JPS6032891B2 - 高記録密度磁気ディスクの製造法 - Google Patents
高記録密度磁気ディスクの製造法Info
- Publication number
- JPS6032891B2 JPS6032891B2 JP1846378A JP1846378A JPS6032891B2 JP S6032891 B2 JPS6032891 B2 JP S6032891B2 JP 1846378 A JP1846378 A JP 1846378A JP 1846378 A JP1846378 A JP 1846378A JP S6032891 B2 JPS6032891 B2 JP S6032891B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- copper
- tin alloy
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、高記録密度磁気ディスクの製造法に関する。
〔発明の背景〕従来、高記録密度めつき磁気ディスクは
、アルミニウム合金基体表面を亜鉛置換処理して亜鉛置
換処理層を設け、この処理層上に電気鋼めつきにより銅
層を設け、この銅層上に電気スズーニッケル合金めつき
によりスズーニッケル合金層を設け、このニッケルース
ズ合金層を機械研摩により平坦かつ平滑な面とし、この
平坦かつ平滑面上にめつきにより、磁性層を設け、この
磁性層上に保護層を設けて製造していた。
、アルミニウム合金基体表面を亜鉛置換処理して亜鉛置
換処理層を設け、この処理層上に電気鋼めつきにより銅
層を設け、この銅層上に電気スズーニッケル合金めつき
によりスズーニッケル合金層を設け、このニッケルース
ズ合金層を機械研摩により平坦かつ平滑な面とし、この
平坦かつ平滑面上にめつきにより、磁性層を設け、この
磁性層上に保護層を設けて製造していた。
（特開昭５２一１４９１０５）しかし、この方法で製造
した磁気ディスクは鋼層とスズニッケル層との密着性が
劣り、磁性層形成前に熱処理によりアルミニウム合金基
体亜鉛置換処理層、非滋性めつ層の性質の安定化が行わ
れていないため磁性層の磁気特性に悪影響を及ぼしてい
た。
した磁気ディスクは鋼層とスズニッケル層との密着性が
劣り、磁性層形成前に熱処理によりアルミニウム合金基
体亜鉛置換処理層、非滋性めつ層の性質の安定化が行わ
れていないため磁性層の磁気特性に悪影響を及ぼしてい
た。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、基
体とこの上に設けた各層の密着性が良好で、かつ基体と
この上に設けた非磁性層が磁性層の磁気特性に悪影響を
及ぼさない高記録密度磁気ディスクの製造法を提供する
にある。
体とこの上に設けた各層の密着性が良好で、かつ基体と
この上に設けた非磁性層が磁性層の磁気特性に悪影響を
及ぼさない高記録密度磁気ディスクの製造法を提供する
にある。
上記目的は、アルミニウム合金基体表面を亜鉛置換処理
して亜鉛置換処理層を設け、この処理層上に銅ストラィ
クめつきによって銅層を設け、この鋼層上にめつきによ
ってニッケルースズ合金層を設け、この合金層表面を機
械研磨して平担かつ平滑な面とし、この平坦かつ平滑面
上にめつきによって磁性層を設け、この磁性層上に保護
層を設ける高記録密度磁気ディスクの製造法において、
上記鋼層とニッケルースズ合金層との間にめつきによっ
て銅−スズ合金層を設け、この銅−スズ合金層の表面を
研摩する前に熱処理を行ない、上記磁性層上に更にニッ
ケルースズ合金層と磁性層とをめつきによって少なくと
も一回設けることで達成される。
して亜鉛置換処理層を設け、この処理層上に銅ストラィ
クめつきによって銅層を設け、この鋼層上にめつきによ
ってニッケルースズ合金層を設け、この合金層表面を機
械研磨して平担かつ平滑な面とし、この平坦かつ平滑面
上にめつきによって磁性層を設け、この磁性層上に保護
層を設ける高記録密度磁気ディスクの製造法において、
上記鋼層とニッケルースズ合金層との間にめつきによっ
て銅−スズ合金層を設け、この銅−スズ合金層の表面を
研摩する前に熱処理を行ない、上記磁性層上に更にニッ
ケルースズ合金層と磁性層とをめつきによって少なくと
も一回設けることで達成される。
以下、本発明を実施例により説明する。
実施例 １
図は本発明によるめつきディスクの構成を示したもので
ある。
ある。
耐食アルミニウム合金よりなる直径３５６側、厚さ１．
９肋のディスク状基体１の表面を、機械加工し平坦、か
つ平滑な面としこの両面に亜鉛置換処理により０．５仏
ｍ厚さの亜鉛置換処理層２を形成した。この上に密着性
向上のために、鋼ストラィクめつきにより厚さ４一ｍの
銅層３を形成した。次にこのディスクを袴公昭４５−９
４４７に記載されている穴あきジャマ板と補助陰極とも
用いることを特長とする露気めつき槽に入れ、両面に均
一なめつき層を有し外周端部のもり上りの少ない厚さ３
０仏ｍの銅−スズ合金層４を形成させた。次に上記基体
、亜鉛置換処理層、銅層、銅−スズ合金層の性質を安定
させるため３２０℃，ｌｈの熱処理を行なってから、銅
−スズ合金層表面を機械的に加工した。この加工の目的
は銅−スズ合金層表面を平坦かつ平滑に仕上げ、ヘッド
とディスクとの衝突を防ぐためである。記録密度が２０
，００雌ＰＩと高くなると、ヘッドとディスクとの距離
：スべ−シングは従来よりさらに減少して０．３仏ｍ以
下となる。そのためディスク表面に必要な表面あらさは
０．０１山ｍＲａ、半径方向の真長度１．５〃ｍ／７仇
舷，２仏ｍ以上の欠陥なしという厳しい仕様が必要とな
る。これらの仕様は研摩加工により達成することができ
た。次にこの銅−スズ合金層研摩面を前処理した後、第
１表に示すめつき浴を用いてニッケルースズ合金により
厚さ０．１仏ｍのニッケルースズ層５を形成し、つづい
て第２表に示すめつき格を用いてめつきにより厚さ０．
０５山ｍの磁性層６を形成した。
９肋のディスク状基体１の表面を、機械加工し平坦、か
つ平滑な面としこの両面に亜鉛置換処理により０．５仏
ｍ厚さの亜鉛置換処理層２を形成した。この上に密着性
向上のために、鋼ストラィクめつきにより厚さ４一ｍの
銅層３を形成した。次にこのディスクを袴公昭４５−９
４４７に記載されている穴あきジャマ板と補助陰極とも
用いることを特長とする露気めつき槽に入れ、両面に均
一なめつき層を有し外周端部のもり上りの少ない厚さ３
０仏ｍの銅−スズ合金層４を形成させた。次に上記基体
、亜鉛置換処理層、銅層、銅−スズ合金層の性質を安定
させるため３２０℃，ｌｈの熱処理を行なってから、銅
−スズ合金層表面を機械的に加工した。この加工の目的
は銅−スズ合金層表面を平坦かつ平滑に仕上げ、ヘッド
とディスクとの衝突を防ぐためである。記録密度が２０
，００雌ＰＩと高くなると、ヘッドとディスクとの距離
：スべ−シングは従来よりさらに減少して０．３仏ｍ以
下となる。そのためディスク表面に必要な表面あらさは
０．０１山ｍＲａ、半径方向の真長度１．５〃ｍ／７仇
舷，２仏ｍ以上の欠陥なしという厳しい仕様が必要とな
る。これらの仕様は研摩加工により達成することができ
た。次にこの銅−スズ合金層研摩面を前処理した後、第
１表に示すめつき浴を用いてニッケルースズ合金により
厚さ０．１仏ｍのニッケルースズ層５を形成し、つづい
て第２表に示すめつき格を用いてめつきにより厚さ０．
０５山ｍの磁性層６を形成した。
さらに、第１表に示すめつき格を用いて再度厚さ０．０
４〆ｍのニッケルースズ合金層７を形成し、第２表に示
すめつき俗を用いて再度厚さ０．０５仏ｍの磁性層８を
形成し二層記録媒体を得た。最後に保護層９を形成した
。上記のようにして製作した磁気ディスクの記録特性測
定結果を、第３表の地．１に示した。
４〆ｍのニッケルースズ合金層７を形成し、第２表に示
すめつき俗を用いて再度厚さ０．０５仏ｍの磁性層８を
形成し二層記録媒体を得た。最後に保護層９を形成した
。上記のようにして製作した磁気ディスクの記録特性測
定結果を、第３表の地．１に示した。
第３表 磁気特性と記録特性第２表 磁性めつき浴組成
とめつき条件 第１表 ニッケル−スズめつき浴組成とめつき条件出力
１．靴Ｖ、分解能７９％、ノイズ９〃Ｖといずれも目標
値を達成でき記録密度２０，００肥ＰＩの高性能めつき
ディスクを完成できた。
とめつき条件 第１表 ニッケル−スズめつき浴組成とめつき条件出力
１．靴Ｖ、分解能７９％、ノイズ９〃Ｖといずれも目標
値を達成でき記録密度２０，００肥ＰＩの高性能めつき
ディスクを完成できた。
また、基体とこの上に設けた各層の密着性も良好であっ
た。実施例 ２実施例１と同様にして耐食アルミニウム
合金よりなるディスク状基体１上に順次亜鉛置換処理層
２、銅層３、銅−スズ合金層４を設け、この銅−スズ合
金層４の研摩面上に実施例１と同様にして厚さ０．１山
ｍのニッケルースズ合金層５を形成し、この上に実施例
１と同様にして厚さ０．０３３ムｍの磁性層６を形成し
た。
た。実施例 ２実施例１と同様にして耐食アルミニウム
合金よりなるディスク状基体１上に順次亜鉛置換処理層
２、銅層３、銅−スズ合金層４を設け、この銅−スズ合
金層４の研摩面上に実施例１と同様にして厚さ０．１山
ｍのニッケルースズ合金層５を形成し、この上に実施例
１と同様にして厚さ０．０３３ムｍの磁性層６を形成し
た。
この上に実施例１と同機にして厚さ０．０４ムのニッケ
ルースズ合金層７を形成し、この上に実施例１と同様に
して厚さ０．０３３〆ｍの磁性層８を作成した。そして
更にこの上に実施例１と同様にして厚さ０．０４ムｍの
ニッケルースズ層（図示せず）を形成し、この上に実施
例１と同機にして厚さ０．０３３〃ｍの磁性層（図示せ
ず）を作成し三層の記録媒体を形成した。また、磁性層
の厚さの合計は０．１０仏ｍとして実施例１の場合と同
一にした。その後保護層を形成し、３００ｑｏで熱処理
してから記録特性を評価した。結果を第３表のＮｏ．２
に示した。三層の場合は二層の場合と比較して分解能は
やや低く７１％であったが目標値を達成しており問題な
く、出力分解能はほぼ同レベルの結果を得た。また、基
体とこの上に設けた各層の密着性も良好であった。以上
の結果より、磁性めつき層を三層にしても出力、ノイズ
、分解能の目標を達成できるディスクを作成できること
がわかった。
ルースズ合金層７を形成し、この上に実施例１と同様に
して厚さ０．０３３〆ｍの磁性層８を作成した。そして
更にこの上に実施例１と同様にして厚さ０．０４ムｍの
ニッケルースズ層（図示せず）を形成し、この上に実施
例１と同機にして厚さ０．０３３〃ｍの磁性層（図示せ
ず）を作成し三層の記録媒体を形成した。また、磁性層
の厚さの合計は０．１０仏ｍとして実施例１の場合と同
一にした。その後保護層を形成し、３００ｑｏで熱処理
してから記録特性を評価した。結果を第３表のＮｏ．２
に示した。三層の場合は二層の場合と比較して分解能は
やや低く７１％であったが目標値を達成しており問題な
く、出力分解能はほぼ同レベルの結果を得た。また、基
体とこの上に設けた各層の密着性も良好であった。以上
の結果より、磁性めつき層を三層にしても出力、ノイズ
、分解能の目標を達成できるディスクを作成できること
がわかった。
一般に滋性めつき層は薄膜化することにより抗磁力が増
加することなどから四層以上の多層化によっても記録特
性の向上が期待できると考えられる。〔発明の効果〕以
上述べた如く本発明によれば、アルミニウム合金基体と
この上に設けた各層の密着性が良く、かつ基体とこの上
に設けた非滋性めつき層が磁気特性に悪影響を及ぼさな
い高記録密度磁気ディスクが製造できる。
加することなどから四層以上の多層化によっても記録特
性の向上が期待できると考えられる。〔発明の効果〕以
上述べた如く本発明によれば、アルミニウム合金基体と
この上に設けた各層の密着性が良く、かつ基体とこの上
に設けた非滋性めつき層が磁気特性に悪影響を及ぼさな
い高記録密度磁気ディスクが製造できる。
図は、高記録密度磁気ディスクの部分断面図である。
１…・・・ディスク状基体、２……亜鉛置換処理層、３
…・・・銅層、４・・・・・・鋼−スズ合金層、５，７
・・・・・・ニッケルースズ合金層、６，８・・・・・
・磁性層、９・・・・・・保護層。
…・・・銅層、４・・・・・・鋼−スズ合金層、５，７
・・・・・・ニッケルースズ合金層、６，８・・・・・
・磁性層、９・・・・・・保護層。
Claims (1)
- １ アルミニウム合金基体表面を亜鉛置換処理して亜鉛
置換処理層を設け、この処理層上に銅層を設け、この銅
層上にニツケル−スズ合金層を設け、この合金基体表面
を機械研摩して平担かつ平滑な面とし、この平担かつ平
滑面上に磁性層を設け、この磁性層上に保護層を設ける
高記録密度磁気デイスクの製造法において、上記銅層と
ニツケル−スズ合金層との間に銅−スズ合金層を設け、
この銅−スズ合金層の表面を研摩する前に熱処理を行な
い、上記磁性層上に更にニツケル−スズ合金層と磁性層
とを少なくとも一回設けることを特徴とする高記録密度
磁気デイスクの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1846378A JPS6032891B2 (ja) | 1978-02-22 | 1978-02-22 | 高記録密度磁気ディスクの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1846378A JPS6032891B2 (ja) | 1978-02-22 | 1978-02-22 | 高記録密度磁気ディスクの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54111802A JPS54111802A (en) | 1979-09-01 |
| JPS6032891B2 true JPS6032891B2 (ja) | 1985-07-31 |
Family
ID=11972320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1846378A Expired JPS6032891B2 (ja) | 1978-02-22 | 1978-02-22 | 高記録密度磁気ディスクの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032891B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5994231A (ja) * | 1982-11-22 | 1984-05-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録体 |
-
1978
- 1978-02-22 JP JP1846378A patent/JPS6032891B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54111802A (en) | 1979-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63195816A (ja) | 薄膜ヘツドの製造方法 | |
| JPS63195815A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッドの製造方法 | |
| EP0651380A1 (en) | Method of preparing recording media for a disk drive and disk drive recording media | |
| JPS6032891B2 (ja) | 高記録密度磁気ディスクの製造法 | |
| JPH0777019B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 | |
| JPS6021236B2 (ja) | 高記録密度磁気ディスクの製造方法 | |
| JPS5819731A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS5857624A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS6057131B2 (ja) | 高記録密度磁気デイスクの製造法 | |
| JPS5961107A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS5857625A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPH0451885B2 (ja) | ||
| JPS6032890B2 (ja) | 高記録密度磁気デイスクの製造法 | |
| JPS6151619A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| KR100193776B1 (ko) | Mig 자기헤드 및 이의 제조방법 | |
| JP2764829B2 (ja) | 磁気デイスク | |
| JPS60219638A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPS6035332A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS6187221A (ja) | 磁気記録体の製造方法 | |
| JPS63279425A (ja) | 磁気ディスク媒体 | |
| JPS60195739A (ja) | 垂直磁化式磁気デイスク用アルミニウム材の製造方法 | |
| JPH0581662A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH04172617A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JPS62141633A (ja) | 磁気記録体用基板の加工方法 | |
| JPS5885923A (ja) | 磁気記録体 |