JPS63149827A - 磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体とその製造方法Info
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- JPS63149827A JPS63149827A JP29743386A JP29743386A JPS63149827A JP S63149827 A JPS63149827 A JP S63149827A JP 29743386 A JP29743386 A JP 29743386A JP 29743386 A JP29743386 A JP 29743386A JP S63149827 A JPS63149827 A JP S63149827A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/743—Patterned record carriers, wherein the magnetic recording layer is patterned into magnetic isolated data islands, e.g. discrete tracks
- G11B5/746—Bit Patterned record carriers, wherein each magnetic isolated data island corresponds to a bit
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、フロッピーディスク、ハードディスク、カセ
ットテープ等としての磁気記録媒体と、その製造方法に
関するものである。
ットテープ等としての磁気記録媒体と、その製造方法に
関するものである。
［従来技術］
この種の磁気記録媒体においては、記録密度の向上が今
日最も重要な技術課題の１つとなっている。ところでこ
の記録密度の主要パラメータは、保磁力Ｈｃ、残留磁束
Ｂｒ、及び磁気記録層の厚ざδであるが、これらパラメ
ータと電磁気特性とは次の関係にある。すなわち、磁気
ヘッドの再生出力をＥ、再生波形の波形幅をＷとすると
、ＥｃｘＢｒ ・（Ｈｃ／Ｂｒ）’−δ′−“Ｗｃｘ（
Ｂｒ／ＨＣ＞”δ“ ここでα＝０．８５〜０．５０ β＝０．１５〜０．５０ そこで磁気記録媒体としての記録密度を向上させるには
再生出力Ｅの低下をできるだけ抑え、波形幅Ｗを極力小
さくすればよいことになる。そのためには上記関係より
保磁力Ｈｃを大きくすればよいことは明らかである。
日最も重要な技術課題の１つとなっている。ところでこ
の記録密度の主要パラメータは、保磁力Ｈｃ、残留磁束
Ｂｒ、及び磁気記録層の厚ざδであるが、これらパラメ
ータと電磁気特性とは次の関係にある。すなわち、磁気
ヘッドの再生出力をＥ、再生波形の波形幅をＷとすると
、ＥｃｘＢｒ ・（Ｈｃ／Ｂｒ）’−δ′−“Ｗｃｘ（
Ｂｒ／ＨＣ＞”δ“ ここでα＝０．８５〜０．５０ β＝０．１５〜０．５０ そこで磁気記録媒体としての記録密度を向上させるには
再生出力Ｅの低下をできるだけ抑え、波形幅Ｗを極力小
さくすればよいことになる。そのためには上記関係より
保磁力Ｈｃを大きくすればよいことは明らかである。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、保磁力１−１ｃと磁気記録層の厚ざδと
は、従来、第４図に実線の曲線で示したように大概逆比
例の関係にある。従って保磁力Ｈｃを大きくしようとす
ると、磁気記録層の厚ざδを薄くしなければならない。
は、従来、第４図に実線の曲線で示したように大概逆比
例の関係にある。従って保磁力Ｈｃを大きくしようとす
ると、磁気記録層の厚ざδを薄くしなければならない。
しかし、近年、磁気記録の高密度化の要請から既に超薄
膜化へ移行してきており、これ以上磁気記録層の厚ざδ
を薄くすることは品質管理上限界がある。また、磁気記
録層の厚ざδを薄くすることは再生出力Ｅを低下させる
ことになり、ざらにその分残留磁束Ｂｒを大きくしてカ
バーしようとすれば、今度は波形幅Ｗが大きくなって、
却って記録密度を低下させることになるという問題があ
る。
膜化へ移行してきており、これ以上磁気記録層の厚ざδ
を薄くすることは品質管理上限界がある。また、磁気記
録層の厚ざδを薄くすることは再生出力Ｅを低下させる
ことになり、ざらにその分残留磁束Ｂｒを大きくしてカ
バーしようとすれば、今度は波形幅Ｗが大きくなって、
却って記録密度を低下させることになるという問題があ
る。
［発明の目的］
本発明はかかる従来の問題点に鑑みて為されたもので、
その目的とするところは、磁気記録層の厚さを薄くしな
くとも高い保磁力が得られる磁気記録媒体と、その製造
方法を提供することにある。
その目的とするところは、磁気記録層の厚さを薄くしな
くとも高い保磁力が得られる磁気記録媒体と、その製造
方法を提供することにある。
これにより磁気記録媒体としての記録密度の向上を図ら
んとするものである。
んとするものである。
［問題点を解決するための手段］
かかる目的を達成するため本発明に係る磁気記録媒体は
、基材表面に形成される磁性粒子の集合体としての磁性
層の表面に、無数の空隙化された磁性粒子間隙が形成さ
れることを要旨としている。
、基材表面に形成される磁性粒子の集合体としての磁性
層の表面に、無数の空隙化された磁性粒子間隙が形成さ
れることを要旨としている。
また、本発明に係る磁気記録媒体の１つの製造方法は、
基材表面に形成される磁性粒子の集合体としての磁性層
の表面に、該磁性粒子に対して貴の平衡電位をもつ粒子
を略均一な分散状態で付着させ、次にこの材料を電解質
液に浸漬して前記前の平衡電位をもつ粒子と前記磁性層
との局部電池作用により該磁性層の表面に電食孔を形成
させることを要旨としている。
基材表面に形成される磁性粒子の集合体としての磁性層
の表面に、該磁性粒子に対して貴の平衡電位をもつ粒子
を略均一な分散状態で付着させ、次にこの材料を電解質
液に浸漬して前記前の平衡電位をもつ粒子と前記磁性層
との局部電池作用により該磁性層の表面に電食孔を形成
させることを要旨としている。
ざらに本発明に係る磁気記録媒体の別の製造方法は、基
材表面に磁性粒子の集合体としての磁性層が形成される
材料を該磁性粒子に対して貴の平衡電位をもつ原子イオ
ンを含む無電解メッキ液に浸漬して該原子イオンを前記
磁性層の表面に析出させると共に、該析出粒子と前記磁
性層との局部電池作用により該磁性層の表面に電食孔を
形成させることを要旨としている。
材表面に磁性粒子の集合体としての磁性層が形成される
材料を該磁性粒子に対して貴の平衡電位をもつ原子イオ
ンを含む無電解メッキ液に浸漬して該原子イオンを前記
磁性層の表面に析出させると共に、該析出粒子と前記磁
性層との局部電池作用により該磁性層の表面に電食孔を
形成させることを要旨としている。
［作用］
このように構成された本発明に係る磁気記録媒体によれ
ば、磁性層の表面の各磁性粒子がその周囲に空気間隙が
形成されることにより孤立化されている。そのために磁
気特性としての磁壁移動抵抗が大きくなり、磁性層の厚
さが同程度であれば、より高い保磁力が得られる。
ば、磁性層の表面の各磁性粒子がその周囲に空気間隙が
形成されることにより孤立化されている。そのために磁
気特性としての磁壁移動抵抗が大きくなり、磁性層の厚
さが同程度であれば、より高い保磁力が得られる。
［実施例］
第１図は、本発明の一実施例に係る磁気記録媒体を示し
たものである。この図においては、例えば、アルミニウ
ム基板上に被磁性のＮ；−ｐ系結晶粒子の集合体である
被磁性層が形成された基材１の表面に、強磁性のＣｏ−
Ｐ系結晶粒子の集合体である磁性層２が形成されている
。この磁性層２の厚さは約５００〜７００Ａ程度である
が、その表面には径、深さともに約１００〜２００Ａ程
度の微小孔３２，３・・・・が各磁性粒子間の間隙に位
置して無数に介在されている。そして磁性層２の表面に
は微小孔３，３・・・・の部分を除いて、非磁性粒子で
ある銀（Ａｇ）が付着しているが、このＡｇ粒子４，４
・・・・自体は本発明の構成上必要ではなく、製造工程
上存在するものである。そしてこのＡＯ粒子は存在して
いても実害はないのでそのままその上に保護膜５を被覆
して磁気ディスク等として製品化される。
たものである。この図においては、例えば、アルミニウ
ム基板上に被磁性のＮ；−ｐ系結晶粒子の集合体である
被磁性層が形成された基材１の表面に、強磁性のＣｏ−
Ｐ系結晶粒子の集合体である磁性層２が形成されている
。この磁性層２の厚さは約５００〜７００Ａ程度である
が、その表面には径、深さともに約１００〜２００Ａ程
度の微小孔３２，３・・・・が各磁性粒子間の間隙に位
置して無数に介在されている。そして磁性層２の表面に
は微小孔３，３・・・・の部分を除いて、非磁性粒子で
ある銀（Ａｇ）が付着しているが、このＡｇ粒子４，４
・・・・自体は本発明の構成上必要ではなく、製造工程
上存在するものである。そしてこのＡＯ粒子は存在して
いても実害はないのでそのままその上に保護膜５を被覆
して磁気ディスク等として製品化される。
次にこの磁気記録媒体の製造方法について述べる。その
１つの方法は、第２図にも示した如く、初めに基材１表
面のＧｏ−Ｐ系磁性層２の表面に、このｃｏ−ｐ磁性粒
子に対して員の平衡電位をもつＡｇ粒子４を略均一な分
散状態で付着させる。
１つの方法は、第２図にも示した如く、初めに基材１表
面のＧｏ−Ｐ系磁性層２の表面に、このｃｏ−ｐ磁性粒
子に対して員の平衡電位をもつＡｇ粒子４を略均一な分
散状態で付着させる。
この手段としては、既に慣用技術となっているスパッタ
リング法、蒸着法、或いはイオンプレーテインク法等が
適用される。次にこのようにして１ｑられた材料を次表
に示す液組成の電解質液中に浸漬（液温的８０’Ｃ，浸
漬時間３０秒〜１分間）する。
リング法、蒸着法、或いはイオンプレーテインク法等が
適用される。次にこのようにして１ｑられた材料を次表
に示す液組成の電解質液中に浸漬（液温的８０’Ｃ，浸
漬時間３０秒〜１分間）する。
ＣＯ３Ｏ４１５Ｑ／＃
ＮａＨ２ＰＯ２２０ＣＪ／！１
（ＮＨ４） ２３０４ ＾Ｏｇ＃酒石酸カリウ
ムナトリウム ２００ｑ＃Ａ（］Ｉ
２０ｍｇ／ノＮａＣＮ 、１０
ｍｇ／６ＮａＯＨ（ｐＨ調整用） ｐＨ’ｔ
。
ムナトリウム ２００ｑ＃Ａ（］Ｉ
２０ｍｇ／ノＮａＣＮ 、１０
ｍｇ／６ＮａＯＨ（ｐＨ調整用） ｐＨ’ｔ
。
そうするとＡＱ粒子４が一極、磁性層２が十極としての
局部電池が形成され、その酸化還元電解作用により磁性
層２表面に無数の電食孔３，３・・・・が形成される。
局部電池が形成され、その酸化還元電解作用により磁性
層２表面に無数の電食孔３，３・・・・が形成される。
この場合、Ａｇ粒子４は非磁性であるから、特に磁性層
２の表面から剥脱させる必要はなく、そのままその上に
保護膜５を形成させることが許されるものである。
２の表面から剥脱させる必要はなく、そのままその上に
保護膜５を形成させることが許されるものである。
なお、磁性層２の表面に付着される材料は必ずしもＡｇ
で必る必要はなく、要するに電解質液中において局部電
池が形成されたときに一極となる材料を選択すればよく
、Ａｃｔ以外の材料としてＡｕ、Ｃｕ等も適用できる。
で必る必要はなく、要するに電解質液中において局部電
池が形成されたときに一極となる材料を選択すればよく
、Ａｃｔ以外の材料としてＡｕ、Ｃｕ等も適用できる。
第３図は更に本発明の別の製造方法を示している。この
方法では前述の基材１表面にＧｏ−Ｐ磁性粒子の磁性層
２が形成された材料を、このＧ。
方法では前述の基材１表面にＧｏ−Ｐ磁性粒子の磁性層
２が形成された材料を、このＧ。
−Ｐｖｉｉ性粒子に対して員の平衡電位をもつ原子（Ａ
ｑ＞イオンを含む無電解メッキ液に浸漬する。
ｑ＞イオンを含む無電解メッキ液に浸漬する。
この無電解メッキ液はこの実施例では既述の表に示した
液組成と同一のものを用いている。かくしてこの場合に
は磁性＠２の表面にＡＣＩ粒子４が析出されると共に、
この析出したＡｃ１粒子４が一極、磁性層２が十極とし
ての局部電池が形成され、その酸化還元電解作用により
磁性層２の表面に無数の電食孔３，３・・・・が形成さ
れる。俊の処置は先の製造方法の場合と同様で必るが、
この製造方法によれば、１つの工程で磁性層２の表面へ
のＡｇ粒子４の析出と、局部電池作用による磁性層２の
表面の電食孔３の形成とが行われるので１工程省略され
る。
液組成と同一のものを用いている。かくしてこの場合に
は磁性＠２の表面にＡＣＩ粒子４が析出されると共に、
この析出したＡｃ１粒子４が一極、磁性層２が十極とし
ての局部電池が形成され、その酸化還元電解作用により
磁性層２の表面に無数の電食孔３，３・・・・が形成さ
れる。俊の処置は先の製造方法の場合と同様で必るが、
この製造方法によれば、１つの工程で磁性層２の表面へ
のＡｇ粒子４の析出と、局部電池作用による磁性層２の
表面の電食孔３の形成とが行われるので１工程省略され
る。
しかしてこのように構成された磁気記録媒体の保磁力Ｈ
Ｃと磁性層２の厚ざδとの関係を第４図中に破線で示し
て従来品と比較した。その結果、従来品は既に述べたよ
うに、磁性層２の厚さが増すにつれて保磁力が略反比例
的に急低下していくのに対し、本発明品はこの図からも
明らかなように、磁性＠２の厚さが増しても保磁力がほ
とんど低下せず、高い値が保持されている。このような
結果が得られたのは、磁性層２の表面の各磁性粒子が、
その周囲に空気間隙が形成されることにより孤立化し、
それにより磁気特性としての磁壁移動抵抗が大きくなっ
たためと考えられる。なお、第５図は後者の製造方法に
おいて材料を無電解メッキ液中へ浸漬してからの浸漬時
間ｍと保磁力（Ｈｃ）及び飽和磁束（ＭＳ）との関係を
示したものでおる。この図から、浸漬時間が長くなるに
つれて保磁力が上昇するが、飽和磁化ｉ（Ｍｓ）は極く
わずかしか低下していないことが判る。この飽和磁束は
磁性＠２の厚さと相関性がおるから、磁性層２の厚さが
それ程薄くなっていないのに保磁力が上昇（）ているこ
とを意味している。これより磁性層２の表面に微小孔３
，３・・・・が形成されることにより保磁力が上昇した
ことがｌけられている。
Ｃと磁性層２の厚ざδとの関係を第４図中に破線で示し
て従来品と比較した。その結果、従来品は既に述べたよ
うに、磁性層２の厚さが増すにつれて保磁力が略反比例
的に急低下していくのに対し、本発明品はこの図からも
明らかなように、磁性＠２の厚さが増しても保磁力がほ
とんど低下せず、高い値が保持されている。このような
結果が得られたのは、磁性層２の表面の各磁性粒子が、
その周囲に空気間隙が形成されることにより孤立化し、
それにより磁気特性としての磁壁移動抵抗が大きくなっ
たためと考えられる。なお、第５図は後者の製造方法に
おいて材料を無電解メッキ液中へ浸漬してからの浸漬時
間ｍと保磁力（Ｈｃ）及び飽和磁束（ＭＳ）との関係を
示したものでおる。この図から、浸漬時間が長くなるに
つれて保磁力が上昇するが、飽和磁化ｉ（Ｍｓ）は極く
わずかしか低下していないことが判る。この飽和磁束は
磁性＠２の厚さと相関性がおるから、磁性層２の厚さが
それ程薄くなっていないのに保磁力が上昇（）ているこ
とを意味している。これより磁性層２の表面に微小孔３
，３・・・・が形成されることにより保磁力が上昇した
ことがｌけられている。
なお、上記各実施例では磁性＠２の表面に微小孔３，３
・・・・を形成させる手段として電食法を適用したが、
例えば逆に、磁性層２の表面に磁性粒子を析出させ、そ
の粒子を核として微小孔の層を析出形成させる電析法を
用いてもよい。
・・・・を形成させる手段として電食法を適用したが、
例えば逆に、磁性層２の表面に磁性粒子を析出させ、そ
の粒子を核として微小孔の層を析出形成させる電析法を
用いてもよい。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明に係る磁気記録媒体によれ
ば、磁気記録層の厚さをそれ程薄くしなくとも高い保磁
力が得られる。またそのことは再生出力の低下を回避で
きることにもなり、ざらに残留磁束を必要以上に大きく
しなくて済むため再生波形幅の抑制にもなる。したがっ
て磁気記録密度の大幅な向上が図れ、薄膜高密度の磁気
記録化の要請に応え得るものである。
ば、磁気記録層の厚さをそれ程薄くしなくとも高い保磁
力が得られる。またそのことは再生出力の低下を回避で
きることにもなり、ざらに残留磁束を必要以上に大きく
しなくて済むため再生波形幅の抑制にもなる。したがっ
て磁気記録密度の大幅な向上が図れ、薄膜高密度の磁気
記録化の要請に応え得るものである。
第１図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の断面図
、第２図はこの磁気記録媒体の第１の製造方法について
の製造工程の説明図、第３図は本発明の第２の製造方法
についての製造工程の説明図、第４図は本発明に係る磁
気記録媒体と従来品との磁気記録特性く磁性層の厚さと
保磁力との関係）の比較データを示す図、第５図はこの
第２の製造方法における材料の無電解メッキ液中への浸
漬時間と保磁力及び飽和磁束との関係の説明図である。 １・・・・・基材 ２・・・・・磁性層
、第２図はこの磁気記録媒体の第１の製造方法について
の製造工程の説明図、第３図は本発明の第２の製造方法
についての製造工程の説明図、第４図は本発明に係る磁
気記録媒体と従来品との磁気記録特性く磁性層の厚さと
保磁力との関係）の比較データを示す図、第５図はこの
第２の製造方法における材料の無電解メッキ液中への浸
漬時間と保磁力及び飽和磁束との関係の説明図である。 １・・・・・基材 ２・・・・・磁性層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基材表面に形成される磁性粒子の集合体としての磁
性層の表面に、無数の空隙化された各磁性粒子間隙が形
成されてなることを特徴とする磁気記録媒体。 ２、基材表面に形成される磁性粒子の集合体としての磁
性層の表面に、該磁性粒子に対して貴の平衡電位をもつ
粒子を略均一な分散状態で付着させ、次にこの材料を電
解質液に浸漬して前記貴の平衡電位をもつ粒子と前記磁
性層との局部電池作用により該磁性層の表面に電食孔を
形成させるようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。 ３、基材表面に磁性粒子の集合体としての磁性層が形成
される材料を該磁性粒子に対して貴の平衡電位をもつ原
子イオンを含む無電解メッキ液に浸漬して該原子イオン
を前記磁性層の表面に析出させると共に、該析出粒子と
前記磁性層との局部電池作用により該磁性層の表面に電
食孔を形成させるようにしたことを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29743386A JPS63149827A (ja) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29743386A JPS63149827A (ja) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63149827A true JPS63149827A (ja) | 1988-06-22 |
Family
ID=17846454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29743386A Pending JPS63149827A (ja) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63149827A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03181019A (ja) * | 1989-12-08 | 1991-08-07 | Nec Ibaraki Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH076361A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-01-10 | Itochu Corp | 記録ディスク基板及び磁気記録ディスク |
| JPH0869621A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-03-12 | Itochu Corp | 磁気記録ディスクの製造方法 |
-
1986
- 1986-12-12 JP JP29743386A patent/JPS63149827A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03181019A (ja) * | 1989-12-08 | 1991-08-07 | Nec Ibaraki Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH076361A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-01-10 | Itochu Corp | 記録ディスク基板及び磁気記録ディスク |
| JPH0869621A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-03-12 | Itochu Corp | 磁気記録ディスクの製造方法 |
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