JP2002269731A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
また、記録再生を繰り返しても、信号が安定で、ノイズ
の少ない垂直磁気記録媒体を得る。 【解決手段】少なくとも基板、Co合金バイアス層、軟
磁性層、磁気記録層を積層した構成を有し、Co合金バ
イアス層は、その半径方向の一方向にその残留磁化の方
向が向いており、tsoftは40nmないし200nmで
あり、式Mssoft×(tsoft−40nm)>Mssoft×
40nm+Msbias×tbiasを満足する磁気記録媒体。
(tbiasはCo合金バイアス層の厚さ、Msbiasはその
飽和磁化、tsoftは軟磁性層の厚さ、Mssoftはその飽
和磁化)
Description
置などに用いられる磁気記録媒体のうち、特に、垂直方
向磁化を利用する垂直磁気記録媒体に関するものであ
る。
でも高密度で線方向の記録が可能な垂直磁気記録層は、
面内磁気記録層より熱揺らぎ耐性に強い。特に、垂直磁
気異方性を有する記録層の下に、高透磁率の軟磁性層を
設けた垂直二層膜媒体は、ヘッドと軟磁性層の相互作用
により、理想的な垂直記録がなされるため、将来のより
高密度記録に対応が可能である。しかし、記録媒体にこ
のような軟磁性層を設けると、たとえ弱い外部磁化であ
っても、ディスク回転中に軟磁性層の磁化が容易に変化
し、記録信号の低下やノイズが発生することが知られて
いる。
るため、例えば特公平03-53686号には、軟磁性層上に反
強磁性層を設けたもの、あるいは特公平7-105027号には
軟磁性層の下に永久磁石層を設けたものが開示されてい
る。また、この際、永久磁石層の磁化の向きを半径方向
に揃えてやることも開示されている。軟磁性層に半径方
向に異方性を付与することは、軟磁性層の円周方向の磁
化変化を磁化回転で起こす機構となり、高周波での応答
性も良好にする効果が生じるものと考えられる。さら
に、これらを、積層構成としたものが開示され、反強磁
性層の変わりに、バイアスを印加するためのバイアス層
としてCoFe/Cuなどの人工格子系を用いることが
出来ることが開示されている。
い地磁場を前提としたものである。外部磁界が数千A/
cmにのぼる場合がある実際の装置に対しては、軟磁性
層で外部磁場を遮断させ、バイアス層の反転を押さえる
ため、軟磁性層厚を600nm以上が必要であること
が、特開平10-283624号に開示されている。
くすることが、外部磁界への安定性や出力効率の点で良
いと考えられていた。しかし、軟磁性層厚が厚いと、デ
ィスクの中周部では磁区の発生を抑えることはできる
が、ディスクの外周部及びディスクの内周部付近のよう
に反磁界が強くなる場所では、磁区の発生を押さえるこ
とはできないため、例えばデータ領域にまで磁区が入り
込んで、スパイクノイズが取りきれない。また、軟磁性
層厚が厚いと、バイアスの反転は抑えられるものの、容
易に軟磁性層に逆磁区が発生するため、ノイズの増大に
つながっている。従って、これまでは、ディスクのデー
タ領域全体にわたって、磁区の発生がなく、外部磁界に
も安定で、ノイズの小さな媒体は実現できなかった。
磁界によって、磁化が減衰することなく、また、記録再
生を繰り返しても、信号が安定で、ノイズの少ない垂直
磁気記録媒体を提供することにある。
基板と、該非磁性基板上に設けられたコバルト合金バイ
アス層と、該コバルト合金バイアス層に設けられ、鉄ま
たはコバルトを主成分とする軟磁性層と、垂直磁気記録
層とを具備する垂直磁気記録媒体であって、該コバルト
合金バイアス層は、その半径方向の一方向にその残留磁
化の方向が向いており、該コバルト合金バイアス層の厚
さtbias、その飽和磁化Msbias、該軟磁性層の厚さt
soft、及びその飽和磁化Mssoftが、下記式 Mssoft×(tsoft−40nm)>Mssoft×40nm
+Msbias×tbias 但し、該軟磁性層の厚さtsoftは40nmないし200
nmであるを満たすことを特徴とする垂直磁気記録媒体
が得られる。
気記録層を有する垂直磁気記録媒体において、非磁性基
板と垂直磁気記録層との間に、その半径方向の一方向に
その残留磁化の方向が向いているコバルト合金バイアス
層及び鉄またはコバルトを主成分とする軟磁性層が設け
られ、かつコバルト合金バイアス層の厚さをtbias、そ
の飽和磁化をMsbias、該軟磁性層の厚さをtsoft、及
びその飽和磁化をMssoftとしたとき、下記式 Mssoft×(tsoft−40nm)>Mssoft×40nm
+Msbias×tbias を満たし、かつ軟磁性層の厚さtsoftは40nmないし
200nmであることを特徴とする。
性基板と軟磁性層との間に、その半径方向の一方向にそ
の残留磁化の方向が向いているコバルト合金バイアス層
を設けることにより、バイアス磁界を強め、垂直磁気記
録媒体のデータ領域全体に逆磁区を発生させないため、
スパイクノイズの発生を抑えることができる。さらに、
このコバルト合金バイアス層と軟磁性層の厚さと飽和磁
化との関係を規定することにより、バイアス層からのノ
イズを軟磁性層により有効に遮断することができる。
向いていないと、軟磁性層に逆磁区が発生し、スパイク
ノイズの原因となる。
層の厚さと飽和磁化との関係が上記式を満たさないと、
バイアス層の磁化分散の発生する磁界がヘッドまで到達
し、ノイズとなる。
性層とは異なり、軟磁性層に一方向の磁界を印加するた
めの層をいう。これには、磁界が面内の一方向に向き、
磁界の反転が容易に起こらないような特性を有する材料
が選択される。このような材料として、例えばCoP
t、CoCrPt、CoCrTa、CoCrPtTa、
CoCrPtTaB、CoPtO、CoPtCrO、C
oNiPt、CoNiPtCr、CoSm、及びFeP
t等を使用することができる。
160000 A/m以上の保磁力Hcを有する。
の半径方向の残留磁化Mrと飽和磁化Msとの比Mr/
Msが0.97以上であることが好ましい。このように
して、コバルト合金バイアス層の磁化分散を抑制するこ
とでノイズをさらに低減することができる。
のバイアス磁界は、バイアス層と軟磁性層の界面の交換
結合状態で決められる。この界面での単位表面積当たり
のエネルギーをγ(erg/cm2)とすると、γ=H
a×Mssoft×tsoftで表される。
の関係を表すグラフ図を示す。
b、Co合金バイアス層としてCoCrPtTaBを用
いた場合、102は、軟磁性層としてCoFe、Co合
金バイアス層としてCoPtCrOを用いた場合、10
3は、軟磁性層としてFeCoN、Co合金バイアス層
としてCoCrPtを用いた場合のグラフを各々表す。
また、四角で表される点は、軟磁性層としてCoZrN
b、Co合金バイアス層としてCoPtを用いた場合、
△で表される点は、軟磁性層としてCoZrNb、Co
合金バイアス層としてCoを用いた場合を各々示す。
て用い、バイアス層としてCo合金を用いた場合、バイ
アス磁界を1580 A/m以上に大きくし、磁気記録
媒体のデータ領域に磁壁がかからないようにするととも
に、1580 A/mの磁場が印加されても、残留磁化
が低下しないようにするためには、少なくとも、軟磁性
層の膜厚を200nm以下、望ましくは150nmより
小さくすることが有効である。この膜厚が200nmよ
り薄いと、媒体の外周部及び内周部に磁壁が見られたと
しても、データ領域にまで磁壁がかからない。また、1
50nmより薄ければ、媒体全面に磁区は見られず、1
580 A/m以上の磁場を印加しても、残留磁化がも
との状態に復元する。
性層膜厚を200nm以下、望ましくは150nmより
薄くすることが有効である。このようなことから、発明
者らは、軟磁性層が120nmで、バイアス層を150
nmとした媒体を作製し、そのW/R評価したところ、
実際の再生波形に、複雑なノイズが乗ることが分かっ
た。この原因は、記録ヘッドの磁界によって、バイアス
層が反転してしまったためか、反転は生じないまでもバ
イアス層に微小なヘッド走行方向の磁化変化が起こり、
この磁化揺らぎが軟磁性層を通してヘッドにノイズとし
て伝わるためと考えられる。
ス層とで異なっているために、再生波形上で複雑なノイ
ズとして生じてしまったためと考えられる。この現象
は、垂直記録層厚と軟磁性層が薄い場合に、特に問題と
なる。
磁極面積が小さいので、距離が離れれば急激に減衰し、
バイアス層に直接大きな磁界が加わることはない。しか
しながら、軟磁性層表面の磁化変化が軟磁性層下部にま
でおよび、その際の界面に働く交換結合力を通して、反
転を起こすと考えられる。従って、バイアス層に、これ
に打ち勝つほどの異方性を付与すればよい。この条件
は、軟磁性層にかかるバイアス磁界をHa、軟磁性層の
飽和磁化量をMs、膜厚をtsoft、バイアス膜の保磁力
をHc、飽和磁化量をMsbias、膜厚をtbiasとする
と、界面の交換結合エネルギーJは、下記のように表さ
れる (1/2)×Hc×Msbias×tbias>Mssoft×t
soft×Ha=J このことから、バイアス層の保磁力を高めるか、バイア
ス層の膜厚を厚くすることが有効であることがわかる。
しかし、バイアス層の膜厚を厚くした場合、磁化反転は
なくなるものの、バイアス層の磁化分散が軟磁性層を通
して、ヘッドに伝わるノイズが増大してしまうという問
題が顕著となる。
ためには、軟磁性層の飽和磁化量Mssoft、膜厚tsoft
(nm)とバイアス膜のMsbias膜厚tbias(nm)
が、下記式で表される関係を満たすことが必要であるこ
とを見いだした。
soft×40nm+Msbias×tbias 軟磁性層の40nmという膜厚は、残留磁化の向きが大
きく変化できない厚みであり、軟磁性層の交換スティフ
ネス定数と異方性エネルギーできまる値である。Coや
Feを主として用いた軟磁性層では、40nm程度と考
えることができる。軟磁性のうち、バイアス層より40
nmより離れている軟磁性層は、磁化分散を遮断して、
ノイズの発生を押さえることができる。
満足させる必要がある。
にCo合金を用いた場合、バイアス磁界Haは、292
30 A/mなので、保磁力Hcとしては58460
A/m程度は必要である。ただし、膜のHc分散を考え
ると、平均のHcに対して、最も小さな磁界で反転する
ものも考慮すると、膜のHcとしては、4倍の1600
00 A/m以上が望ましい。
にノイズの発生の小さいものがよい。また、バイアス層
としては、必ずしも、面内磁気記録層のように磁気粒子
が孤立している必要はなく、熱揺らぎに強くすることが
有効である。
する。
を表す断面図である。
は、非磁性基板1、例えばNiAlからなるシード層
2、例えばクロム合金からなる下地層3、コバルト合金
バイアス層4、例えばCoZrNbまたはFeCo系合
金層等からなる軟磁性層5、例えばTiからなるシード
層6、例えばRuからなる下地層7、例えばCoCrP
t系合金あるいはCoPtCrO系合金からなる垂直磁
気記録層8、例えばCからなる保護層9、及び例えばパ
ーフロロポリエーテルからなる潤滑層10を順に積層し
た構成を有する。
化学強化アルミノ珪酸ガラス、結晶化ガラス、シリコ
ン、アルミ合金、カーボン、ポリイミド、ポリエステル
等が好ましく使用される。
り、バイアス層の配向を制御し、分散を少なくして、バ
イアス層の磁化を面内一方向に揃えるために、必要に応
じて任意に設けられる層である。この配向制御用のシー
ド層としてはNiAl、MgO、TiN等を使用するこ
とができる。また、この下地層としてはクロム合金、バ
ナジウム合金、ニオブ合金、タンタル合金、及びタング
ステン合金等を使用することができる。
rNb合金、CoZrTa合金、CoFe合金、NiF
e合金、FeAlSi合金、FeTaC合金、及びFe
TaN合金等を用いることができる。
意の層であり、下地層の配向、粒径制御を通して、垂直
記録層の配向粒径を制御するために設けられる。また、
下地層7も、同様に必要に応じて設けられる任意の層で
あり、その上に形成される垂直磁気記録層の垂直配向の
改良、粒径を微細化するために設けられる。
iN、及びNiAl等を用いることができる。
f、非磁性CoCr合金、Pt、及びPdを用いること
ができる。
系合金あるいはCoPtCrO系合金、Co/Pt多層
膜、Co/Pd多層膜、FePt規則合金、CoPt規
則合金が使用できる。
宜設けられる。
ン、CVDカーボンを用いることができる。
ロポリエーテル、及びハイドロフルオロエーテルを用い
ることができる。潤滑層は、例えばディップ法により形
成し形成し得る。
録再生装置に適用することができる。
の一例を一部分解した斜視図を示す。
の磁気ディスク121はスピンドル122に装着されて
おり、図示しないスピンドルモータによって一定回転数
で回転駆動される。磁気ディスク121にアクセスして
情報の記録再生を行う磁気ヘッドを搭載したスライダー
123は、薄板状の板ばねからなるサスペンション12
4の先端に取付けられている。サスペンション124は
図示しない駆動コイルを保持するボビン部等を有するア
ーム125の一端側に接続されている。
の一種であるボイスコイルモータ126が設けられてい
る。ボイスコイルモータ126は、アーム125のボビ
ン部に巻き上げられた図示しない駆動コイルと、それを
挟み込むように対向して配置された永久磁石および対向
ヨークにより構成される磁気回路とから構成されてい
る。
所に設けられた図示しないボールベアリングによって保
持され、ボイスコイルモータ126によって回転揺動駆
動される。すなわち、磁気ディスク121上におけるス
ライダー123の位置は、ボイスコイルモータ126に
よって制御される。なお、図2中、128は蓋体を示し
ている。
する。
録媒体40を、以下のようにして形成した。
珪酸ガラスを基板1として用意した。基板1上に、Ni
Al合金シード層2をスパッタにより形成した。その
後、クロム合金ターゲットとして下地層3をスパッタし
た。下地層3を形成した後、飽和磁化Msが1200
(emu/cc)のCoPt合金バイアス層4を、80
nmの厚さで、保磁力が160000 A/m以上とな
り、粒子間相互作用が強く、角形比が大きくなるような
条件でスパッタした。
のCoZrNb合金からなる軟磁性層5を180nmの
膜厚でスパッタした。
してシード層6を、レニウムをターゲットとして厚さ2
0nmの下地層7を各々スパッタした。その後、68a
t.%Co−20at.%Pt−12at.%Cr系タ
ーゲットを用い、酸素添加スパッタによってCoPtC
rO系垂直磁気記録層8を25nmをスパッタ形成し
た。
スパッタリングを用いて行った。
保護膜9をスパッタし、その表面にパーフロロポリエー
テルからなる潤滑層10をディップコートにより形成し
て垂直磁気記録媒体20を得た。
ク専用の着磁ジグを用いて、半径方向に、10msec
オーダーの反値幅をもつバイアス層が充分に飽和できる
790k A/m 以上のパルス磁界を印加し、半径方
向に磁化固着を行なった。着磁ジグに200Vの電圧を
印加したところ、半径方向に948k A/m以上の着
磁がかかっていた。
をトラック幅0.6mのシングルポール磁極、再生にト
ラック幅0.4m、ギャップ長90μmのGMR素子を
用いたヘッドを用いて、はじめに、書き込み電流を2m
Aから50mAまで増加させ、25kFCIの孤立波形
を調べた。その結果、大きなノイズのない良好な矩形波
形を示した。この後、50mAで、DC消去を行い、再
度、最適記録電流で書き込みとDC消去を繰り返した
が、DCノイズの増大や、波形変化は観測されなかっ
た。これらの媒体について、周波数200MHz、記録
周波数520kFCIで、媒体S/Nを測定した。
磁性層まで形成したディスクを作為し、この軟磁性層サ
ンプル表面全体の軟磁性層の磁区状態を、カー効果を利
用したオプティカル・サーフェイス・アナザイサー(O
SA)で観察し、軟磁性層全表面の磁区構造を調べた。
ングルポール磁極、再生にトラック幅0.4m、ギャッ
プ長90μmのGMR素子を用いたヘッドを使用し、得
られた軟磁性層サンプルのスパイクノイズ状態を測定し
た。
磁性層まで形成したディスクからVSM試料を切りだ
し、ディスクの半径方向の着磁方向に印加磁界+790
A/mから磁化の測定をはじめて、M−H磁化曲線を
得た。得られた結果を図4のグラフ51に示す。残留磁
化量Mrと飽和磁化量Msの比Mr/Msは、0.97
以上の値であることが確認できた。1580 A/m印
加後、磁界を戻すと、磁化量はもとに戻るので、Mrの
減少分である1−Mr/Msの0.03は、反転磁区が
形成されているためではなく、円周方向への分散と考え
られる。このとき、3950 A/mから磁化を戻した
際のバイアス磁界Hbiasから、結合エネルギーとして
は、γ=0.82erg/cm2という値が見積もられ
た。半径方向の残留磁化を測定する方法で、磁化の固着
力を測定した結果では、15800A/mの磁界印加に
対しても、残留磁化の低下は認められなかったまた、垂
直磁気記録媒体のヘッド走行方向に磁界を印加し、磁化
の測定を行い、M−H磁化曲線を得た。得られた結果を
図4のグラフ52に示す。ヘッド走行方向の比誘磁率と
しては、1000以上の値が得られた。
件でバイアス層までを形成したサンプルを作成し、これ
をVSMを用いてMH曲線を求めることで測定した。
bias、Mssoft×(tsoft−40nm)/Mssoft×4
0nm+Msbias×tbias値、Mr/Ms、Hcbias、
磁壁の存在、記録の繰り返しによるスパイクノイズの発
生、及び媒体S/Nについて、下記表3及び4に示す。
厚、Co含有バイアス層、その膜厚及び垂直磁気記録層
材料を表1及び2に示すように変化する以外は、実施例
1と同様にして垂直磁気記録媒体を得た。
同様に形成し、シード層6、下地層7、垂直磁気記録層
8、保護膜9、及び潤滑層10を形成しない軟磁性層サ
ンプルを、カー効果を利用したオプティカル・サーフェ
イス・アナザイサー(OSA)で観察し、軟磁性層全表
面の磁区構造を調べた。調べた結果を表す写真図を図5
に示す。図5に示すように、軟磁性表面で磁区の発生が
無いことが確認できた。
ングルポール磁極、再生にトラック幅0.4m、ギャッ
プ長90μmのGMR素子を用いたヘッドを使用し、得
られた軟磁性層サンプルのノイズ状態を測定した。その
結果を図6に示す。図6に示すように、スパイクノイズ
は観測されないことを確認できた。
磁気記録媒体から切り出したサンプルについて、バイア
ス印加方向と逆向きに一度磁界を印加してこれを取り除
いた後の残留磁化量Mrを測定した。図7に、磁界と、
初期残留磁化量に対する残留磁化量の比との関係を表す
グラフ図を示す。
60000 A/m以上あるものについては、図7に示
すように、印加磁界が2370 A/mまでは、磁化は
ほぼ元に戻る特性を有していることがわかった。
厚及び垂直磁気記録層材料を表1及び2に示すように変
化する以外は、実施例1と同様にして垂直磁気記録媒体
を得た。得られた垂直磁気記録媒体について、実施例1
と同様にして、そのバイアス磁界Hbias、Mr/Ms、
Mssoft×(tsoft−40nm)/Ms soft×40nm
+Msbias×tbias値、Mr/Ms、Hcbias、Hccr
itical、磁壁の存在、スパイクノイズの発生、S/N値
を調べた。得られた結果を下記表3及び4に示す。
性層全表面の磁区構造を調べた。OSAによるデータを
表す写真図を図8に示す。図示するように、データ領域
に及ぶ磁壁が存在することが確認された。
を測定した。その結果を図9に示す。図示するように磁
壁の影響によるスパイクノイズが発生していることが確
認された。
較例1ないし3のものは、バイアス磁界が弱く、OSA
測定で、ディスク外周および内周から発生した磁区が、
データ領域にまで広がっていた。また、ヘッドを用いた
測定では、スパイクノイズが観測され、DCノイズも実
施例と比較して大きかった。
0nm)>Mssoft×40nm+Msbias×tbiasの場
合、Soop/Nmrms>30dBと良好な値が得ら
れた。
Mssoft×40nm+Msbias×t biasの場合、Soo
p/Nmrmsは、3dB程度低い値を示した。
は、軟磁性層膜厚が200m以下のものでは、大きなノ
イズのない良好な矩形波形を示した。この後、50mA
で、DC消去を行い、再度、最適記録電流で書き込みと
DC消去を繰り返したが、DCノイズの増大や、波形変
化は観測されなかった。但し、バイアス層の保磁力が1
60000 A/mより小さい場合、ヘッドの最大記録
で同様の書き込みと消去を繰り返した際に、DC消去時
に小さなスパイク状のノイズが見られる場合があった。
ハード膜は一層であり、バイアス膜と軟磁性層は一層ず
つであったが、これを積層構成にしたものであっても、
軟磁性層は、記録層と記録層に最も近いバイアス膜との
膜厚と考えてよく、バイアス膜は、間に何らかの交換結
合が働いていれば、合計の膜厚として考えてよい。
ことにより、ディスクのデータ領域全体に逆磁区を発生
させず、スパイクノイズ発生を抑えることが可能とな
り、また、バイアス層からのノイズを、軟磁性層で有効
に遮断することことができるので、外部磁界によって、
磁化が減衰することなく、また、記録再生を繰り返して
も、信号が安定で、ノイズの少ない垂直磁気記録媒体が
得られる。
すグラフ図
す断面図
部分解した斜視図
による測定結果を表す写真
図
比との関係を表すグラフ図
による測定結果を表す写真
図
ルト合金バイアス層、5…軟磁性層、6…シード層、7
…下地層、8…垂直磁気記録層、9…保護層、10…潤
滑層、121…磁気ディスク、122…スピンドル、1
23…スライダー、124…サスペンション、125…
アーム、126…ボイスコイルモータ、127…固定
軸、128…蓋体
9)
をトラック幅0.6μmのシングルポール磁極、再生に
トラック幅0.4μm、ギャップ長90nmのGMR素
子を用いたヘッドを用いて、はじめに、書き込み電流を
2mAから50mAまで増加させ、25kFCIの孤立
波形を調べた。その結果、大きなノイズのない良好な矩
形波形を示した。この後、50mAで、DC消去を行
い、再度、最適記録電流で書き込みとDC消去を繰り返
したが、DCノイズの増大や、波形変化は観測されなか
った。これらの媒体について、周波数200MHz、記
録周波数520kFCIで、媒体S/Nを測定した。
シングルポール磁極、再生にトラック幅0.4μm、ギ
ャップ長90nmのGMR素子を用いたヘッドを使用
し、得られた軟磁性層サンプルのスパイクノイズ状態を
測定した。
シングルポール磁極、再生にトラック幅0.4μm、ギ
ャップ長90nmのGMR素子を用いたヘッドを使用
し、得られた軟磁性層サンプルのノイズ状態を測定し
た。その結果を図6に示す。図6に示すように、スパイ
クノイズは観測されないことを確認できた。
は、軟磁性層膜厚が200nm以下のものでは、大きな
ノイズのない良好な矩形波形を示した。この後、50m
Aで、DC消去を行い、再度、最適記録電流で書き込み
とDC消去を繰り返したが、DCノイズの増大や、波形
変化は観測されなかった。但し、バイアス層の保磁力が
160000 A/mより小さい場合、ヘッドの最大記
録で同様の書き込みと消去を繰り返した際に、DC消去
時に小さなスパイク状のノイズが見られる場合があっ
た。
Claims (4)
- 【請求項1】 非磁性基板と、該非磁性基板上に設けら
れたコバルト合金バイアス層と、該コバルト合金バイア
ス層に設けられ、鉄またはコバルトを主成分とする軟磁
性層と、垂直磁気記録層とを具備する垂直磁気記録媒体
であって、 該コバルト合金バイアス層は、その半径方向の一方向に
その残留磁化の方向が向いており、該コバルト合金バイ
アス層の厚さtbias、その飽和磁化Msbias、該軟磁性
層の厚さtsoft、及びその飽和磁化Mssoftが、下記式 Mssoft×(tsoft−40nm)>Mssoft×40nm
+Msbias×tbias 但し、該軟磁性層の厚さtsoftは40nmないし200
nmであるを満たすことを特徴とする垂直磁気記録媒
体。 - 【請求項2】 前記軟磁性層の厚さtsoftは、40nm
ないし150nmであることを特徴とする請求項1に記
載の垂直磁気記録媒体。 - 【請求項3】 前記コバルト合金バイアス層は、160
000 A/m以上の保磁力Hcを有することを特徴と
する請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。 - 【請求項4】 前記コバルト合金バイアス層と前記軟磁
性層の半径方向の残留磁化Mrと飽和磁化Msとの比M
r/Msが0.97以上であることを特徴とする請求項
1に記載の垂直磁気記録媒体。
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