JPH04219621A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体及びその製造方法

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JPH04219621A
JPH04219621A JP41126290A JP41126290A JPH04219621A JP H04219621 A JPH04219621 A JP H04219621A JP 41126290 A JP41126290 A JP 41126290A JP 41126290 A JP41126290 A JP 41126290A JP H04219621 A JPH04219621 A JP H04219621A
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JP
Japan
Prior art keywords
substrate
magnetic recording
recording medium
polishing tape
scratches
Prior art date
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Pending
Application number
JP41126290A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Inao
俊雄 稲生
Shinichi Fukawa
府川 信一
Akio Kondo
近藤 昭夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はコンピュ−タの外部記憶
装置(磁気ディスク装置)などにおいて、磁気記憶体と
して用いることのできる高密度記録用の磁気記録媒体に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】コンピュータなどの記憶媒体として磁気
記録媒体が用いられているが、従来この磁気記録媒体と
して磁性粉を塗布したテープなどが広く用いられていた
。しかしながら、この磁気テープは記憶密度が小さく、
アクセス時間が長いなどの欠点があった。
【0003】そのため、このような磁気テ−プにかわり
ランダムアクセスが可能な円板状の磁気ディスクが開発
されてきており、なかでもアルミニウム合金などの基板
上に厚さ1μm程度の磁気記録層を形成して構成された
磁気記録媒体が広く使用されている。この磁気記録媒体
の磁気記録層は、初めは酸化鉄などの磁性粉末をバイン
ダ−と混合し、これをスピンコ−ト法などの手法により
塗布することにより得られていたが、この方法で得られ
た磁気記録層を含む磁気記録媒体に飽和磁化の大きさに
限界があり、高密度記録磁性媒体としてはほぼ限界に達
していた。
【0004】そこで最近では、より大きい飽和磁化を有
する金属薄膜を磁気記録層として用いた磁気記録媒体が
提案されており、このような磁気記録層はコバルト系合
金からなる金属薄膜を真空蒸着法、スパッタリング法な
どの真空成膜技術により形成したり、無電解メッキ法な
どの湿式法により形成することにより得られている。
【0005】ところで、以上のような磁気記録媒体では
高記録密度を達成するために、磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの間のスペ−シングロスを少なくする必要があり、
そのためにヘッドのフライングハイトを低くしなければ
ならない。しかしながら、このフライングハイトを低く
するとヘッドクラッシュを起こしやすくなり、磁気記録
媒体のコンタクトスタ−トストップ耐久性(以下CSS
耐久性という)が急激に悪くなるという問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、CS
S耐久性の優れた磁気記録媒体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討を行った結果、磁気記録媒体の
基板表面に傷(以下、適宜テクスチャ−という)を、基
板の同心上に波型に設けることにより、磁気記録媒体の
CSS耐久性が飛躍的に向上することを見い出だし本発
明を完成するに至った。すなわち本発明は、基板、この
基板上に設けた磁気記録層及び該磁気記録層を保護する
ための保護層を含んでなる磁気記録媒体において、上記
基板がその表面の同心円上に波型の傷を有し、該傷同士
の交角が0.5〜20度の範囲にあることを特徴とする
磁気記録媒体である。以下、本発明を詳細に説明する。
【0008】本発明の磁気記録媒体は、図3に示すよう
に基板1、磁気記録層6及び保護層8を含んでなり、基
板1が図2に示すように、その表面の同心円4上に交角
が0.5〜20度の範囲にある波型のテクスチャ−3を
有している。本発明の磁気記録媒体は、基板表面にこの
ようなテクスチャ−を有するので、CSS耐久性が飛躍
的に向上したものとなる。
【0009】また、このテクスチャ−は基板の半径方向
の平均表面粗さが30〜300オングストロ−ムとなる
ように設けることにより、得られる磁気記録媒体はCS
S耐久性がより向上し、また磁気特性に優れたものとな
るので好ましい。
【0010】ところで、本発明の磁気記録媒体における
基板表面のテクスチャ−は、例えば研磨テ−プを用い、
基板と研磨テ−プを相対的に振動させながら研磨テ−プ
を基板に擦りつけることにより設けることができるが、
特に作業の簡便さから、図1に示すように基板1を回転
させ、研磨テ−プ2を振動させながら、上記基板1に研
磨テ−プ2を擦りつける工程によりテクスチャ−を設け
ることが好ましい。
【0011】このとき、基板1の回転と研磨テ−プ2の
振動が下記条件を満たすことにより基板1表面の同心円
上に交角が0.5〜20度の範囲にある波型のテクスチ
ャ−を形成することが可能となる。
【0012】 0.5≦2×tan−1(An/rR)≦20ただし、
A:研磨テ−プの振幅(mm)n:研磨テ−プの振動数
(回/分) r:研磨テ−プを擦りつける基板の位置(基板半径、m
m) R:基板の回転数(RPM) を各々示す。
【0013】また、テクスチャ−を設けた基板の半径方
向の平均表面粗さは、例えば上述した方法において用い
られる研磨テ−プ2の粒度などによって適宜調整するこ
とができる。
【0014】本発明の磁気記録媒体における基板1の材
料としては、例えばニッケル−リンめっき膜や陽極酸化
アルマイト膜などを被覆したアルミニウム合金、窒化硅
素焼結体,酸化アルミ焼結体などのセラミックス、ステ
ンレス,チタン合金などの金属、ガラスあるいはプラス
チックなどを挙げることができる。また、磁気記録層6
としては厚さ100〜2000オングストロ−ム程度の
コバルト含有合金からなる膜などが、保護層5としては
厚さ50〜400オングストロ−ム程度の炭素やAl2
O3、ZrO2などの無機物質からなる薄膜などが形成
される。
【0015】更に、本発明の磁気記録媒体には必要に応
じて厚さ500〜5000オングストロ−ム程度のクロ
ムなどの非磁性薄膜からなる下地層5、厚さ50〜20
0オングストロ−ム程度のクロム、チタン、バナジウム
などの金属薄膜からなる表面層7などを設けてもよい。 また使用にあたっては保護層8上に液体潤滑剤、固体潤
滑剤あるいはこれらの複合潤滑剤をスピンコ−ト法、デ
ィッピング法などにより塗布し、潤滑層9を形成して使
用することができる。なお、下地層5から保護層8まで
の薄膜の形成にあたっては、DCあるいはRFスパッタ
リング法または蒸着法などの真空成膜技術を用いること
ができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例を述べるが、本発明は
以下の実施例に限定されるものではない。
【0017】実施例   図3に示す部分断面構造を有する磁気記録媒体を製
造した。基板1としてニッケル−リンめっき膜を被覆し
たアルミニウム合金を用い、この基板表面に、基板を回
転させ、研磨テ−プを振動させながら擦りつけることに
よりテクスチャ−を施した。このテクスチャ−を施した
工程の条件は次のとおりとした。
【0018】 基板回転数  200RPM        研磨テ−
プの粒度  3000番 研磨テ−プの振動振幅      ±2.5mm振動数
    120回/分 その結果、基板表面には、基板の同心円上に波型の傷が
設けられ、該傷同士の交角は6〜8度となった。また、
この基板の半径方向に測定した平均表面粗さは180オ
ングストロ−ムとなった。
【0019】次にこの基板1上にDCスパッタリング法
により厚さ2000オングストロ−ムのクロム膜からな
る下地層5を形成し、その上に磁気記録層6としてニッ
ケルを20原子%含むコバルト−ニッケル合金膜を70
0オングストロ−ムの厚みとなるようにDCスパッタリ
ング法により形成した。
【0020】更にこの上に、保護層8としてDCスパッ
タリング法により厚さ600オングストロ−ムの炭素膜
を形成し、この保護層8の上に潤滑層9を液体潤滑剤を
ディッピング法により塗布することにより形成し、磁気
記録媒体を製造した。
【0021】その後、テストヘッドとしてMn−Znフ
ェライトヘッドを用い、得られた磁気記録媒体のCSS
試験を行ない、磁気記録媒体の表面とテストヘッドの間
の摩擦係数を測定した。その結果を表1に示す。なお、
CSS試験の条件は下記のとおりとした。
【0022】   レ−ル幅            20ミリインチ
      ロ−ドフォ−ス    9.5gw  フ
ライングハイト    0.20μm        
テスト半径          25mm    ディ
スク回転数      3600RPM      C
SSサイクル    15秒/回    摩擦測定時の
回転数    0.2RPM比較例1   実施例と同じ方法で同じ部分断面構造を有する磁気
記録媒体を製造し、CSS試験を行なった。ただし本比
較例の場合、磁気記録媒体の製造において、研磨テ−プ
を振動させずに基板表面にテクスチャ−を施し、基板の
同心円上にテクスチャ−を設けた。また、この基板の半
径方向に測定した平均表面粗さは190オングストロ−
ムとなった。
【0023】得られた磁気記録媒体の表面とテストヘッ
ドの間の摩擦係数を測定した結果を表1に示す。
【0024】比較例2   実施例と同じ方法で同じ部分断面構造を有する磁気
記録媒体を製造し、CSS試験を行なった。ただし本比
較例の場合、基板表面にはテクスチャ−を設けず、基板
の半径方向に測定した平均表面粗さを20オングストロ
−ムとした。
【0025】得られた磁気記録媒体の表面とテストヘッ
ドの間の摩擦係数を測定した結果を表1に示す。
【0026】
【表1】 表1から本発明の磁気記録媒体はCSS試験において、
テストヘッドとの間の摩擦係数は小さく、CSS回数が
多くなっても摩擦係数の増加は小さかったことがわかる
。このことから、本発明の磁気記録媒体はCSS耐久性
に優れていることがわかる。
【0027】
【発明の効果】以上述べたとおり、本発明の磁気記録媒
体はCSS耐久性に優れたものとなり、また本発明の方
法によれば上記の磁気記録媒体が簡便に得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気記録媒体の製造方法において、基
板表面上にテクスチャ−を設ける方法の一例を示す図で
ある。
【図2】本発明の磁気記録媒体の基板に設けられるテク
スチャ−の形状の例を示す図である。
【図3】本発明の磁気記録媒体の部分断面の一例を示す
図である。
【符号の説明】
1  基板      2  研磨テ−プ    3 
 テクスチャ−4  基板の同心円のひとつ     
   5  下地層        6  磁気記録層 7  表面層                   
   8  保護層        9  潤滑層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板、この基板上に設けた磁気記録層及び
    該磁気記録層を保護するための保護層を含んでなる磁気
    記録媒体において、上記基板がその表面の同心円上に波
    型の傷を有し、該傷同士の交角が0.5〜20度の範囲
    にあることを特徴とする磁気記録媒体。
  2. 【請求項2】基板を含む磁気記録媒体の製造方法におい
    て、下記条件に基づき基板を回転させ、研磨テ−プを振
    動させながら、上記基板に研磨テ−プを擦りつける工程
    を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 0.5≦2×tan−1(An/rR)≦20ただし、
    A:研磨テ−プの振幅(mm)n:研磨テ−プの振動数
    (回/分) r:研磨テ−プを擦りつける基板の位置(基板半径、m
    m) R:基板の回転数(RPM)を各々示す。
  3. 【請求項3】傷を有する基板の半径方向の平均表面粗さ
    が30〜300オングストロ−ムの範囲であることを特
    徴とする請求項第1項に記載の磁気記録媒体。
JP41126290A 1990-12-18 1990-12-18 磁気記録媒体及びその製造方法 Pending JPH04219621A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6682396B1 (en) * 2000-04-11 2004-01-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Apparatus and method for linear polishing

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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