JPS5857624A - 磁気記録体 - Google Patents
磁気記録体Info
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- JPS5857624A JPS5857624A JP56156687A JP15668781A JPS5857624A JP S5857624 A JPS5857624 A JP S5857624A JP 56156687 A JP56156687 A JP 56156687A JP 15668781 A JP15668781 A JP 15668781A JP S5857624 A JPS5857624 A JP S5857624A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/672—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having different compositions in a plurality of magnetic layers, e.g. layer compositions having differing elemental components or differing proportions of elements
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記憶装置に用いられる磁気ディスク等の磁
気記録体にかかる。
気記録体にかかる。
近年、高密度磁気記録体として、磁性薄膜がめつき法に
より作製されためつき磁気ディスクが用いられ始めた。
より作製されためつき磁気ディスクが用いられ始めた。
磁性薄膜をめっき法により形成する場合、その磁気特性
と表面状態の均一性は下地遅板の影響を強く受＃Ｊ１シ
ばしば電ｍ変換特性の低下を招いている。
と表面状態の均一性は下地遅板の影響を強く受＃Ｊ１シ
ばしば電ｍ変換特性の低下を招いている。
この４；ｌｉ ’ｆ、ｒ下地基板の影響を断ち切り研気
％ヂ１と表１１１均一性の優れた但４／１薄膜を得るた
めに、磁性薄膜と下地ｒｉｌｌ磨而との面に中間層を設
ける方法が用いられてきた。
％ヂ１と表１１１均一性の優れた但４／１薄膜を得るた
めに、磁性薄膜と下地ｒｉｌｌ磨而との面に中間層を設
ける方法が用いられてきた。
通常下地基鈑としてはハ帆後旋削加」二されたアルミ合
金水板−１−にニッケル合金めっきを施し、更にこのニ
ッケル合金めっき層を研磨したものが用いられる。この
十に形成する中間層としては従来ニッケルーリンめっき
膜が用いられることが寥くこれによって下地ｉｌｌ磨面
の鋭い細動軌跡凹凸が緩第１１されそのＪｌこ形成され
る磁性薄膜の磁気特性向上に寄与している。ところがニ
ッケルーリンめっき膜は下地仙磨面とばば同質のニッケ
ル合金めっき膜でＩ）るため、アルミ合金木板が受けた
圧延、旋削等の加工歪の影響を受＋７）継ぎ、磁性めっ
き膜の表面均一＋′ｊ、 ｉこ影響を及ぼす。即ち、圧
延、旋削等の加工歪の大きい場合には着しいがの低下を
招くことになる。
金水板−１−にニッケル合金めっきを施し、更にこのニ
ッケル合金めっき層を研磨したものが用いられる。この
十に形成する中間層としては従来ニッケルーリンめっき
膜が用いられることが寥くこれによって下地ｉｌｌ磨面
の鋭い細動軌跡凹凸が緩第１１されそのＪｌこ形成され
る磁性薄膜の磁気特性向上に寄与している。ところがニ
ッケルーリンめっき膜は下地仙磨面とばば同質のニッケ
ル合金めっき膜でＩ）るため、アルミ合金木板が受けた
圧延、旋削等の加工歪の影響を受＋７）継ぎ、磁性めっ
き膜の表面均一＋′ｊ、 ｉこ影響を及ぼす。即ち、圧
延、旋削等の加工歪の大きい場合には着しいがの低下を
招くことになる。
ところで上記の様な加工歪の影響を遮断する金属として
白金が知られている。ところが、これを中間層に適用し
た場合、その上に形成される磁性薄膜の磁気特性の低下
を招くため出力が著しく減少するという問題を生じる。
白金が知られている。ところが、これを中間層に適用し
た場合、その上に形成される磁性薄膜の磁気特性の低下
を招くため出力が著しく減少するという問題を生じる。
即ち、現在のところ下地基板の影響を断ち切り高出力か
つ低ノイズの要求を共に満たす中間層は見い出されてい
ない。
つ低ノイズの要求を共に満たす中間層は見い出されてい
ない。
本発明の目的は、これらの問題点を改善して高出力かつ
低ノイズの高密度磁気記録体を提供することにある。
低ノイズの高密度磁気記録体を提供することにある。
本発明による磁気記録体は、非磁性基板と、この基板を
被覆するニッケル合金めっき層さ、このニッケル合金め
っき層を被覆するコバルト合金めっき層と、このコバル
ト合金めっき層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体
において、非磁性基板とニッケル合金めっき層の間に白
金めっき屑を設けたことを特徴としており、磁性薄膜の
磁気特性を保ちながら下地基板の影響を遮断し、低ノイ
ズかつ高出力を達成できる。
被覆するニッケル合金めっき層さ、このニッケル合金め
っき層を被覆するコバルト合金めっき層と、このコバル
ト合金めっき層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体
において、非磁性基板とニッケル合金めっき層の間に白
金めっき屑を設けたことを特徴としており、磁性薄膜の
磁気特性を保ちながら下地基板の影響を遮断し、低ノイ
ズかつ高出力を達成できる。
以下、本発明による磁気記録体の特長を比較例七よび実
施例により説明する。
施例により説明する。
比較例１゜
アルミ合金圧延板よりプレスにて打抜いたドーナツ状円
板を旋削加工により表面を平坦かつ平滑に仕上げアルミ
合金素板とする。この上に無電解ニッケルーリンめっき
液（日本カニゼン社製、シュー７−ＢＯ）を用いてｇ￥
原原註０μＩｎニッケルーリンめっき膜を形成した。こ
の両面を機械加工により鏡面研磨し、第１図に示される
ごとく非磁性基板１を得た。次にこの非磁性基板上に無
電解ニッケルーリンめっき液を用いて膜厚０３μｍのニ
ッケル合金めっき層２を形成した後、下記に示すメッキ
浴にて月り厚００８μｍのコバルト合金めっき層３を形
成した。
板を旋削加工により表面を平坦かつ平滑に仕上げアルミ
合金素板とする。この上に無電解ニッケルーリンめっき
液（日本カニゼン社製、シュー７−ＢＯ）を用いてｇ￥
原原註０μＩｎニッケルーリンめっき膜を形成した。こ
の両面を機械加工により鏡面研磨し、第１図に示される
ごとく非磁性基板１を得た。次にこの非磁性基板上に無
電解ニッケルーリンめっき液を用いて膜厚０３μｍのニ
ッケル合金めっき層２を形成した後、下記に示すメッキ
浴にて月り厚００８μｍのコバルト合金めっき層３を形
成した。
メッキ３谷
ｏｌ
硫酸コバルト ０．０６ ／。
硫酸ニッケル Ｏ，ｉｏ 〃
次亜リン酸ナト１１ウム ０．２０ 〃硫酸アンモニ
ウム ０１０ 〃 マロン酸ナトリウム ０３０ 〃 ｌＬンコＲＨ−）＋Ｊｒ）ム０．４０””／ｌ Ｐ
Ｈ−９，２コハク酸ナトリウム ０．５０ Ｉ
浴温 ８０℃更にこの上に膜厚０１μｍの保霞膜４を
形成したこうして得られた磁気記録体を下記の条件で記
録再生特性の測定を行ったところ記録密度６３０ＦＲ，
ＰＭ（１６，０ＯＯＦＩＬＰＩ）にて０．８ ｍ ’Ｖ
Ｐ Ｐの再生出力があったが、Ｓｏ”’−”Ｎ１ｍ８
は３６ｄＢであった。
ウム ０１０ 〃 マロン酸ナトリウム ０３０ 〃 ｌＬンコＲＨ−）＋Ｊｒ）ム０．４０””／ｌ Ｐ
Ｈ−９，２コハク酸ナトリウム ０．５０ Ｉ
浴温 ８０℃更にこの上に膜厚０１μｍの保霞膜４を
形成したこうして得られた磁気記録体を下記の条件で記
録再生特性の測定を行ったところ記録密度６３０ＦＲ，
ＰＭ（１６，０ＯＯＦＩＬＰＩ）にて０．８ ｍ ’Ｖ
Ｐ Ｐの再生出力があったが、Ｓｏ”’−”Ｎ１ｍ８
は３６ｄＢであった。
この磁気記録体の磁気特性の測定を行ったところＨｃ＝
６１００ｅで？ｆ１つだ。
６１００ｅで？ｆ１つだ。
測定条件
ディスク同転数 ３，０００ ｒｐｍ使用トラッ
ク 直径１２５６酊使用ヘツド ：
トラック巾 １８，５μｍ１ギヤツプ長 １μｍ１ コイル巻数 １６ ＋ １（ｉ ヘッド浮上量 二 ０２μｍ 記録電流 ： ４０ｍＡＰ−Ｐ 比較例２゜ 比較例１．と同様の手肥で磁気記録体を作製したが、本
比較例では非磁性基板上に二、ケル−リン ５− 合金めっき層２のかわりに第２図に示されるごとく下記
のめっき液及びめっき条件にて膜厚０１μｍの白金めっ
き層５を形成した。
ク 直径１２５６酊使用ヘツド ：
トラック巾 １８，５μｍ１ギヤツプ長 １μｍ１ コイル巻数 １６ ＋ １（ｉ ヘッド浮上量 二 ０２μｍ 記録電流 ： ４０ｍＡＰ−Ｐ 比較例２゜ 比較例１．と同様の手肥で磁気記録体を作製したが、本
比較例では非磁性基板上に二、ケル−リン ５− 合金めっき層２のかわりに第２図に示されるごとく下記
のめっき液及びめっき条件にて膜厚０１μｍの白金めっ
き層５を形成した。
めっき液
白金めっき液 Ｐｔ−７４５（日本エンゲルハルト社
）めっき条件 温 度 ： ７７℃ ＰＨ：１２．５ 電流密度 ： ０．８Ａ／ｄｎｌ’ めっき時間 ： ６０秒 こうして得られた磁気記録体の記録拘止Ｑ４１性を比較
例１．と同条件で測定を行ったところ８０−ｐ／Ｎｒｆ
ｒｌｓは３９ ｄＢ と向上していたが、出力はｏ、
５ ｍ Ｖ ｐ ｐと著しく減少していた。この磁
気記録体の磁気特性の測定を行ったところＨｅは３９０
Ｑｅ に低下していた。
）めっき条件 温 度 ： ７７℃ ＰＨ：１２．５ 電流密度 ： ０．８Ａ／ｄｎｌ’ めっき時間 ： ６０秒 こうして得られた磁気記録体の記録拘止Ｑ４１性を比較
例１．と同条件で測定を行ったところ８０−ｐ／Ｎｒｆ
ｒｌｓは３９ ｄＢ と向上していたが、出力はｏ、
５ ｍ Ｖ ｐ ｐと著しく減少していた。この磁
気記録体の磁気特性の測定を行ったところＨｅは３９０
Ｑｅ に低下していた。
実施例
比較例１．と同様の手順で磁気記録体を作製したが、本
実施例では第３図に示されるごとく非磁性へ６一 基板１上に膜厚０１μｍの白金めつき層５と膜厚０３μ
ｍのニッケル合金めっき＃２を形成した後コバルト合金
めっき層３を形成した。
実施例では第３図に示されるごとく非磁性へ６一 基板１上に膜厚０１μｍの白金めつき層５と膜厚０３μ
ｍのニッケル合金めっき＃２を形成した後コバルト合金
めっき層３を形成した。
こうして得られた磁気記録体の記録再生特性を比較例１
と同条件で測定を行ったところ ５ｏ−１）／Ｎｒｍｓ
は４０ ｄＢに改善され、出力も０．８ｍＶ、、と比較
例と同じ値であった。この磁気記録体の磁気特性の測定
を行ったところＨｅが６０５Ｑｅであり比較例１の場合
とほぼ同じ飴を示した。
と同条件で測定を行ったところ ５ｏ−１）／Ｎｒｍｓ
は４０ ｄＢに改善され、出力も０．８ｍＶ、、と比較
例と同じ値であった。この磁気記録体の磁気特性の測定
を行ったところＨｅが６０５Ｑｅであり比較例１の場合
とほぼ同じ飴を示した。
以上、比較例及び実施例で示されたように本発明によれ
ば、非磁性基板と、この基板を被覆するニッケル合金め
っき層と、このニッケル合金めっき層を被覆するコバル
ト企金めつき層と、このコバルト合金めっき層を被覆す
る保験膜とからなる磁気記録体において非磁性基板とニ
ッケル合金めっき層の間に白金めっき層を設けることに
より、再生出力の低下を招くことなしに％ の改善がは
かれる。
ば、非磁性基板と、この基板を被覆するニッケル合金め
っき層と、このニッケル合金めっき層を被覆するコバル
ト企金めつき層と、このコバルト合金めっき層を被覆す
る保験膜とからなる磁気記録体において非磁性基板とニ
ッケル合金めっき層の間に白金めっき層を設けることに
より、再生出力の低下を招くことなしに％ の改善がは
かれる。
比較例２及び実施例で用いた磁気記録体の断面図である
。 １ 非磁性基板 ２ ニッケル合金めっき層 ３、 コバルト合金めっき層 ４ 保 護 膜 、５． 白金めっき層
。 １ 非磁性基板 ２ ニッケル合金めっき層 ３、 コバルト合金めっき層 ４ 保 護 膜 、５． 白金めっき層
Claims (1)
- 非磁性基板と、この基板を被接するニッケル合金めっき
層と、このニラうル侶金めつき層を被覆するコバルト合
金めっき層を被覆するコバルト合金めっき層と、このコ
バルト合金層を被覆する保護膜とからなる磁気記録体に
おいて、非磁性基板とニッケル合金めっきＩ−間に白金
めつき層を設けたことを％徽とする磁気記録体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56156687A JPS5857624A (ja) | 1981-10-01 | 1981-10-01 | 磁気記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56156687A JPS5857624A (ja) | 1981-10-01 | 1981-10-01 | 磁気記録体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5857624A true JPS5857624A (ja) | 1983-04-05 |
Family
ID=15633127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56156687A Pending JPS5857624A (ja) | 1981-10-01 | 1981-10-01 | 磁気記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857624A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6393450U (ja) * | 1986-12-08 | 1988-06-16 | ||
| JPH0590075U (ja) * | 1992-05-08 | 1993-12-07 | 三菱電機株式会社 | 通気用複層管 |
-
1981
- 1981-10-01 JP JP56156687A patent/JPS5857624A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6393450U (ja) * | 1986-12-08 | 1988-06-16 | ||
| JPH059477Y2 (ja) * | 1986-12-08 | 1993-03-09 | ||
| JPH0590075U (ja) * | 1992-05-08 | 1993-12-07 | 三菱電機株式会社 | 通気用複層管 |
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