JPH01303601A - 磁気記録媒体および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体および装置に係り、さらに詳し
くはディスク型の磁気記録媒体および装置に関する。

〔従来の技術〕

近年、コンピュータ・システムにおける外部記憶装置と
して重要性が増大し、磁気ディスクの記録密度は年々著
しい向上が図られている。従来、磁気記録媒体は、針状
γ−Ｆｅ□０．微粒子を有機バインダー中に分散した粘
性材料をアルミ合金基板上にスピン塗布・焼成した塗布
型媒体の薄膜化を中心に開発が進められ、現在広く用い
られている。しかし、より高密度化を達成するためには
媒体の薄膜化が必要となるが、現在の塗布型媒体では技
術的に限界があると考えられ、これに代る高密度磁気デ
ィスクとして、薄膜化が容易な金属磁性薄膜媒体をもつ
磁気ディスクが注目されている。

この金属磁性薄膜媒体はめっき技術によって形成するめ
っき磁気ディスク、金属磁性膜（Ｃｏ−Ｃｒ。

Ｃ，−Ｎｉ等）、あるいは、金属酸化物（γ−Ｆｅ□０
、等）をスパッタ法で形成するスパッタ磁気ディスク等
が開発され、記憶密度を大巾に増加しうるものと期待さ
れている。

この様な連続薄膜媒体を用いた磁気ディスクの一般的な
構造は次のようである。基板は高純度アフミニウム合金
が用いられ、その上に下地層が形成される。下地層の上
に磁性層が形成されるが、この二層の間には両層の密着
性向上や磁性層の特性向上を目的として中間膜が形成さ
れることがある。磁性層の上には潤滑膜、あるいは、保
護膜が形成される。

下地層としては、−船釣に無電解めっき法で形成したＮ
１−Ｐ膜が用いられ、中間膜はスパッタリング法で形成
したＣｒ膜が用いられることが多い。磁性層としてはめ
っき法、イオンブレーティング法、スパッタリング法、
真空蒸着法などの手法によって、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉなど
の強磁性金属、またはこれらの元素を主成分とする強磁
性合金からなる膜が形成される。この磁性層は耐食性が
悪く、また、磁気ヘッドとの接触などによって損耗する
ため、この磁性層の上に保護膜及び潤滑膜が形成される
のが一般的である。

上記の磁気記録媒体の基板材料としてはＡ１合金が多く
使われ、また、ガラス、セラミックスあるいはポリイミ
ド等のプラスチックなども使用されている。基板径は３
．５“φ、５．２５’φ等所要とする記憶容量に応じて
様々の径が用いられている。現在一般に用いられている
磁気記録装置においては、記録・再生操作開始前には記
録内容を記録・再生する磁気ヘッドと磁気記録媒体は接
触しており、操作開始時に磁気記録媒体に所要の回転を
与えることにより、磁気ヘッドと記録媒体の間に空間が
生じ、この状態で記録・再生操作を行っている（コンタ
クト・スタート・ストップ方式・以下ＣＳＳ方式と呼ぶ
）。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術において、保護膜上に形成される潤滑膜と
して液体潤滑剤が使用されている場合に、記録・再生操
作開始前に記録媒体と磁気ヘッドが接触している際、磁
気ヘッドが記録媒体表面に粘着することがしばしば発生
する。この現象が発生した場合、記録・再生操作開始時
に、磁気ヘッドと媒体間に大きな初期接線力が生じ、磁
気ヘット部分が破損したり、また、記録媒体表面にキズ
を発生させるという問題があった。

上記の問題を解決する方法として、基板表面上に微小な
凹凸を形成する方法が提案されており（例えば、特開昭
６０−３８７２０号、特開昭６２−６４２４号、特開昭
６２−６４３４号）これらの方法により、磁気ヘッドが
記録媒体表面に粘着するという問題はかなり改善されて
いる。ところが、これらの方法においては微小な凹凸の
粗さについては配慮されているが、その微小な凹凸の形
成される方向についてはなんら配慮されていな−い。こ
の微小な凹凸の溝に方向性のない基板を用いて磁気記録
媒体を製造した場合は、次のような問題が生じる。

例えば、Ａ１合金基板を用いて、この基板上に下地膜と
してＮ１−Ｐめっき膜を形成した後、この基板面をダイ
ヤモンド旋盤で研磨加工したままのもの、あるいはさら
に、その面にダイヤモンド等の砥粒を用いて表面にラン
ダムな方向の傷を付けた基板を用い、上記基板の上に中
間膜（Ｃｒ）。

磁性膜（Ｃｏ−Ｎｉ系）、保護膜（Ｃ）をスパッタ法で
形成した後、潤滑膜（パーフロロエーテル系）を形成し
て磁気記録媒体を形成すると、この記録媒体は円周方向
で電気的信号出力が一定にならず（モジュレーション）
、性能的に問題があった。上記のモジュレーション発生
の問題は、工業的規模のスパッタ装置内で基板を移動さ
せながら磁性膜を形成させる場合に顕著に表われた。

本発明の目的は、記録媒体の円周方向の信号出力の変動
を来すことなく、磁気ヘッドと記録媒体の粘着による不
具合を解消するにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、ディスク型磁気記録媒体と該磁気記録媒体
の記録内容を記録・再生する磁気ヘッドとを側えた磁気
記録装置において、前記磁気記録媒体と前記磁気ヘッド
のスライダー面とが接触している状態で、前記磁気記録
媒体面と前記磁気ヘッドのスライダー面の間に制御され
た空隙が形成され、該空隙が前記磁気記録媒体面にその
円周方向に沿って形成されている磁気記録装置により達
成される。

基板上に円周方向の溝が形成されいて、該基板の半径方
向の断面における前記溝の中心線平均粗さが２〜１００
ｎ＋ｎである磁気記録媒体を用いると効果がある。

円周方向の溝が形成された前項の基板上に表面硬化層が
形成され、該表面硬化層を蔽う磁性層が形成されている
磁気記録媒体としてもよい。

基板の材質は、アルミニウム合金、ガラス、セラミック
ス、およびポリイミドのなかのいずれかひとつ以上を複
合したものでもよい。

また、前記表面硬化層上に磁性層の結晶配向性層が形成
され、該結晶配向性層の上に磁性層が形成されている磁
気記録媒体としてもよい。

基板上に表面硬化層が形成され、該表面硬化層に円周方
向の溝が形成されていて、該表面硬化層の半径方向の断
面における前記溝の中心線平均粗さが２〜１１００ｎで
ある磁気記録媒体であってもよい。尚、中心線平均粗さ
は、ＪＩＳ　　Ｂ　　０６０１に表示されている表面粗
さの表示方法１こ基づいて求められる。

また、本発明の目的は、ディスク型磁気記録媒体と該磁
気記録媒体の記録内容を記録・再生する磁気ヘッドとを
備えた磁気記録装置において、前記磁気記録媒体と前記
磁気ヘッドのスライダー面とが接触している状態で、前
記磁気記録媒体面と前記磁気ヘッドのスライダー面の間
に制御された空隙が形成され、該空隙が前記磁気ヘッド
のスライダー面に形成されている磁気記録装置によって
も達成される。

スライダー面に凹凸が設けられ、該スライダー面に垂直
な任意の方向の断面における前記凹凸の中心線平均粗さ
が５〜１５ｎｍである磁気ヘッドとしてもよい。

〔作用〕

磁気記録媒体の面に円周方向の溝を設けであることから
、磁気ヘッドが磁気記録媒体に接触したとき、磁気ヘッ
ドのスライダー面と磁気記録媒体の間に空隙が形成され
、磁気記録媒体の回転開始時に、該スライダー面と磁気
記録媒体面の間に生ずる初期接線力が低減される。また
磁気記録媒体面に円周方向の溝が設けられているので、
磁気記録媒体をスパッタリング装置内で移動させながら
磁性層を形成しても、磁気記録媒体の円周方向の信号出
力が変動しない。

また、磁気記録媒体半径方向断面における円周方向の溝
の中心線平均粗さを２〜１１００ｎとしたので、磁気記
録媒体面からの突出量が制限されて磁気ヘッドを高記録
密度化のために、媒体面に接近させても、磁気ヘッドと
磁気記録媒体面の衝突が避けられるとともに、溝が浅す
ぎて初期接線力が低減されないということがない。

硬度の小さい基板に溝を設ける場合は、溝を設けた基板
面に表面硬化層を形成することにより、媒体面に対する
磁気ヘッドの衝撃による基板面の変形が防止される。

表面硬化層の上に結晶配向性層を設けると、その上に形
成される磁性層の結晶配向性が制御される。

磁気記録媒体の基板面に溝が設けられなくとも、基板面
上に形成された表面硬化層に円周方向の溝が設けられれ
ば、磁性層は円周方向の溝を備えた面に形成され、円周
方向の信号出力は一定となる。

磁気ヘッド側に凹凸が設けられても、磁気ヘッドと磁気
記録媒体の間に空隙が形成され、磁気記録媒体回転開始
時に磁気ヘッドスライダ−面と磁気記録媒体間に生ずる
初期接線力が低減される。

この場合は磁気記録媒体の円周方向の信号出力の変化に
影響がないので、方向性のない凹凸でよい。

磁気ヘッドスライダ−面に形成される凹凸の大きさは、
中心線平均粗さが５〜１５ｎｎ＋とすれば、磁気ヘッド
と磁気記録媒体の突出部が衝突することがなく、磁気ヘ
ッドと磁気記録媒体の間に生ずる初期接線力が低減しな
いということもない。

〔実施例〕

本発明の磁気記録媒体の製造にあたっては、磁性層の形
成前に円周方向に沿った微細な溝が形成された基板を用
いる必要がある。該基板は、例えば基板の素材がアルミ
ニウム合金のように硬度の小さいものであれば、その表
面に表面硬化層を形成する必要があり、さらに磁性層の
結晶配向性を制御する必要がある場合には１例えばＣｒ
のようなメタル層が上記表面硬化層の上に形成される。

表面硬化層はまた、下地層とも呼ばれ、その材料として
は、アルミニウム合金より硬度が高く、非磁性のもの、
Ｓｉ、Ｂ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａ１等の窒化物、炭化物あるい
はそれらとそれらの酸化物との複合材料、例えば、Ｓｉ
Ｏ□／　Ｓ　３−　Ｃ複合膜、例えば、Ｎ１−Ｐ、Ｓｉ
Ｃ，ＡＩＮ、ＳｉＮ等が用いられる。

表面硬化層を形成する場合、Ａ１合金基板表面に直接円
周方向に沿った溝を形成させた後、該基板表面に乾式め
っき法、例えばスパッタ、蒸着、イオンブレーティング
法等によって硬度の高い材料で下地層を形成させる方法
や、イオン打ち込みにより上記の溝が形成されたＡ１基
板面に直接表面硬化層を形成させる方法を用いることが
できる。

さらに、Ａ１合金基板面に溝を設けることなく、前記乾
式めっき法で表面硬化層を形成させた後、該表面硬化層
の表面に円周方向に沿う微細な溝を形成させる方法も用
いられる。この際、上記の溝の形成法としては、工業的
に実施する場合には、乾式法、例えばイオンビームでエ
ツチングして形成するのが望ましいが、研磨砥粒を用い
て形成させることも可能である。また、Ａ１合金基板面
に湿式めっき法で下地層、例えばＮ１−Ｐ層を形成させ
た後、該Ｎ１−Ｐ層の表面に円周方向に沿った溝を形成
させる方法も可能である。

また、基板の素材がＡ１合金でなく、ガラス、セラミッ
クス等のように、材料それ自体が十分な硬度を有する場
合は、前記のＡ１合金の場合のような下地層は不要で、
それらの表面に直接円周方向に沿った溝を形成させたも
のを用いることができ、必要であればそれらの基板に直
接クロームのようなメタル層を形成したものを用いるこ
とができる。

いずれにしても、磁性層を形成する工程には、基板の素
材の種類にかかわらず、磁性層が形成される面に円周方
向に沿って微細な溝が形成されている基板を用いる必要
がある。

磁気記録媒体の円周方向に沿った微小な溝の構造として
、それを中心線平均粗さとして示した場合、それが小さ
すぎる場合は磁性層の異方性を制御する効果がなくて本
発明の目的を達成するのに不十分であり、またそれが大
きすぎる場合には磁気ヘッドのスライダー面と磁気記録
媒体面の距離（磁気ヘッドの浮上量）をできるだけ小さ
くするという、磁気記録装置の高記録密度化の要求を満
足するのが困難となる。このような状況から上記の溝の
中心線平均粗さは、基板の半径方向に触針式の表面あら
さ計で測定して２〜１１００ｎの範囲に制御するのが好
ましい。さらに好ましくは、中心線平均粗さを５〜１５
ｎｍとする。

さらに、上記の溝の形成方向は第１図に示すように円板
（磁気記録媒体）の円周方向に沿っていることが重要で
あるが、溝は必ずしも円周を一周するほど連続している
必要はない。

磁性層の形成法としては、現在量も工業的に広く用いら
れているのはスパッタリング法であり、その中でも、例
えば直流２極スパツタリング法、高周波スパッタリング
法、マグネトロンスパッタリング法等が用いられる。本
発明の対象となるディスク型の磁気記録媒体は、基板の
両面に磁性層を形成させる必要から、通常は両側にター
ゲットを備えたスパッタリング装置の中央部を基板を移
動させる方法が用いられる。この方法で磁性層を形成さ
せる場合、円周方向に沿った微小な溝を有する基板面（
下地層がある場合は下地層面）上に磁性層を形成すると
、磁性層の結晶軸の成長方向の制御が可能となり、磁気
記録媒体の円周方向の信号出力を一定にする効果がある
。

スパッタリングで形成される磁性層の厚さは通常非常に
薄く、例えば５０ｎｍ位であり、基板に形成された円周
方向に沿う溝の形状は磁性層形成後もほぼ保たれる。さ
らに、通常は上記の磁性層を保護するために、磁性層上
に保護層、例えば炭素膜が形成されるが、この保護層の
厚さは薄いのが好ましく、例えば５０ｎｍ位である。こ
のように、磁性層および保護膜が形成されても、その表
面に円周方向に沿った微小な溝が存在することが必要で
ある。上記の保護膜が形成された後１通常は潤滑層、例
えばパーフロロアルキルエーテル系の液体潤滑剤、が２
〜Ｂｎｍ位の厚さで形成されて磁気記録媒体が製造され
る。

上記の磁気記録媒体は磁気ヘッドと組合わされて磁気記
録装置として使われる。現在の記録・再生方式はＣ８Ｓ
方式であり、操作開始以前には磁気ヘッドと磁気記録媒
体は接触している。この方式においても磁気記録媒体表
面に上記のような円周方向に沿った微小な溝が形成され
ている場合には、磁気ヘッドと磁気記録媒体表面が接触
している時にも両者の間には微小な隙間が存在し、記録
・再生操作開始時の初期接線力を低減する効果があり、
磁気ヘッドが磁気記録媒体表面に粘着して磁気ヘッド部
分や磁気記録媒体表面を破損するという問題を回避でき
る。

以下に本発明の実施例を挙げ、図面を参照して説明する
。

（比較例１） 基板１としてＡ１合金基板（５，２５’φ）を用い、該
基板に通常知られている無電解めっき法でＮ１−Ｐ膜２
を下地層として形成した後、表面を研磨して膜厚約１２
μｍのＮ１−Ｐ膜付基板を得た。このＮ１−Ｐ膜表面の
面精度は、中心線平均粗さで約５ｎＩ１１で、走査型顕
微鏡でＩｌ！察すると、その表面には方向性のない傷が
見られた。該基板を用いて、直流２極スパツタリング装
置により第４図に示す構造の磁気記録媒体を作製した。

本スパッタリング装置は試料室の両側にターゲットが設
置され、その中央部をホールダーに保持された基板を移
動させながら、基板の両面にほぼ均一に成膜させていく
方式である。第１工程として基板温度約１５０℃、Ａｒ
圧１０ｍＴｏｒｒで上記の基板に中間膜３としてＣｒ膜
を約０．４μｍ形成し、順次、磁性膜４及び保護膜５を
形成した。磁性膜４は２０ｗｔ％Ｃｏ−Ｎｉ合金ターゲ
ットを用い、基板温度約２００℃で膜厚約０．０６５μ
ｍに形成し、保護膜５はＣターゲットを用い、基板温度
約１００℃で膜厚約０．０５μｍに形成した。上記の工
程の後、保護膜表面に液体潤滑剤（例えばパーフロロア
ルキルエーテル系の液体潤滑剤）をスピンコード法で塗
布して膜厚約２０ｎｍの潤滑膜６を形成し、磁気記録媒
体を得た。

上記の磁気記録媒体を用いて磁気特性を評価した。Ｍ　
ｎ　−Ｚ　ｎフェライトヘッドを用いて記録・再生特性
を評価したところ、円周方向に出力の変動が大きく、実
用に供するのが困難であった。さらに、トルクメータで
上記磁気記録媒体の磁性膜の円周方向の磁気異方性を測
定したところ、スパッタ装置内の基板の搬送方向に磁気
異方性があることがわかった。この原因は、磁性膜形成
前の基板面に方向性のある傷がなかったためと推定され
る。

さらに、上記の磁気記録媒体を用いて上記の磁気ヘッド
によりＣ８Ｓ試験を行ったところ、初期接線力が約Ｌｏ
ｇと大きく、約３千回のＣ８Ｓ回数で目視で確認できる
キズが磁気ディスク表面に検出され、実用に供するには
摺動信頼性が不十分であることが判明した。

（実施例１） 基板１として５．２５’φのＡ１合金（不純物のＳｉ、
Ｆｅ等の濃度を低下させたもの）を用い、あらかじめ所
定の加速度及び真直度になるように加工した。上記の基
板面をＡ１□０３砥粒を有する研磨剤により加工し、円
周方向に沿った溝を形成させた。（中心線平均粗さ約４
０ｎｍ）該基板を用いて、比較例と同じスパッタリング
装置で第４図に示す構成になるように薄膜を順次形成し
、磁気記録媒体を形成した。各層の形成条件は次のよう
である。下地膜２としてはＳｉＯ２（５ｗｔ％）／Ｓｉ
Ｃの複合ターゲットを用い、基板温度約１５０℃、Ａｒ
圧１０ｍＴｏｒｒで膜厚約２゜５μｍに形成した。この
段階で同条件で形成したサンプルを評価したところ、表
面粗さは中心線平均粗さ約１０ｎｍで、円周方向に沿っ
た溝が形成されており、硬度はヌープ硬度約１６００ｋ
ｇｆ／ｍｍ２であった。実際の製造プロセスではスパッ
タリング装置内で、下地膜２から保護膜５まで連続的に
形成した。形成条件及び各層の膜厚は比較例と同じであ
る。次に、比較例と同様の液体潤滑剤を用いて膜厚約２
ｎｍの潤滑層６を形成して磁気記録媒体を得た。

上記の磁気記録媒体を用いて比較例と同様な手法で磁気
特性を評価した。Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトヘッドを
用いて記録・再生特性を評価したところ、円周方向の出
力は１００％〜８０％で変動が小さく、比較例の磁気記
録媒体に比べて優れたものであった。さらに、トルクメ
ータにより磁性膜の円周方向の磁気異方性を測定したと
ころ、スパッタ装置内の搬送方向、速度に影響されず、
面内の磁気異方性が非常に小さいことがわかった。

基板を搬送しながらスパッタ装置内で磁性膜を形成する
方式において、磁性膜の円周方向での磁気異方性を小さ
くするのに効果があるのは、円周方向に微小な溝を形成
させた基板であり、それ以外の場合、例えばランダムな
方向の溝を持つ基板や基板面の表面粗さが小さい基板を
用いた場合には、磁性膜の形成過程で基板の搬送方向に
影響された磁気異方性が発生することが判明した。

さらに、上記の磁気記録媒体を用いて、上記の磁気ヘッ
ドによりＣ８Ｓ試験を行ったところ、初期接線力は２ｇ
以下と小さく、また３万回のＣ８Ｓ試験後も媒体表面に
は目視で確認できるキズは認められず、実用に十分な耐
摺動性を有していることがわかった。

（実施例２） 基板１は５．２５’φのＡ１合金（不純物のＳｉ、Ｆｅ
等の濃度を低下させたもの）を用い、あらかじめ所定の
加速度及び真直度になるように加工し、表面はダイヤモ
ンド旋盤で加工した。ダイヤモンド旋盤加工の代りにボ
リシング加工したものでもよい。上記の基板を用いて、
実施例１と同様のスパッタリング装置によりＳｉＯ２（
１０ｗｔ％）　／　Ｓ　ｉ　Ｃ複合ターゲットを用い、
基板温度約１５０℃、Ａｒ圧１０ｍＴｏｒｒで膜厚約２
．５ｐｍに下地膜２を形成した。上記工程の後、次に示
す方法により、上記下地膜表面の微細加工を行った。

すなわち、上記の下地膜２が形成された基板を回転（１
０ｒｐｍ）させながら、その表面にイオン源から放射さ
れるＡｒ＋イオンビーム（加速電圧７００Ｖ、３００ｍ
Ａ）を照射し、−Ｆ配下地膜表面に円周方向に微小な溝
を形成させた。同条件で加工した基板サンプルを抜き出
し、その表面を走査型顕微鏡でａ祭したところ、上記の
下地膜表面には円周方向に沿った微小な溝が形成されて
いるのが観察され、表面粗さは中心線粗さで約１０ｎｍ
であった。実際の磁気記録媒体の製造工程では、上記の
下地膜２形成、表面加工、及び磁性膜４等の成膜工程を
真空下で一連の製造装置内で行うことができる。磁性膜
等の製造条件及び各層の構成は実施例１と同じである。

上記で形成した磁気記録媒体は、実施例１と同様に円周
方向の電気的出力の変動が少なく、また、初期接線力も
２ｇ以下で高性能の磁気記録媒体であった。

（実施例３） 基板１として５．２５’φの表面強化ガラス基板を用い
た。上記の基板の表面をＡ１□０．砥粒により加工し、
表面に円周方向の溝を形成させ、表面粗さは中心線平均
粗さで約ｌｌｎｍ以下になるように制御した。上記基板
の場合は、Ａ１合金基板とは異なり、表面効果層は不要
で、第５図に示すように、上記の表面加工の後、実施例
４と同様のスパッタ装置で基板を移動させながら連続的
に中間膜（Ｃｒ）３、磁性膜４、Ｃ保護膜５と順次形成
された。各層の成膜条件、膜厚は実施例１と同じとした
。上記の成膜の後、実施例１と同様に潤滑Ｎ６を形成さ
せた。

上記磁気記録媒体の特性を実施例１と同様の方法で検査
したところ、円周方向の信号出力の変動が少なく、磁性
層の磁気異方性も少なかった。また、初期接線力も２ｇ
以下でＣ８Ｓ試験性能も優れ、耐慴動性能も良好であっ
た。

第１表に、比較例と、実施例１〜３につき、磁性層形成
前の面の中心線平均粗さと凹凸の方向性、ディスク型で
ある磁気記録媒体の信号出力が最大である円周方向の点
の出力を１００としたとき、その円周上での出力の変動
範囲、および初期接線力をそれぞれ示した。

第２図に本発明になるディスク型磁気記録媒体１１を装
着した磁気記録装置の一例の要部を示す。

ディスク回転手段１５により一括回転されるそれぞれの
ディスク型磁気記録媒体に対して磁気ヘッド１２が個別
に設けられ、各磁気ヘッドは磁気ヘッド駆動手段１４に
より、−括恥動される。磁気記録媒体面に形成された円
周方向に沿う溝は、磁気ヘッド１２のスライダー面との
間に、磁気ヘッド１２が磁気記録媒体１１と接触してい
る状態において空隙を形成し、磁気記録媒体の回転開始
時に、磁気ヘッドスライダ−面との間に生ずる接線力を
低減する。

第３図は、磁気ヘッドスライダ−面に形成された凹凸の
例を示す。磁気ヘッドスライダ−面に形成される凹凸は
、方向性を要しないから、第３図のように方向性のない
ものであっても、あるいは磁気ヘッドの進行に沿った溝
、もしくは交差した溝があってもよい。この凹凸の粗さ
は、中心線平均粗さで表して５〜１５ｎｍの範囲とする
のが好ましい。スライダー面にこのような凹凸を設けた
磁気ヘッドを用いることにより、円周方向に沿う溝を備
えていないディスク型磁気記録媒体を備えた磁気記録装
置においても、磁気記録媒体面と磁気ヘッドが接触して
いる状態でその間に制御された空隙が形成され、磁気記
録装置の操作開始時に、磁気記録媒体面と磁気ヘッドス
ライダ−面との間に生ずる初期接線力が低減された。

〔発明の効果〕

ディスク型磁気記録媒体と磁気ヘッドが接触した状態に
おいて、前記媒体と前記磁気ヘッドの間に制御された空
隙を設け、かつその空隙を前記磁気記録媒体面に円周方
向に沿って設けた溝としたので、磁気記録媒体の円周方
向の出力変動を低減すると同時に、磁気ヘッドと前記媒
体間に生ずる初期接線力を低減することが可能となり、
高密度磁気記録再生に際して磁気記録媒体および装置の
耐用寿命を延長する効果がある。

基板上に形成される溝の中心線平均粗さが２〜１１００
ｎとされたので、磁気ヘッドの浮上量が大きくなりすぎ
て高記録密度化の支障となることがなく、また溝が浅す
ぎて、磁気記録媒体の円周方向の信号出力の変動が大き
くなることもなく、磁気記録媒体および装置を効率的に
動作させる効果がある。

表面硬化層に円周方向に沿う溝を形成しても、基板上に
溝を形成したものと同様の効果が得られる。

磁気ヘッドとディスク型スライダー面が接触した状態に
おいて両者の間に形成される空隙を、磁気ヘッドスライ
ダ−面に形成すると、円周方向に沿った溝を形成してい
ないディスク型磁気記録媒体を装着した磁気記録装置に
おいても、初期接線力を低減し、装置の寿命を延長する
効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である磁気記録媒体の面に形
成された溝の概念を示す部分平面図、第２図は本発明の
他の実施例である磁気記録装置の要部を示す断面図、第
３図は本発明の更に他の実施例である磁気ヘッドスライ
ダ−面に形成された凹凸の概念を示す平面図、第４図お
よび第５図は、磁気記録媒体の積層状態を示す断面図、
第６図および第７図は、本発明に係る磁気記録媒体の裏
作手順の例を示す手順図である。 １・・・基板、２・・・表面硬化層（下地層）、３・・
・中間層、４・・・磁性層、１１・・・ディスク型磁気
記録媒体、１２・・・磁気ヘッド。 第　１　図 第２図 １屯 ＠３　図 第　４　図 第６図 第５ｔ２！ 第７７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ディスク型磁気記録媒体と該磁気記録媒体の記録内
   容を記録・再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録装置
   において、前記磁気記録媒体と前記磁気ヘッドのスライ
   ダー面とが接触している状態で、前記磁気記録媒体面と
   前記磁気ヘッドのスライダー面との間に制御された空隙
   が形成され、該空隙が前記磁気記録媒体面にその円周方
   向に沿って形成されていることを特徴とする磁気記録装
   置。 ２、基板上に円周方向の溝が形成されていることと、該
   基板の半径方向の断面における前記溝の中心線平均粗さ
   が２〜１００ｎｍであること特徴とする磁気記録媒体。 ３、基板上に表面硬化層が形成され、該表面硬化層を蔽
   う磁性層が形成されていることを特徴とする請求項２に
   記載の磁気記録媒体。 ４、基板の材質が、アルミニウム合金、ガラス、セラミ
   ックス、およびポリイミドのなかのいずれかひとつ以上
   を複合したものであることを特徴とする請求項２に記載
   の磁気記録媒体。 ５、表面硬化層上に磁性層の結晶配向性層が形成されて
   いることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体。 ６、基板上に表面硬化層が形成されていることと、該表
   面硬化層に円周方向の溝が形成されていることと、該表
   面硬化層の半径方向の断面における前記溝の中心線平均
   粗さが２〜１００ｎｍであること特徴とする磁気記録媒
   体。 ７、ディスク型磁気記録媒体と該磁気記録媒体の記録内
   容を記録・再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録装置
   において、前記磁気記録媒体と前記磁気ヘッドのスライ
   ダー面とが接触している状態で、前記磁気記録媒体面と
   前記磁気ヘッドのスライダー面との間に制御された空隙
   が形成され、該空隙が前記磁気ヘッドのスライダー面に
   形成されていること特徴とする磁気記録装置。 ８、スライダー面に凹凸が設けられ、該スライダー面に
   垂直な任意の方向の断面における前記凹凸の中心線平均
   粗さが５〜１５ｎｍであることを特徴とする磁気ヘッド
   。