JPH04254915A - 無電解めっき型磁気ディスク媒体のめっき膜厚制御方法 - Google Patents
無電解めっき型磁気ディスク媒体のめっき膜厚制御方法Info
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- JPH04254915A JPH04254915A JP3531291A JP3531291A JPH04254915A JP H04254915 A JPH04254915 A JP H04254915A JP 3531291 A JP3531291 A JP 3531291A JP 3531291 A JP3531291 A JP 3531291A JP H04254915 A JPH04254915 A JP H04254915A
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- plating
- electroless
- plated
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- plating film
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- Pending
Links
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、無電解めっき型磁気デ
ィスク媒体のめっき方法に関し、特に、無電解めっき皮
膜の膜厚制御方法に関する。
ィスク媒体のめっき方法に関し、特に、無電解めっき皮
膜の膜厚制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の無電解めっき皮膜の膜厚
制御方法としては、めっきの析出時の発生気泡量を目視
し、めっき析出開始点を知る気泡目視法、あるいは、磁
気ディスク媒体と、めっき析出検知棒（ステンレス製の
棒に、析出めっき皮膜と同一組成のめっき皮膜を形成さ
せた棒）との間の電位差が０ボルトとなるか否かを測定
する、電位差検知法がある。
制御方法としては、めっきの析出時の発生気泡量を目視
し、めっき析出開始点を知る気泡目視法、あるいは、磁
気ディスク媒体と、めっき析出検知棒（ステンレス製の
棒に、析出めっき皮膜と同一組成のめっき皮膜を形成さ
せた棒）との間の電位差が０ボルトとなるか否かを測定
する、電位差検知法がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の気泡目視法では
、人間が肉眼で発生気泡量を観察して判断を下すため、
５０個を１ロットとして、めっきされた磁気ディスク媒
体の各ロット間もしくは、１ロット内でも磁気ディスク
媒体のめっき皮膜の膜厚のばらつきが大きくなり、良好
な歩留が得られないという欠点があった。又、従来の電
位差検知法では、ディスク媒体基板を留めているめっき
冶具の電気抵抗が大きいため、所定のめっき析出量が終
了しているにもかかわらず、磁気ディスク媒体と析出検
知棒間の電位差が０ボルトにならない場合が起る。 このため、めっき冶具間での抵抗のばらつきも影響して
、磁気ディスク媒体のめっき皮膜の膜厚のばらつきが大
きくなり、良好な歩留が得られないという欠点があった
。そこで、磁気ディスク媒体のめっき皮膜の膜厚を０．
０１μｍのオーダーで制御できれば、製品の歩留が良く
なる。
、人間が肉眼で発生気泡量を観察して判断を下すため、
５０個を１ロットとして、めっきされた磁気ディスク媒
体の各ロット間もしくは、１ロット内でも磁気ディスク
媒体のめっき皮膜の膜厚のばらつきが大きくなり、良好
な歩留が得られないという欠点があった。又、従来の電
位差検知法では、ディスク媒体基板を留めているめっき
冶具の電気抵抗が大きいため、所定のめっき析出量が終
了しているにもかかわらず、磁気ディスク媒体と析出検
知棒間の電位差が０ボルトにならない場合が起る。 このため、めっき冶具間での抵抗のばらつきも影響して
、磁気ディスク媒体のめっき皮膜の膜厚のばらつきが大
きくなり、良好な歩留が得られないという欠点があった
。そこで、磁気ディスク媒体のめっき皮膜の膜厚を０．
０１μｍのオーダーで制御できれば、製品の歩留が良く
なる。
【０００４】そこで本発明の目的は、無電解めっき膜厚
制御方法を提供することにある。
制御方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のめっき膜厚制御
方法は、無電解めっき対象物の無電解めっき工程で、被
無電解めっき対象物に所定時間負バイアスを加えて、強
制的に、めっきの析出を開始させる。すなわち、めっき
析出開始点を強制的に定めることで、所定時間に所定量
のめっき析出量を定める製造方法である。これによって
、無電解めっき対象物の膜厚のばらつきが抑えられ、所
定のめっき膜厚の形成を制御できることを特徴とする。
方法は、無電解めっき対象物の無電解めっき工程で、被
無電解めっき対象物に所定時間負バイアスを加えて、強
制的に、めっきの析出を開始させる。すなわち、めっき
析出開始点を強制的に定めることで、所定時間に所定量
のめっき析出量を定める製造方法である。これによって
、無電解めっき対象物の膜厚のばらつきが抑えられ、所
定のめっき膜厚の形成を制御できることを特徴とする。
【０００６】
【実施例】実施例１
図１は、無電解めっき対象物をＣｏ−Ｎｉ−Ｐ磁性膜４
を有する無電解めっきＣｏ−Ｎｉ−Ｐ型磁気ディスク媒
体とした、本発明によるめっき膜厚制御方法による実施
例の断面図を示す。
を有する無電解めっきＣｏ−Ｎｉ−Ｐ型磁気ディスク媒
体とした、本発明によるめっき膜厚制御方法による実施
例の断面図を示す。
【０００７】図１を参照して、本発明のめっき膜厚制御
方法で実施した無電解めっきＣｏ−Ｎｉ−Ｐ型磁気ディ
スク媒体の製造実施例を説明する。
方法で実施した無電解めっきＣｏ−Ｎｉ−Ｐ型磁気ディ
スク媒体の製造実施例を説明する。
【０００８】すでに、非磁性アルミニウムディスク基板
１に約１５μｍのＮｉ−Ｐ膜層２が形成されている市販
の磁気ディスク用９インチ非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体
基板を無電解めっきＮｉ−Ｐめっき液に浸漬し、本発明
の負バイアス−１．０〜−２．０ボルトを非磁性Ｎｉ−
Ｐディスク媒体基板に２〜６秒間加えて、Ｎｉ−Ｐめっ
きの析出開始点を定め、Ｎｉ−Ｐめっき皮膜層３の膜厚
を０．１〜０．４μｍに制御して、形成させて成るＮｉ
−Ｐめっきディスク媒体を得る。これを洗浄した後、次
に無電解Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき液に浸漬し、同様な操作
を行う。負バイアス−１．０〜−２．０ボルトをＮｉ−
ＰめっきされたＮｉ−Ｐディスク媒体基板に２〜６秒間
加えて、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき析出開始点を定め、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｐめっき磁性膜層４の膜厚を０．０３〜０．０
６μｍに制御して、形成させて成る無電解Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐめっき型磁気ディスク媒体を得る。
１に約１５μｍのＮｉ−Ｐ膜層２が形成されている市販
の磁気ディスク用９インチ非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体
基板を無電解めっきＮｉ−Ｐめっき液に浸漬し、本発明
の負バイアス−１．０〜−２．０ボルトを非磁性Ｎｉ−
Ｐディスク媒体基板に２〜６秒間加えて、Ｎｉ−Ｐめっ
きの析出開始点を定め、Ｎｉ−Ｐめっき皮膜層３の膜厚
を０．１〜０．４μｍに制御して、形成させて成るＮｉ
−Ｐめっきディスク媒体を得る。これを洗浄した後、次
に無電解Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき液に浸漬し、同様な操作
を行う。負バイアス−１．０〜−２．０ボルトをＮｉ−
ＰめっきされたＮｉ−Ｐディスク媒体基板に２〜６秒間
加えて、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき析出開始点を定め、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｐめっき磁性膜層４の膜厚を０．０３〜０．０
６μｍに制御して、形成させて成る無電解Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐめっき型磁気ディスク媒体を得る。
【０００９】次に上述のとおり実施した被めっき対象物
として、市販の磁気ディスク用９インチＮｉ−Ｐディス
ク媒体基板を本発明方法，気泡目視法および電位差検知
法で、実施例におけるＣｏ−Ｎｉ−Ｐめっき皮膜の膜厚
制御の効果を比較するため、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき槽の
各ロットごと、あるいは、１ロットの内でも、ディスク
を留める冶具間での、めっき皮膜の膜厚変動係数（めっ
き皮膜厚の標準偏差／平均めっき膜厚）結果と製品の歩
留の結果をＣｏ−Ｎｉ−Ｐめっき型磁気ディスク媒体を
例にとって、表１に示した。
として、市販の磁気ディスク用９インチＮｉ−Ｐディス
ク媒体基板を本発明方法，気泡目視法および電位差検知
法で、実施例におけるＣｏ−Ｎｉ−Ｐめっき皮膜の膜厚
制御の効果を比較するため、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき槽の
各ロットごと、あるいは、１ロットの内でも、ディスク
を留める冶具間での、めっき皮膜の膜厚変動係数（めっ
き皮膜厚の標準偏差／平均めっき膜厚）結果と製品の歩
留の結果をＣｏ−Ｎｉ−Ｐめっき型磁気ディスク媒体を
例にとって、表１に示した。
【００１０】
【表１】
【００１１】
【００１２】気泡目視法（０．１２１），電位差検知法
（０．０９８），本発明方法（０．０６３）の順にめっ
き皮膜の膜厚変動係数が小さくなり、この変動係数が小
さいほど、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき皮膜の膜厚制御が良好
に行われて、効果を上げたことを示すもので、当然、予
想が可能なように、無電解めっき型磁気ディスク媒体の
製品の歩留の結果は、気泡目視法（６１％），電位差検
知法（７８％），本発明方法（９３％）の順に大きくな
り、この製品の歩留が大きいほど、製品のロスがなく、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき皮膜の膜厚制御が良好に行われて
いることを示している。
（０．０９８），本発明方法（０．０６３）の順にめっ
き皮膜の膜厚変動係数が小さくなり、この変動係数が小
さいほど、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき皮膜の膜厚制御が良好
に行われて、効果を上げたことを示すもので、当然、予
想が可能なように、無電解めっき型磁気ディスク媒体の
製品の歩留の結果は、気泡目視法（６１％），電位差検
知法（７８％），本発明方法（９３％）の順に大きくな
り、この製品の歩留が大きいほど、製品のロスがなく、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき皮膜の膜厚制御が良好に行われて
いることを示している。
【００１３】以上から本発明の負バイアスを加えて無電
解めっき膜厚制御方法は、無電解めっき対象物が、請求
項２の無電解Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき型磁性ディスク媒体
だけでなく、他の無電解めっき工程すなわち、Ｎｉ−Ｐ
ディスク媒体基板のＮｉ−Ｐめっき工程や、ノイズ防止
用表面無電解めっき導体層付きプラスチックプレート，
鋼板，金属板等の無電解めっき対象物の無電解めっき工
程のほとんどに適用が出来る。
解めっき膜厚制御方法は、無電解めっき対象物が、請求
項２の無電解Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき型磁性ディスク媒体
だけでなく、他の無電解めっき工程すなわち、Ｎｉ−Ｐ
ディスク媒体基板のＮｉ−Ｐめっき工程や、ノイズ防止
用表面無電解めっき導体層付きプラスチックプレート，
鋼板，金属板等の無電解めっき対象物の無電解めっき工
程のほとんどに適用が出来る。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、所定の時間、所定
の負バイアスを加える本発明方法は、被めっき対象物（
被無電解めっき磁気ディスク媒体基板）の無電解めっき
製造工程で重要な、無電解めっきの析出開始点を強制的
に定められるという効果が、めっきの析出量のばらつき
を抑え、所定のめっき皮膜の膜厚形成速度を制御しつつ
、所定のめっき皮膜の膜厚形成を制御可能とした効果を
示し、結果的には、無電解めっき皮膜の膜厚変動係数を
小さくする効果を上げる事となり、無電解めっき製造工
程の改善に継がる効果を示す事となり、且つ、所定基準
のめっき膜厚の製品の歩留を改善し得た効果がある。
の負バイアスを加える本発明方法は、被めっき対象物（
被無電解めっき磁気ディスク媒体基板）の無電解めっき
製造工程で重要な、無電解めっきの析出開始点を強制的
に定められるという効果が、めっきの析出量のばらつき
を抑え、所定のめっき皮膜の膜厚形成速度を制御しつつ
、所定のめっき皮膜の膜厚形成を制御可能とした効果を
示し、結果的には、無電解めっき皮膜の膜厚変動係数を
小さくする効果を上げる事となり、無電解めっき製造工
程の改善に継がる効果を示す事となり、且つ、所定基準
のめっき膜厚の製品の歩留を改善し得た効果がある。
【図１】本発明の実施例における負バイアスを加えた無
電解Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき型磁気ディスク媒体を示す断
面図である。
電解Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき型磁気ディスク媒体を示す断
面図である。
１ 非磁性Ａｌディスク媒体基板
２ 非磁性Ｎｉ−Ｐディスク媒体基板のＮｉ−Ｐ膜層
３ Ｎｉ−Ｐめっき皮膜層 ４ Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき磁性膜層
３ Ｎｉ−Ｐめっき皮膜層 ４ Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐめっき磁性膜層
Claims (2)
- 【請求項１】無電解めっき対象物の無電解めっき工程に
おけるめっき膜厚制御方法であって、被無電解めっき物
に所定時間負バイアスを加えて、めっきの析出開始点を
定めると共に、所定量のめっき析出量を定めることを特
徴とする無電解めっき対象物のめっき膜厚制御方法。 - 【請求項２】無電解めっき型磁気ディスク媒体製造方法
における無電解めっき工程において、ディスク媒体基板
に所定時間負バイアスを加えて、めっきの析出開始点を
定めると共に、所定量のめっき析出量を定めることを特
徴とする無電解めっき型磁気ディスク媒体のめっき膜厚
制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3531291A JPH04254915A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 無電解めっき型磁気ディスク媒体のめっき膜厚制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3531291A JPH04254915A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 無電解めっき型磁気ディスク媒体のめっき膜厚制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04254915A true JPH04254915A (ja) | 1992-09-10 |
Family
ID=12438288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3531291A Pending JPH04254915A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 無電解めっき型磁気ディスク媒体のめっき膜厚制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04254915A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11109493B2 (en) | 2018-03-01 | 2021-08-31 | Hutchinson Technology Incorporated | Electroless plating activation |
-
1991
- 1991-02-05 JP JP3531291A patent/JPH04254915A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11109493B2 (en) | 2018-03-01 | 2021-08-31 | Hutchinson Technology Incorporated | Electroless plating activation |
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