JPH04259908A - 磁気ディスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、金属スパッタ型磁気
ディスクなどに用いられる、磁気ディスク基板に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報量の増大に伴い、磁気ディス
クの高容量化及びその記録媒体（磁性膜）の高密度化が
図られている。記録密度向上のためには、磁気ヘッドの
浮上高さを極力小さくする必要があり、このため、磁気
ディスクの基板には、磁気ヘッドの低浮上化に対処し得
る表面粗度（表面平滑度）が求められている。例えば、
現在、磁気ヘッド浮上高さとしては　０．１μｍ以下を
実現することが要請されており、この場合、磁気ディス
ク基板に要求される表面粗度は、この浮上高さの１／１
０以下程度にすることが必要であるとされている。

【０００３】また、記録密度向上のためには記録媒体（
磁性膜）の厚みを薄くすることが必要であり、この点か
ら、媒体膜厚減少に限界がみられる、アルミニウム合金
基板上にコーティング記録媒体（塗布型記録媒体）を塗
布した構造の塗布型磁気ディスクに代わるものとして、
基板上にめっき法によって金属磁性膜を形成した構造の
めっき型磁気ディスク、あるいは、基板上にスパッタ法
によって金属磁性膜を形成した構造の金属スパッタ型磁
気ディスクなどの薄膜磁気ディスクが注目されており、
その一部は実用に供されている。

【０００４】このような薄膜磁気ディスクの基板として
は、良好な研磨性を確保して表面粗度を小さくするため
に、アルミニウム合金よりなる基体（アルミニウム合金
基板）の表面に厚み１０〜１５μｍ程度の無電解ＮｉＰ
　めっき膜を施した、いわゆるＮｉＰ　めっき基板が用
いられている。

【０００５】一方、磁気ディスク装置においては、磁気
ヘッド浮揚面と磁気ディスク表面が極めて平滑で微小間
隔で対面していると、その間がＯ２、Ｎ２、Ｈ２Ｏ　等
の分子により埋めつくされて界面張力による大きな吸着
力が発生し、ディスク静止時に磁気ヘッド浮揚面と磁気
ディスク表面との吸着が生じることがある。この吸着が
生じると、磁気ディスク装置のモータ起動時に多大の電
力を消費し、最悪の場合には磁気ヘッドが破壊するなど
の回復不可能な障害に至ることにもなる。

【０００６】この磁気ヘッド吸着を防止するため、磁気
ディスク基板としては、研磨を施した表面に同心円状の
条こん（同心円状の溝）をつけて基板表面を微小粗さに
調整し粗面化するテクスチャー加工（処理）が施された
、いわゆるテクスチャー付き磁気ディスク基板が用いら
れている。そして、このようなテクスチャー加工が施さ
れたＮｉＰ　めっき基板上にＣｏ合金系の磁性層（磁性
膜）をスパッタ法によって形成した磁気ディスクにおい
ては、結晶磁気異方性により円周方向の磁気特性が向上
することが知られている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来のＮｉＰ　めっき基板では、さらに磁気特性を向上さ
せるために、例えば、基板温度を　３００℃程度以上に
高めてスパッタ法によって磁性層を形成しようとすると
、めっき層のＮｉＰ　の結晶化により磁性を帯びるとい
う欠点がある。

【０００８】この発明は、上記のような点に鑑みてなさ
れたものであって、磁性膜の形成時などにおける磁気特
性向上のための高温加熱処理が可能であるとともに、磁
気ディスクとされた際の磁気ヘッド吸着防止性に優れ、
記録密度向上の要請に応えることのできる、磁気ディス
ク基板の提供を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明による磁気ディスク基板は、シリコンよ
りなるディスク基体の表面にその半径方向の表面粗度が
Ｒａ１０〜　５００Åとなるように同心円状の条こんを
形成してなることを特徴とするものである。

【００１０】

【作用】シリコンよりなるディスク基体は、耐熱性に優
れ非磁性であり、高温加熱処理されても磁化されること
はない。さらに、ディスク基体の表面にその半径方向の
表面粗度がＲａ１０〜　５００Åとなるように同心円状
の条こんが形成されているので、磁気ディスクとされた
際の円周方向の磁気特性が向上するとともに、磁気ヘッ
ド吸着を防止できる。

【００１１】この場合、基板半径方向の表面粗度（表面
粗さ）は、Ｒａ１０〜　５００Åの範囲が適当である。 表面粗度がＲａ１０Åより小さいと、磁気ヘッド吸着防
止効果、円周方向の磁気特性向上効果が十分ではなく、
Ｒａ　５００Åを超えると、表面が粗くなり過ぎて磁気
ヘッドの浮上動作が不安定となり易いためである。

【００１２】

【実施例】以下、実施例に基づいてこの発明を説明する
。まず、板厚１．３０ｍｍのシリコンウエハー材を外径
９５ｍｍ、内径２５ｍｍのドーナツ形状に加工した後、
これに所定の端面加工および表面鏡面仕上げを施して、
板厚１．２７ｍｍ、表面粗度がＲａ＝３Åの３．５　イ
ンチ用のシリコンディスク基体とした。

【００１３】次に、このシリコンディスク基体を回転さ
せた状態で、砥粒が付着された研磨テープをテープ裏面
側からロールで押し付けながらこの基体の半径方向に接
触移動させ、基体表面に同心円状の条こんをつけて基体
表面を粗面化するテクスチャー加工を施し、テクスチャ
ー付きのシリコン磁気ディスク基板を作製した。

【００１４】この場合の加工条件は、研磨テープ：６０
００番、回転数：８００　ｒｐｍ　、ロール硬度：９０
、押し付け荷重：０．５　〜２Ｋｇ／ｃｍ２　、加工処
理時間：１分間、研削剤：ユシロケンＭＩＣ−５　（ユ
シロ化学製）の　５％水溶液、とした。

【００１５】作製したシリコン磁気ディスク基板の基板
半径方向の表面粗度Ｒａを表面粗さ計によって測定した
。 その測定結果を表１に示す。そして、このような基板半
径方向の表面粗度Ｒａを有するそれぞれのシリコン磁気
ディスク基板上に、厚み３０００ÅのＣｒ下地層と、厚
み　６００ÅのＣｏ６２．５Ｎｉ３０Ｃｒ７．５　磁性
層と、厚み　３００ÅのＣ保護層とをＤ．Ｃ．マグネト
ロンスパッタ装置を用いて順次形成して磁気ディスクを
作製した。なお、基板温度は　３００℃とした。これら
の磁気ディスクの円周方向及び半径方向の保磁力を振動
試料型磁力計（ＶＳＭ）を用いて測定した。 さらに、磁気ヘッドに対する吸着防止性を評価するため
、温度６５℃、湿度８５％の高温高湿度の雰囲気におい
て１０日間の磁気ヘッド吸着試験を行った。

【００１６】保磁力の測定結果及び吸着試験の結果を表
１に示す。なお、比較のため、テクスチャー加工なしの
上記のシリコンディスク基体上にも上記と同様の各層を
形成して比較用の磁気ディスクを作製し、保磁力測定及
び吸着試験を実施して比較例とした。

【００１７】

【表１】

【００１８】表１から理解されるように、この発明によ
るシリコン磁気ディスク基板を用いることにより、磁気
ヘッドに対する吸着防止性に優れ、円周方向の保磁力が
向上した磁気ディスクを得ることができた。

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように、この発明による磁
気ディスク基板は、そのディスク基体がシリコンよりな
るものであるから、耐熱性に優れ、磁性膜形成時に基体
が従来のＮｉＰ　めっき基板で生じるような磁性を帯び
ることなく磁性膜の磁気特性を向上させるための高温加
熱処理が可能である。さらに、ディスク基体の表面にそ
の半径方向の表面粗度がＲａ１０〜　５００Åとなるよ
うに同心円状の条こんが形成されているので、磁気ディ
スクとされた際に円周方向の保磁力が向上するとともに
、磁気ヘッドに対する吸着現象を防止することができる
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　シリコンよりなるディスク基体の表面
   にその半径方向の表面粗度がＲａ１０〜　５００Åとな
   るように同心円状の条こんを形成してなることを特徴と
   する磁気ディスク基板。