JPS5885923A - 磁気記録体 - Google Patents
磁気記録体Info
- Publication number
- JPS5885923A JPS5885923A JP56184808A JP18480881A JPS5885923A JP S5885923 A JPS5885923 A JP S5885923A JP 56184808 A JP56184808 A JP 56184808A JP 18480881 A JP18480881 A JP 18480881A JP S5885923 A JPS5885923 A JP S5885923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating layer
- magnetic
- magnetic recording
- alloy plating
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7371—Non-magnetic single underlayer comprising nickel
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7369—Two or more non-magnetic underlayers, e.g. seed layers or barrier layers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記憶装置に用いられる磁気ディスク等の磁
気記録体に関する。
気記録体に関する。
近年、高密度磁気記鋒体として、磁性薄膜がめつき法に
より作製されためつき磁気ディスクが用いられ始めた。
より作製されためつき磁気ディスクが用いられ始めた。
このめりき磁気ディスクは磁性薄膜をめりきする場合、
その磁気特性と表面状態の均一性が下地基板の影響を強
く受け、しばしば電磁変換特性の低下を招いている。
その磁気特性と表面状態の均一性が下地基板の影響を強
く受け、しばしば電磁変換特性の低下を招いている。
この様な下地基板の影響な断ち切り磁気特性と表面均一
性の優れた磁性薄膜を得るためには、磁性薄膜と下地研
磨面との間に中間層を設ける方法が用いられてきた。
性の優れた磁性薄膜を得るためには、磁性薄膜と下地研
磨面との間に中間層を設ける方法が用いられてきた。
通常下地基板としては圧延後旋削加工されたアルミ合金
素板上にニッケル合金めりきを施し、更にこのニッケル
合金めっ館層を研磨したものが用いられる。この上に形
成する中間層としては従来ニッケルーリンめりき膜が用
いられることが多く、これによって下地研磨面の鋭い研
磨軌跡凹凸が緩和されその上に形成される磁性薄膜の磁
気特性向上に寄与している。ところがニッケルーリンめ
っき膜は下地研磨面とほぼ同質のニッケル合金めっき膜
であるため、アルミ合金素板が受けた圧延、旋削等の加
工歪の影響を受は継ぎ、磁性めっき膜の表面均一性に影
響を及ぼす。即ち、圧延、旋削等の加工歪の大きい場合
には著しいＳ／Ｎの低下を招くことになる。
素板上にニッケル合金めりきを施し、更にこのニッケル
合金めっ館層を研磨したものが用いられる。この上に形
成する中間層としては従来ニッケルーリンめりき膜が用
いられることが多く、これによって下地研磨面の鋭い研
磨軌跡凹凸が緩和されその上に形成される磁性薄膜の磁
気特性向上に寄与している。ところがニッケルーリンめ
っき膜は下地研磨面とほぼ同質のニッケル合金めっき膜
であるため、アルミ合金素板が受けた圧延、旋削等の加
工歪の影響を受は継ぎ、磁性めっき膜の表面均一性に影
響を及ぼす。即ち、圧延、旋削等の加工歪の大きい場合
には著しいＳ／Ｎの低下を招くことになる。
ところで上記の様な加工歪の影響を速断する金属として
パラジウムが知られている。ところが、これを中間層に
適用した場合には、その上に形成される磁性薄膜の磁気
特性の低下を招くため出力が著しく減少するという問題
を生じる。即ち、現在のところ下地基板の影響を断ち切
り高出力かつ低ノイズの要求を共に満たす中間層は見い
出されていない。
パラジウムが知られている。ところが、これを中間層に
適用した場合には、その上に形成される磁性薄膜の磁気
特性の低下を招くため出力が著しく減少するという問題
を生じる。即ち、現在のところ下地基板の影響を断ち切
り高出力かつ低ノイズの要求を共に満たす中間層は見い
出されていない。
本発明の目的は、これらの問題点を改善して高出力かつ
低ノイズの高密度磁気記録体を提供することにある。
低ノイズの高密度磁気記録体を提供することにある。
本発明による磁気記録体は、非磁性基板と、この基板を
被覆するニッケル合金めっき層と、このニッケル合金め
つき層を被覆するコバルト合金めっき層と、このコバル
ト合金めりき層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体
において、非磁性基板とニッケル合金めりき層の間にパ
ラジウムめりき層を設けたことを特徴としており、磁性
薄膜の磁気特性を保ちながら下地基板の影響を遮断し、
低ノイズかつ高出力を達成できる。
被覆するニッケル合金めっき層と、このニッケル合金め
つき層を被覆するコバルト合金めっき層と、このコバル
ト合金めりき層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体
において、非磁性基板とニッケル合金めりき層の間にパ
ラジウムめりき層を設けたことを特徴としており、磁性
薄膜の磁気特性を保ちながら下地基板の影響を遮断し、
低ノイズかつ高出力を達成できる。
次に本発明の実施例について図面を参照に説明する。
はじめに１本発明による磁気記録体による特徴を比較例
および実施例により、説明する。
および実施例により、説明する。
比較例
アルミ合金圧延板よりプレスにて打抜いたドーナツ状円
板を旋削加工により表面を平坦かつ平滑に仕上げアルζ
合金素板とする。この上に無電解ニッケルーリンめっき
液（日本カニゼン社製、シ為−マーＢＯ）を用いて膜厚
３０声ｍのニッケルーリンめっき膜を形成した。この両
面を機械加工により鏡藺研磨し、第１図に示されるごと
く非磁性基板１を得た。次にこの非磁性基板上に無電解
ニッケルーリンめっき液を用いて膜厚０．３μｍのニッ
ケル合金めっき層２を形成した後、下記に示すメッキ浴
にて膜厚０．０８μｍのコバルト合金めっき層３を形成
した。
板を旋削加工により表面を平坦かつ平滑に仕上げアルζ
合金素板とする。この上に無電解ニッケルーリンめっき
液（日本カニゼン社製、シ為−マーＢＯ）を用いて膜厚
３０声ｍのニッケルーリンめっき膜を形成した。この両
面を機械加工により鏡藺研磨し、第１図に示されるごと
く非磁性基板１を得た。次にこの非磁性基板上に無電解
ニッケルーリンめっき液を用いて膜厚０．３μｍのニッ
ケル合金めっき層２を形成した後、下記に示すメッキ浴
にて膜厚０．０８μｍのコバルト合金めっき層３を形成
した。
メッキ浴
硫酸；パルト ０．０６ ｍｏ １ ／／硫酸ニ
ッケル ０．１０ｍｏｌ／／次亜リン酸ナトリウ
ム ０．２０ ＃硫酸アンモニウム ０．１０
＃マロン酸ナトリウム ０．３０ １ リンゴ酸ナトリウム ０．４０ １ ｐＨ−９
，２コハク酸ナトリウム ０．５０ ＃ 浴
温８０℃更にこの上に膜厚０．１声ｍの保護膜４を形成
した。
ッケル ０．１０ｍｏｌ／／次亜リン酸ナトリウ
ム ０．２０ ＃硫酸アンモニウム ０．１０
＃マロン酸ナトリウム ０．３０ １ リンゴ酸ナトリウム ０．４０ １ ｐＨ−９
，２コハク酸ナトリウム ０．５０ ＃ 浴
温８０℃更にこの上に膜厚０．１声ｍの保護膜４を形成
した。
こうして得られた磁気記録体を下記の条件で記録再生特
性の測定を行９たところ記録密度６３０ＦＲＰＭ（１６
，０ＯＯＦＲＰＩ）Ｋて０．ｇｔｎＶｐ−ｐの再生出力
があったが、８０．／Ｎ、ｍ−１３６ｄＢでありた。こ
の磁気記録体の磁気特性の測定を行ったところ曳−６１
００，であった。
性の測定を行９たところ記録密度６３０ＦＲＰＭ（１６
，０ＯＯＦＲＰＩ）Ｋて０．ｇｔｎＶｐ−ｐの再生出力
があったが、８０．／Ｎ、ｍ−１３６ｄＢでありた。こ
の磁気記録体の磁気特性の測定を行ったところ曳−６１
００，であった。
測定条件
ディスク回転数： ３，０００ｒｐｍ使用トラック：
直径１２＆６ｍ 使用ヘラ ド： トラック巾１８．５μｍ、ギャップ長
１μｍ、コイル巻数１６＋１６ ヘツド浮上量：０．２μｍ 記録電流：４０社、−９ 比較例２ 比較例１と同様の手順で磁気記録体を作製したが、本比
較例では非磁性基板上にニッケルーリン合金めっき層２
のかわりに第２図に示されるごとく下記のめりき液及び
めりき条件にて膜厚０．１μｍのパラジウムめっき層５
を形成した。
直径１２＆６ｍ 使用ヘラ ド： トラック巾１８．５μｍ、ギャップ長
１μｍ、コイル巻数１６＋１６ ヘツド浮上量：０．２μｍ 記録電流：４０社、−９ 比較例２ 比較例１と同様の手順で磁気記録体を作製したが、本比
較例では非磁性基板上にニッケルーリン合金めっき層２
のかわりに第２図に示されるごとく下記のめりき液及び
めりき条件にて膜厚０．１μｍのパラジウムめっき層５
を形成した。
めっき液
パラジウムめっき液 ｐｄ−００２（日本エンゲルハル
ト社） めりき条件 温度８２８℃ ｐＨ： ７．５ 電流密度： ０．６Ａ／ｄ＆ メッキ時間：５０秒 こうして得られた磁気記録体の記録再生特性を比較例１
と同条件で測定を行ったところ８．、／Ｎ闇は３８ｄＢ
と向上していたが、出力は０．５ｍＶｐ −ｐと著しく
減少していた。この磁気記録体の磁気特性の測定を行っ
たところＨｃは４０００ｅ Ｋ低下していた。
ト社） めりき条件 温度８２８℃ ｐＨ： ７．５ 電流密度： ０．６Ａ／ｄ＆ メッキ時間：５０秒 こうして得られた磁気記録体の記録再生特性を比較例１
と同条件で測定を行ったところ８．、／Ｎ闇は３８ｄＢ
と向上していたが、出力は０．５ｍＶｐ −ｐと著しく
減少していた。この磁気記録体の磁気特性の測定を行っ
たところＨｃは４０００ｅ Ｋ低下していた。
実施例
比較例１と同様の手順で磁気記録体を作製したが、本実
施例では第３図に示されるごとく非磁性基板１上に膜厚
０．１μｍのパラジウムめっき層５と膜厚０．３μｍの
ニッケル合金めっき層２を形成した後コバルト合金めり
き層３を形成した。
施例では第３図に示されるごとく非磁性基板１上に膜厚
０．１μｍのパラジウムめっき層５と膜厚０．３μｍの
ニッケル合金めっき層２を形成した後コバルト合金めり
き層３を形成した。
こうして得られた磁気記骨休の記録再生特性を比較例１
と同条件で測定を行ったところ、８ｏ−ｐ／Ｎ、ｍ、は
４０ｄＢＫ改善され、出力も０．８ｍＶ、−、ト比較例
゛と同じ値であった。この磁気記録体の磁気特性を行っ
たところＨｃが６１５０ｓ であり比較例１の場合とほ
ぼ同じ値を示した。
と同条件で測定を行ったところ、８ｏ−ｐ／Ｎ、ｍ、は
４０ｄＢＫ改善され、出力も０．８ｍＶ、−、ト比較例
゛と同じ値であった。この磁気記録体の磁気特性を行っ
たところＨｃが６１５０ｓ であり比較例１の場合とほ
ぼ同じ値を示した。
以上、比較例及び実施例で示されたように本発明によれ
ば、非磁性基板と、この基板を被覆するニッケル合金め
つき層と、このニッケル合金めりき層を被覆するコバル
ト合金めっき層と、このコバルト合金めりき層を被覆す
る保護膜とからなる磁気記録体において非磁性基板とニ
ッケル合金めっき層の間にパラジウムめうき層を設ける
ことＫより、再生出力の低下を招くことなしに８／Ｎの
改善がはかれる。
ば、非磁性基板と、この基板を被覆するニッケル合金め
つき層と、このニッケル合金めりき層を被覆するコバル
ト合金めっき層と、このコバルト合金めりき層を被覆す
る保護膜とからなる磁気記録体において非磁性基板とニ
ッケル合金めっき層の間にパラジウムめうき層を設ける
ことＫより、再生出力の低下を招くことなしに８／Ｎの
改善がはかれる。
第１図および第２図はそれぞれ比較例１および比較例２
による磁気記録体の断面を示す図、第３図は本発明の実
施例による磁気記録体の断面を示す図である。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・ニッケル合
金めっき層、３・・・・・・コバルト合金めっき層、４
・・・・・・保護膜５・・・・・・パラジウムめっき層
による磁気記録体の断面を示す図、第３図は本発明の実
施例による磁気記録体の断面を示す図である。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・ニッケル合
金めっき層、３・・・・・・コバルト合金めっき層、４
・・・・・・保護膜５・・・・・・パラジウムめっき層
Claims (1)
- 非磁性基板と、この基板を被覆するニッケル合金めっき
層と、このニッケル合金めりき層を一被覆するコバルト
合金めっき層を被覆するコバルト合金めっき層と、この
コバルト合金層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体
において、非磁性基板とニッケル合金めりき層間にパラ
ジウムめりき層を設けたことを特徴とする磁気記録体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56184808A JPS5885923A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | 磁気記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56184808A JPS5885923A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | 磁気記録体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5885923A true JPS5885923A (ja) | 1983-05-23 |
Family
ID=16159647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56184808A Pending JPS5885923A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | 磁気記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5885923A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0280438A2 (en) * | 1987-02-25 | 1988-08-31 | Komag, Inc. | Method for manufacturing a magnetic disk and the resulting disk |
| US5153044A (en) * | 1987-02-25 | 1992-10-06 | Komag, Inc. | Magnetic disk for longitudinal recording comprising an amorphous intermediate layer |
-
1981
- 1981-11-18 JP JP56184808A patent/JPS5885923A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0280438A2 (en) * | 1987-02-25 | 1988-08-31 | Komag, Inc. | Method for manufacturing a magnetic disk and the resulting disk |
| US5153044A (en) * | 1987-02-25 | 1992-10-06 | Komag, Inc. | Magnetic disk for longitudinal recording comprising an amorphous intermediate layer |
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