JPH04219621A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH04219621A JPH04219621A JP41126290A JP41126290A JPH04219621A JP H04219621 A JPH04219621 A JP H04219621A JP 41126290 A JP41126290 A JP 41126290A JP 41126290 A JP41126290 A JP 41126290A JP H04219621 A JPH04219621 A JP H04219621A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はコンピュ−タの外部記憶
装置(磁気ディスク装置)などにおいて、磁気記憶体と
して用いることのできる高密度記録用の磁気記録媒体に
関するものである。
装置(磁気ディスク装置)などにおいて、磁気記憶体と
して用いることのできる高密度記録用の磁気記録媒体に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】コンピュータなどの記憶媒体として磁気
記録媒体が用いられているが、従来この磁気記録媒体と
して磁性粉を塗布したテープなどが広く用いられていた
。しかしながら、この磁気テープは記憶密度が小さく、
アクセス時間が長いなどの欠点があった。
記録媒体が用いられているが、従来この磁気記録媒体と
して磁性粉を塗布したテープなどが広く用いられていた
。しかしながら、この磁気テープは記憶密度が小さく、
アクセス時間が長いなどの欠点があった。
【0003】そのため、このような磁気テ−プにかわり
ランダムアクセスが可能な円板状の磁気ディスクが開発
されてきており、なかでもアルミニウム合金などの基板
上に厚さ1μm程度の磁気記録層を形成して構成された
磁気記録媒体が広く使用されている。この磁気記録媒体
の磁気記録層は、初めは酸化鉄などの磁性粉末をバイン
ダ−と混合し、これをスピンコ−ト法などの手法により
塗布することにより得られていたが、この方法で得られ
た磁気記録層を含む磁気記録媒体に飽和磁化の大きさに
限界があり、高密度記録磁性媒体としてはほぼ限界に達
していた。
ランダムアクセスが可能な円板状の磁気ディスクが開発
されてきており、なかでもアルミニウム合金などの基板
上に厚さ1μm程度の磁気記録層を形成して構成された
磁気記録媒体が広く使用されている。この磁気記録媒体
の磁気記録層は、初めは酸化鉄などの磁性粉末をバイン
ダ−と混合し、これをスピンコ−ト法などの手法により
塗布することにより得られていたが、この方法で得られ
た磁気記録層を含む磁気記録媒体に飽和磁化の大きさに
限界があり、高密度記録磁性媒体としてはほぼ限界に達
していた。
【0004】そこで最近では、より大きい飽和磁化を有
する金属薄膜を磁気記録層として用いた磁気記録媒体が
提案されており、このような磁気記録層はコバルト系合
金からなる金属薄膜を真空蒸着法、スパッタリング法な
どの真空成膜技術により形成したり、無電解メッキ法な
どの湿式法により形成することにより得られている。
する金属薄膜を磁気記録層として用いた磁気記録媒体が
提案されており、このような磁気記録層はコバルト系合
金からなる金属薄膜を真空蒸着法、スパッタリング法な
どの真空成膜技術により形成したり、無電解メッキ法な
どの湿式法により形成することにより得られている。
【0005】ところで、以上のような磁気記録媒体では
高記録密度を達成するために、磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの間のスペ−シングロスを少なくする必要があり、
そのためにヘッドのフライングハイトを低くしなければ
ならない。しかしながら、このフライングハイトを低く
するとヘッドクラッシュを起こしやすくなり、磁気記録
媒体のコンタクトスタ−トストップ耐久性(以下CSS
耐久性という)が急激に悪くなるという問題があった。
高記録密度を達成するために、磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの間のスペ−シングロスを少なくする必要があり、
そのためにヘッドのフライングハイトを低くしなければ
ならない。しかしながら、このフライングハイトを低く
するとヘッドクラッシュを起こしやすくなり、磁気記録
媒体のコンタクトスタ−トストップ耐久性(以下CSS
耐久性という)が急激に悪くなるという問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、CS
S耐久性の優れた磁気記録媒体を提供することにある。
S耐久性の優れた磁気記録媒体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討を行った結果、磁気記録媒体の
基板表面に傷(以下、適宜テクスチャ−という)を、基
板の同心上に波型に設けることにより、磁気記録媒体の
CSS耐久性が飛躍的に向上することを見い出だし本発
明を完成するに至った。すなわち本発明は、基板、この
基板上に設けた磁気記録層及び該磁気記録層を保護する
ための保護層を含んでなる磁気記録媒体において、上記
基板がその表面の同心円上に波型の傷を有し、該傷同士
の交角が0.5〜20度の範囲にあることを特徴とする
磁気記録媒体である。以下、本発明を詳細に説明する。
解決するために鋭意検討を行った結果、磁気記録媒体の
基板表面に傷(以下、適宜テクスチャ−という)を、基
板の同心上に波型に設けることにより、磁気記録媒体の
CSS耐久性が飛躍的に向上することを見い出だし本発
明を完成するに至った。すなわち本発明は、基板、この
基板上に設けた磁気記録層及び該磁気記録層を保護する
ための保護層を含んでなる磁気記録媒体において、上記
基板がその表面の同心円上に波型の傷を有し、該傷同士
の交角が0.5〜20度の範囲にあることを特徴とする
磁気記録媒体である。以下、本発明を詳細に説明する。
【0008】本発明の磁気記録媒体は、図3に示すよう
に基板1、磁気記録層6及び保護層8を含んでなり、基
板1が図2に示すように、その表面の同心円4上に交角
が0.5〜20度の範囲にある波型のテクスチャ−3を
有している。本発明の磁気記録媒体は、基板表面にこの
ようなテクスチャ−を有するので、CSS耐久性が飛躍
的に向上したものとなる。
に基板1、磁気記録層6及び保護層8を含んでなり、基
板1が図2に示すように、その表面の同心円4上に交角
が0.5〜20度の範囲にある波型のテクスチャ−3を
有している。本発明の磁気記録媒体は、基板表面にこの
ようなテクスチャ−を有するので、CSS耐久性が飛躍
的に向上したものとなる。
【0009】また、このテクスチャ−は基板の半径方向
の平均表面粗さが30〜300オングストロ−ムとなる
ように設けることにより、得られる磁気記録媒体はCS
S耐久性がより向上し、また磁気特性に優れたものとな
るので好ましい。
の平均表面粗さが30〜300オングストロ−ムとなる
ように設けることにより、得られる磁気記録媒体はCS
S耐久性がより向上し、また磁気特性に優れたものとな
るので好ましい。
【0010】ところで、本発明の磁気記録媒体における
基板表面のテクスチャ−は、例えば研磨テ−プを用い、
基板と研磨テ−プを相対的に振動させながら研磨テ−プ
を基板に擦りつけることにより設けることができるが、
特に作業の簡便さから、図1に示すように基板1を回転
させ、研磨テ−プ2を振動させながら、上記基板1に研
磨テ−プ2を擦りつける工程によりテクスチャ−を設け
ることが好ましい。
基板表面のテクスチャ−は、例えば研磨テ−プを用い、
基板と研磨テ−プを相対的に振動させながら研磨テ−プ
を基板に擦りつけることにより設けることができるが、
特に作業の簡便さから、図1に示すように基板1を回転
させ、研磨テ−プ2を振動させながら、上記基板1に研
磨テ−プ2を擦りつける工程によりテクスチャ−を設け
ることが好ましい。
【0011】このとき、基板1の回転と研磨テ−プ2の
振動が下記条件を満たすことにより基板1表面の同心円
上に交角が0.5〜20度の範囲にある波型のテクスチ
ャ−を形成することが可能となる。
振動が下記条件を満たすことにより基板1表面の同心円
上に交角が0.5〜20度の範囲にある波型のテクスチ
ャ−を形成することが可能となる。
【0012】
0.5≦2×tan−1(An/rR)≦20ただし、
A:研磨テ−プの振幅(mm)n:研磨テ−プの振動数
(回/分) r:研磨テ−プを擦りつける基板の位置(基板半径、m
m) R:基板の回転数(RPM) を各々示す。
A:研磨テ−プの振幅(mm)n:研磨テ−プの振動数
(回/分) r:研磨テ−プを擦りつける基板の位置(基板半径、m
m) R:基板の回転数(RPM) を各々示す。
【0013】また、テクスチャ−を設けた基板の半径方
向の平均表面粗さは、例えば上述した方法において用い
られる研磨テ−プ2の粒度などによって適宜調整するこ
とができる。
向の平均表面粗さは、例えば上述した方法において用い
られる研磨テ−プ2の粒度などによって適宜調整するこ
とができる。
【0014】本発明の磁気記録媒体における基板1の材
料としては、例えばニッケル−リンめっき膜や陽極酸化
アルマイト膜などを被覆したアルミニウム合金、窒化硅
素焼結体,酸化アルミ焼結体などのセラミックス、ステ
ンレス,チタン合金などの金属、ガラスあるいはプラス
チックなどを挙げることができる。また、磁気記録層6
としては厚さ100〜2000オングストロ−ム程度の
コバルト含有合金からなる膜などが、保護層5としては
厚さ50〜400オングストロ−ム程度の炭素やAl2
O3、ZrO2などの無機物質からなる薄膜などが形成
される。
料としては、例えばニッケル−リンめっき膜や陽極酸化
アルマイト膜などを被覆したアルミニウム合金、窒化硅
素焼結体,酸化アルミ焼結体などのセラミックス、ステ
ンレス,チタン合金などの金属、ガラスあるいはプラス
チックなどを挙げることができる。また、磁気記録層6
としては厚さ100〜2000オングストロ−ム程度の
コバルト含有合金からなる膜などが、保護層5としては
厚さ50〜400オングストロ−ム程度の炭素やAl2
O3、ZrO2などの無機物質からなる薄膜などが形成
される。
【0015】更に、本発明の磁気記録媒体には必要に応
じて厚さ500〜5000オングストロ−ム程度のクロ
ムなどの非磁性薄膜からなる下地層5、厚さ50〜20
0オングストロ−ム程度のクロム、チタン、バナジウム
などの金属薄膜からなる表面層7などを設けてもよい。 また使用にあたっては保護層8上に液体潤滑剤、固体潤
滑剤あるいはこれらの複合潤滑剤をスピンコ−ト法、デ
ィッピング法などにより塗布し、潤滑層9を形成して使
用することができる。なお、下地層5から保護層8まで
の薄膜の形成にあたっては、DCあるいはRFスパッタ
リング法または蒸着法などの真空成膜技術を用いること
ができる。
じて厚さ500〜5000オングストロ−ム程度のクロ
ムなどの非磁性薄膜からなる下地層5、厚さ50〜20
0オングストロ−ム程度のクロム、チタン、バナジウム
などの金属薄膜からなる表面層7などを設けてもよい。 また使用にあたっては保護層8上に液体潤滑剤、固体潤
滑剤あるいはこれらの複合潤滑剤をスピンコ−ト法、デ
ィッピング法などにより塗布し、潤滑層9を形成して使
用することができる。なお、下地層5から保護層8まで
の薄膜の形成にあたっては、DCあるいはRFスパッタ
リング法または蒸着法などの真空成膜技術を用いること
ができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例を述べるが、本発明は
以下の実施例に限定されるものではない。
以下の実施例に限定されるものではない。
【0017】実施例
図3に示す部分断面構造を有する磁気記録媒体を製
造した。基板1としてニッケル−リンめっき膜を被覆し
たアルミニウム合金を用い、この基板表面に、基板を回
転させ、研磨テ−プを振動させながら擦りつけることに
よりテクスチャ−を施した。このテクスチャ−を施した
工程の条件は次のとおりとした。
造した。基板1としてニッケル−リンめっき膜を被覆し
たアルミニウム合金を用い、この基板表面に、基板を回
転させ、研磨テ−プを振動させながら擦りつけることに
よりテクスチャ−を施した。このテクスチャ−を施した
工程の条件は次のとおりとした。
【0018】
基板回転数 200RPM 研磨テ−
プの粒度 3000番 研磨テ−プの振動振幅 ±2.5mm振動数
120回/分 その結果、基板表面には、基板の同心円上に波型の傷が
設けられ、該傷同士の交角は6〜8度となった。また、
この基板の半径方向に測定した平均表面粗さは180オ
ングストロ−ムとなった。
プの粒度 3000番 研磨テ−プの振動振幅 ±2.5mm振動数
120回/分 その結果、基板表面には、基板の同心円上に波型の傷が
設けられ、該傷同士の交角は6〜8度となった。また、
この基板の半径方向に測定した平均表面粗さは180オ
ングストロ−ムとなった。
【0019】次にこの基板1上にDCスパッタリング法
により厚さ2000オングストロ−ムのクロム膜からな
る下地層5を形成し、その上に磁気記録層6としてニッ
ケルを20原子%含むコバルト−ニッケル合金膜を70
0オングストロ−ムの厚みとなるようにDCスパッタリ
ング法により形成した。
により厚さ2000オングストロ−ムのクロム膜からな
る下地層5を形成し、その上に磁気記録層6としてニッ
ケルを20原子%含むコバルト−ニッケル合金膜を70
0オングストロ−ムの厚みとなるようにDCスパッタリ
ング法により形成した。
【0020】更にこの上に、保護層8としてDCスパッ
タリング法により厚さ600オングストロ−ムの炭素膜
を形成し、この保護層8の上に潤滑層9を液体潤滑剤を
ディッピング法により塗布することにより形成し、磁気
記録媒体を製造した。
タリング法により厚さ600オングストロ−ムの炭素膜
を形成し、この保護層8の上に潤滑層9を液体潤滑剤を
ディッピング法により塗布することにより形成し、磁気
記録媒体を製造した。
【0021】その後、テストヘッドとしてMn−Znフ
ェライトヘッドを用い、得られた磁気記録媒体のCSS
試験を行ない、磁気記録媒体の表面とテストヘッドの間
の摩擦係数を測定した。その結果を表1に示す。なお、
CSS試験の条件は下記のとおりとした。
ェライトヘッドを用い、得られた磁気記録媒体のCSS
試験を行ない、磁気記録媒体の表面とテストヘッドの間
の摩擦係数を測定した。その結果を表1に示す。なお、
CSS試験の条件は下記のとおりとした。
【0022】
レ−ル幅 20ミリインチ
ロ−ドフォ−ス 9.5gw フ
ライングハイト 0.20μm
テスト半径 25mm ディ
スク回転数 3600RPM C
SSサイクル 15秒/回 摩擦測定時の
回転数 0.2RPM比較例1 実施例と同じ方法で同じ部分断面構造を有する磁気
記録媒体を製造し、CSS試験を行なった。ただし本比
較例の場合、磁気記録媒体の製造において、研磨テ−プ
を振動させずに基板表面にテクスチャ−を施し、基板の
同心円上にテクスチャ−を設けた。また、この基板の半
径方向に測定した平均表面粗さは190オングストロ−
ムとなった。
ロ−ドフォ−ス 9.5gw フ
ライングハイト 0.20μm
テスト半径 25mm ディ
スク回転数 3600RPM C
SSサイクル 15秒/回 摩擦測定時の
回転数 0.2RPM比較例1 実施例と同じ方法で同じ部分断面構造を有する磁気
記録媒体を製造し、CSS試験を行なった。ただし本比
較例の場合、磁気記録媒体の製造において、研磨テ−プ
を振動させずに基板表面にテクスチャ−を施し、基板の
同心円上にテクスチャ−を設けた。また、この基板の半
径方向に測定した平均表面粗さは190オングストロ−
ムとなった。
【0023】得られた磁気記録媒体の表面とテストヘッ
ドの間の摩擦係数を測定した結果を表1に示す。
ドの間の摩擦係数を測定した結果を表1に示す。
【0024】比較例2
実施例と同じ方法で同じ部分断面構造を有する磁気
記録媒体を製造し、CSS試験を行なった。ただし本比
較例の場合、基板表面にはテクスチャ−を設けず、基板
の半径方向に測定した平均表面粗さを20オングストロ
−ムとした。
記録媒体を製造し、CSS試験を行なった。ただし本比
較例の場合、基板表面にはテクスチャ−を設けず、基板
の半径方向に測定した平均表面粗さを20オングストロ
−ムとした。
【0025】得られた磁気記録媒体の表面とテストヘッ
ドの間の摩擦係数を測定した結果を表1に示す。
ドの間の摩擦係数を測定した結果を表1に示す。
【0026】
【表1】
表1から本発明の磁気記録媒体はCSS試験において、
テストヘッドとの間の摩擦係数は小さく、CSS回数が
多くなっても摩擦係数の増加は小さかったことがわかる
。このことから、本発明の磁気記録媒体はCSS耐久性
に優れていることがわかる。
テストヘッドとの間の摩擦係数は小さく、CSS回数が
多くなっても摩擦係数の増加は小さかったことがわかる
。このことから、本発明の磁気記録媒体はCSS耐久性
に優れていることがわかる。
【0027】
【発明の効果】以上述べたとおり、本発明の磁気記録媒
体はCSS耐久性に優れたものとなり、また本発明の方
法によれば上記の磁気記録媒体が簡便に得られる。
体はCSS耐久性に優れたものとなり、また本発明の方
法によれば上記の磁気記録媒体が簡便に得られる。
【図1】本発明の磁気記録媒体の製造方法において、基
板表面上にテクスチャ−を設ける方法の一例を示す図で
ある。
板表面上にテクスチャ−を設ける方法の一例を示す図で
ある。
【図2】本発明の磁気記録媒体の基板に設けられるテク
スチャ−の形状の例を示す図である。
スチャ−の形状の例を示す図である。
【図3】本発明の磁気記録媒体の部分断面の一例を示す
図である。
図である。
1 基板 2 研磨テ−プ 3
テクスチャ−4 基板の同心円のひとつ
5 下地層 6 磁気記録層 7 表面層
8 保護層 9 潤滑層
テクスチャ−4 基板の同心円のひとつ
5 下地層 6 磁気記録層 7 表面層
8 保護層 9 潤滑層
Claims (3)
- 【請求項1】基板、この基板上に設けた磁気記録層及び
該磁気記録層を保護するための保護層を含んでなる磁気
記録媒体において、上記基板がその表面の同心円上に波
型の傷を有し、該傷同士の交角が0.5〜20度の範囲
にあることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】基板を含む磁気記録媒体の製造方法におい
て、下記条件に基づき基板を回転させ、研磨テ−プを振
動させながら、上記基板に研磨テ−プを擦りつける工程
を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 0.5≦2×tan−1(An/rR)≦20ただし、
A:研磨テ−プの振幅(mm)n:研磨テ−プの振動数
(回/分) r:研磨テ−プを擦りつける基板の位置(基板半径、m
m) R:基板の回転数(RPM)を各々示す。 - 【請求項3】傷を有する基板の半径方向の平均表面粗さ
が30〜300オングストロ−ムの範囲であることを特
徴とする請求項第1項に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41126290A JPH04219621A (ja) | 1990-12-18 | 1990-12-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41126290A JPH04219621A (ja) | 1990-12-18 | 1990-12-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04219621A true JPH04219621A (ja) | 1992-08-10 |
Family
ID=18520289
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP41126290A Pending JPH04219621A (ja) | 1990-12-18 | 1990-12-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04219621A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6682396B1 (en) * | 2000-04-11 | 2004-01-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Apparatus and method for linear polishing |
-
1990
- 1990-12-18 JP JP41126290A patent/JPH04219621A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6682396B1 (en) * | 2000-04-11 | 2004-01-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Apparatus and method for linear polishing |
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