磁性層であって、さらに、前記第1の磁性層はプラチ
    ナを5at%以下、前記第2の磁性層はプラチナを24
    at%以上含むことを特徴とする請求項6に記載の垂直
    磁気記録媒体。
  8. 【請求項8】 前記第2の磁性層上に形成された第3の
    磁性層をさらに含み、前記第1、第2及び第3の磁性層
    はコバルト系磁性層であって、該第1及び第3の磁性層
    はプラチナを24at%以上、該第2の磁性層はプラチ
    ナを5at%以下含むことを特徴とする請求項6に記載
    の垂直磁気記録媒体。
  9. 【請求項9】 前記垂直磁気記録層は、第1の記録層
    と、該第1の記録層上に形成された中間層と、該中間層
    上に形成された第2の記録層とを具備することを特徴と
    する請求項2に記載の垂直磁気記録媒体。
  10. 【請求項10】 前記第1及び第2の磁性層は、コバル
    ト系磁性層であって、かつプラチナを20at%以下含
    み、かつ第1及び第2の磁性層の間にルテニウムチタ
    ン、及びハフニウムからなる群から選択される金属を含
    む中間層をさらに有することを特徴とする請求項9に記
    載の磁気記録媒体。
  11. 【請求項11】 前記第1及び第2の磁性層は、コバル
    ト系磁性層であって、かつプラチナを20at%以上含
    み、かつ第1及び第2の磁性層の間にクロムを含む中間
    層をさらに有することを特徴とする請求項3または9に
    記載の垂直磁気記録媒体。
  12. 【請求項12】 第1及び第2の磁性層の間に非晶質の
    中間層をさらに含む請求項4または9に記載の垂直磁気
    記録媒体。
  13. 【請求項13】 前記基板と前記磁性記録層との間に、
    該基板上に設けられたバイアス付与層及び該バイアス付
    与層上に設けられた軟磁性層をさらに有することを特徴
    とする請求項1ないし12のいずれか1項に記載の垂直
    磁気記録媒体。
  14. 【請求項14】 請求項1ないし13のいずれか1に記
    載の垂直磁気記録媒体と、 前記磁気記録媒体を支持及び回転駆動する駆動手段と、 前記磁気記録媒体に対して情報の記録を行う単磁極記録
    ヘッドとを具備する特徴とする磁気記録再生装置。
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