JPS61168121A - 磁気記録用デイスク - Google Patents
磁気記録用デイスクInfo
- Publication number
- JPS61168121A JPS61168121A JP594285A JP594285A JPS61168121A JP S61168121 A JPS61168121 A JP S61168121A JP 594285 A JP594285 A JP 594285A JP 594285 A JP594285 A JP 594285A JP S61168121 A JPS61168121 A JP S61168121A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- magnetic
- alloy
- nonmagnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、下地層を介して基板上に磁性層を設けて成る
磁気記録用ディスク、さらに詳しくいえば、安定した品
質を有し、かつ使用時において熱による膨張の影響が少
なくて、正確な記録の位置決めを行いうる磁気記録用デ
ィスクに関するものである。
磁気記録用ディスク、さらに詳しくいえば、安定した品
質を有し、かつ使用時において熱による膨張の影響が少
なくて、正確な記録の位置決めを行いうる磁気記録用デ
ィスクに関するものである。
従来の技術
従来、アルミニウムやその合金のような非磁性金属から
成る円板状基板の両面に、非磁性下地層を介して磁性層
を設けて成る磁気記録用ディスクは、コンタクト・スタ
ート・ストップ方式の磁気記録媒体としてよく知られて
いる。
成る円板状基板の両面に、非磁性下地層を介して磁性層
を設けて成る磁気記録用ディスクは、コンタクト・スタ
ート・ストップ方式の磁気記録媒体としてよく知られて
いる。
この磁気記録用ディスクは、これまで、例えばアルミニ
ウム基板上に、γ−フェライト磁性粉とバインダーとの
混合物を塗布する方法などによって製造されてきたが、
近年、記録密度の多い磁気記録用ディスクが要望される
ようになり、そのため、磁性層の薄層化が必要となった
結果、基板上に、酸化鉄磁性層をコーティング法によっ
て設ける代りに、めっき、スパッタリング、イオンブレ
ーティング、真空蒸着などによって金属磁性層全形成す
る方法が注目されつつある。
ウム基板上に、γ−フェライト磁性粉とバインダーとの
混合物を塗布する方法などによって製造されてきたが、
近年、記録密度の多い磁気記録用ディスクが要望される
ようになり、そのため、磁性層の薄層化が必要となった
結果、基板上に、酸化鉄磁性層をコーティング法によっ
て設ける代りに、めっき、スパッタリング、イオンブレ
ーティング、真空蒸着などによって金属磁性層全形成す
る方法が注目されつつある。
このような磁気記録用ディスクは、通常基板としてアル
ミニウム又はその合金から成る非磁性金属基板を用い、
これにクロムやニッケルーリン合金から成る非磁性下地
層を無電解めっき、スパッタリン夛、イオンブレーティ
ング又は蒸着などの処理によって設け、次いでその上に
コバルト−ニッケル合金、コバルト−リン合金などから
成る磁性層を、無電解めっき、スパッタリング、イオン
プレティング、蒸着などの処理により設け、さらに所望
により、カーボンなどから成る保護層を設けることによ
って製造される。また、前記非磁性下地層が無電解めっ
き処理によって設けられる場合は、通常、前処理として
該非磁性金属基板に対して亜鉛置換処理が施されている
。
ミニウム又はその合金から成る非磁性金属基板を用い、
これにクロムやニッケルーリン合金から成る非磁性下地
層を無電解めっき、スパッタリン夛、イオンブレーティ
ング又は蒸着などの処理によって設け、次いでその上に
コバルト−ニッケル合金、コバルト−リン合金などから
成る磁性層を、無電解めっき、スパッタリング、イオン
プレティング、蒸着などの処理により設け、さらに所望
により、カーボンなどから成る保護層を設けることによ
って製造される。また、前記非磁性下地層が無電解めっ
き処理によって設けられる場合は、通常、前処理として
該非磁性金属基板に対して亜鉛置換処理が施されている
。
也のようにして得られた磁気記録用ディスクの構成の１
例を添附図面に示すと、第１図は、下地層を無電解めっ
き処理で設けた場合の、従来の磁気記録用ディスクの断
面略解図であシ、該図は、非磁性金属基板１と非磁性下
地層３との間に、亜鉛置換層２が設けられ、該下地層３
の上に磁性層４が、さらにその上に保護層５が設けられ
ている状態を示す。
例を添附図面に示すと、第１図は、下地層を無電解めっ
き処理で設けた場合の、従来の磁気記録用ディスクの断
面略解図であシ、該図は、非磁性金属基板１と非磁性下
地層３との間に、亜鉛置換層２が設けられ、該下地層３
の上に磁性層４が、さらにその上に保護層５が設けられ
ている状態を示す。
このような無電解めっき処理で下地層を形成させるだめ
の前処理として施される亜鉛置換処理においては、亜鉛
の線膨張係数が１例えば２０〜１００℃の温度範囲（Ｃ
おいて３９．７ Ｘ １０ であるように。
の前処理として施される亜鉛置換処理においては、亜鉛
の線膨張係数が１例えば２０〜１００℃の温度範囲（Ｃ
おいて３９．７ Ｘ １０ であるように。
基板の構成成分であるアルミニウムの線膨張係数２３．
５ Ｘ １Ｏ−６（２０〜１００℃）及び下地層の構成
成分であるニッケルの線膨張係数１３．３ Ｘ １Ｏ−
６（２０〜１００℃）に比べて、かな−り大きいことか
ら、特に高温を必要とするスパッタリング処理（コバル
ト−リンでは約２５０℃、γ−フェライトでは約３５０
℃の温度が必要である）で磁性層を設ける場合、基板と
非磁性下地層との間に熱膨張による応力が生じて、均一
かつち密々磁性層が得られず、不良品が生じるなどの欠
点があり、さらに得られた磁気記録用ディスクを、例え
ば電気割算機に塔載した場合、モーターを用いる駆動方
式では、それから出る熱による膨張のだめに、基板と非
磁性下地層、磁性層との間に応力集中が起とり。
５ Ｘ １Ｏ−６（２０〜１００℃）及び下地層の構成
成分であるニッケルの線膨張係数１３．３ Ｘ １Ｏ−
６（２０〜１００℃）に比べて、かな−り大きいことか
ら、特に高温を必要とするスパッタリング処理（コバル
ト−リンでは約２５０℃、γ−フェライトでは約３５０
℃の温度が必要である）で磁性層を設ける場合、基板と
非磁性下地層との間に熱膨張による応力が生じて、均一
かつち密々磁性層が得られず、不良品が生じるなどの欠
点があり、さらに得られた磁気記録用ディスクを、例え
ば電気割算機に塔載した場合、モーターを用いる駆動方
式では、それから出る熱による膨張のだめに、基板と非
磁性下地層、磁性層との間に応力集中が起とり。
該ディスクへの正確な記録位置についての再現性などに
問題が生じる。
問題が生じる。
発明が解決しようとする問題点
本発明の目的は、このような無電解めっき処理で非磁性
下地層を設ける場合に従来有する欠点を解決し、安定し
た品質を有し、かつ使用時において熱による膨張の影響
が少なくて、正確な記録の位置決めが行いうる、非磁性
下地層を介して基板上に磁性層を設けた磁気記録用ディ
スクを提供することにある。
下地層を設ける場合に従来有する欠点を解決し、安定し
た品質を有し、かつ使用時において熱による膨張の影響
が少なくて、正確な記録の位置決めが行いうる、非磁性
下地層を介して基板上に磁性層を設けた磁気記録用ディ
スクを提供することにある。
問題点を解決するだめの手段
本発明者は、非磁性金属基板と下地層との間に、従来設
けられていた亜鉛置換層の代９に、線膨張係数が基板に
用いられるアルミニウム合金と下地層に用いられるニッ
ケル合金などとの中間にある黄銅（２０〜３００℃の温
度範囲で１９．９ Ｘ ｔｏ−６）から成る層を無電解
めっきによって設けることにより、前記目的を達成しう
るととを見出し、この知見に基づいて本発明を完成する
に至った。
けられていた亜鉛置換層の代９に、線膨張係数が基板に
用いられるアルミニウム合金と下地層に用いられるニッ
ケル合金などとの中間にある黄銅（２０〜３００℃の温
度範囲で１９．９ Ｘ ｔｏ−６）から成る層を無電解
めっきによって設けることにより、前記目的を達成しう
るととを見出し、この知見に基づいて本発明を完成する
に至った。
すなわち、本発明は、非磁性金属基板上に非磁性下地層
を介して磁性層を設けて成る磁気記録用ディスクにおい
て、該基板と下地層との間に無電解黄銅めっき処理層を
設けたことを特徴とする磁気記録用ディスクを提供する
ものである。
を介して磁性層を設けて成る磁気記録用ディスクにおい
て、該基板と下地層との間に無電解黄銅めっき処理層を
設けたことを特徴とする磁気記録用ディスクを提供する
ものである。
本発明においては、基板として、アルミニウム又はアル
ミニウム合金、マグネシウム又はマグネシウム合金など
の非磁性金属から成るものが用いられ、また、非磁性下
地層としては、ニッケル、クロム、モリブデンなどの金
属又はそれらとリン、ホウ素などとの合金が′用いられ
るが、該下地層としてはニッケルーリン合金が好適であ
る。
ミニウム合金、マグネシウム又はマグネシウム合金など
の非磁性金属から成るものが用いられ、また、非磁性下
地層としては、ニッケル、クロム、モリブデンなどの金
属又はそれらとリン、ホウ素などとの合金が′用いられ
るが、該下地層としてはニッケルーリン合金が好適であ
る。
次に、本発明においては、前記下地層を設ける前に、研
削、研磨された該非磁性金属基板上に無電解黄銅めっき
処理層を設けることが必要である。
削、研磨された該非磁性金属基板上に無電解黄銅めっき
処理層を設けることが必要である。
この際、通常、該基板にアルカリ脱脂や酸脱脂を施した
のち、アルカリエツチングや酸エツチング処理を行って
表面調整を行い、次いで、無電解めっきによって、層厚
０．０１〜３０μｍの範囲になるように無電解黄銅めっ
き処理層が設けられる。
のち、アルカリエツチングや酸エツチング処理を行って
表面調整を行い、次いで、無電解めっきによって、層厚
０．０１〜３０μｍの範囲になるように無電解黄銅めっ
き処理層が設けられる。
このようにして形成された無電解黄銅めっき処理層の上
に、非磁性下地層を通常無電解めっき処理によシ設ける
。もちろん、この下地層は一無電解めっき処理以外に、
スパッタリング、イオンプレティング、蒸着などの処理
によって形成させることもできる。また、下地層の厚さ
は、一般に０．０１〜３０μｍ程度である。
に、非磁性下地層を通常無電解めっき処理によシ設ける
。もちろん、この下地層は一無電解めっき処理以外に、
スパッタリング、イオンプレティング、蒸着などの処理
によって形成させることもできる。また、下地層の厚さ
は、一般に０．０１〜３０μｍ程度である。
次いで、該下地層の上にコバルト−ニッケル合金、コバ
ルト−リン合金又はγ−フェライトなどから成る磁性層
を、無電解めっき、スパッタリング、イオンブレーティ
ング又は蒸着々ど、通常用いられている方法によって、
層厚０．０１〜２μｍの範囲になるように設ける。さら
に所望に応じ、との磁性層の上に、カーボンなどから成
る保護層を常法に従って形成させてもよい。
ルト−リン合金又はγ−フェライトなどから成る磁性層
を、無電解めっき、スパッタリング、イオンブレーティ
ング又は蒸着々ど、通常用いられている方法によって、
層厚０．０１〜２μｍの範囲になるように設ける。さら
に所望に応じ、との磁性層の上に、カーボンなどから成
る保護層を常法に従って形成させてもよい。
次に、このようにして得られた本発明における磁気記録
用ディスクの１例の断面略解図を第２図に示す。読図は
、非磁性金属基板１と非磁性下地層３との間に無電解黄
銅めっき処理層６が設けられ、該下地層３の上に、磁性
層４が、さらにその上に保護層５が設けられている状態
を示す。
用ディスクの１例の断面略解図を第２図に示す。読図は
、非磁性金属基板１と非磁性下地層３との間に無電解黄
銅めっき処理層６が設けられ、該下地層３の上に、磁性
層４が、さらにその上に保護層５が設けられている状態
を示す。
発明の効果
本発明の磁気記録用ディスクは、非磁性金属基板と下地
層との間に、従来設けられていた亜鉛置換層の代シに、
線膨張係数が、基板全構成する金属と下地層を構成する
金属との中間にあるような黄銅から成る層を無電解めっ
きによシ設けたものであり、したがって、該ディスクに
熱による外因が発生しても、この黄銅層が緩衝帯として
働くために、熱膨張による影響が少なく、正確な記録の
位置決めが行いうる。また、本発明のディスクにおいて
は、磁性層をスパッタリングなどの高温処理によって設
ける場合、基板と下地層との間に熱膨張による応力が集
中せず、均一かつち密な磁性層を形成しうるので、品質
の安定した製品が得られる。
層との間に、従来設けられていた亜鉛置換層の代シに、
線膨張係数が、基板全構成する金属と下地層を構成する
金属との中間にあるような黄銅から成る層を無電解めっ
きによシ設けたものであり、したがって、該ディスクに
熱による外因が発生しても、この黄銅層が緩衝帯として
働くために、熱膨張による影響が少なく、正確な記録の
位置決めが行いうる。また、本発明のディスクにおいて
は、磁性層をスパッタリングなどの高温処理によって設
ける場合、基板と下地層との間に熱膨張による応力が集
中せず、均一かつち密な磁性層を形成しうるので、品質
の安定した製品が得られる。
実施例
次に実施例によυ本発明をさらに詳細に説明する。
例
研削、研磨された円板状のアルミニウムーマグネシウム
合金を、常法に従ってアルカリ脱脂したのち、フッ化水
素酸／硝酸容量比が２５７７５ の混酸を用いてエツチ
ング処理した。
合金を、常法に従ってアルカリ脱脂したのち、フッ化水
素酸／硝酸容量比が２５７７５ の混酸を用いてエツチ
ング処理した。
次いで、これを、次に示す組成のめつき浴中に４５℃で
３０秒〜１時間浸せきして、無電解めつきを行い、層厚
０．１〜３０μｍの黄銅めっき層を設けた。
３０秒〜１時間浸せきして、無電解めつきを行い、層厚
０．１〜３０μｍの黄銅めっき層を設けた。
酸化亜鉛 ８０〜１５０シアン化
第−銅 ９〜１７水酸化炭酸鉛
０．１〜０．２シアン化ナトリウム
１５〜３０水酸化ナトリウム ２２０〜４
１０このものを、さらに次に示す組成を有するｐＨ約８
のめつき浴中に８０℃で１４０分間浸せきして、無電解
ニッケルめっきを行い、厚さ２０μｍのニッケルーリン
から成る下地層を設けた。
第−銅 ９〜１７水酸化炭酸鉛
０．１〜０．２シアン化ナトリウム
１５〜３０水酸化ナトリウム ２２０〜４
１０このものを、さらに次に示す組成を有するｐＨ約８
のめつき浴中に８０℃で１４０分間浸せきして、無電解
ニッケルめっきを行い、厚さ２０μｍのニッケルーリン
から成る下地層を設けた。
硫酸ニッケル ２０次亜塩素酸ナト
リウム ２５クエン酸ナトリウム
５次に、このようにして下地層を設けた円板の表
面を研削、研磨し、これを２５０〜３５０℃に保持して
、スパッタリング処理によシ、該下地層の上に厚さ０．
１７μｍのＣ０７５Ｎｉ２５からなる磁性層を設け、さ
らにその上に厚さ０，０８μｍのカーボンから成る保護
層を設けて磁気記録用ディスクを製造した。
リウム ２５クエン酸ナトリウム
５次に、このようにして下地層を設けた円板の表
面を研削、研磨し、これを２５０〜３５０℃に保持して
、スパッタリング処理によシ、該下地層の上に厚さ０．
１７μｍのＣ０７５Ｎｉ２５からなる磁性層を設け、さ
らにその上に厚さ０，０８μｍのカーボンから成る保護
層を設けて磁気記録用ディスクを製造した。
このディスクを温度２２℃に保ち、コンタクト・スター
ト・ストップ（ａＳＳ）試験を行った結果、ディスクへ
の正確な記録位置についての再現性は極めて良好であっ
た。
ト・ストップ（ａＳＳ）試験を行った結果、ディスクへ
の正確な記録位置についての再現性は極めて良好であっ
た。
比較例
実施例と同様にして、研削、研磨した円板状のアルミニ
ウムーマグネシウム合金に脱脂、エツチング処理を施し
たのち、このものを酸化亜鉛５２／を及び水酸化ナトリ
ウム５０ ？／ｌを含有する水溶液中に２３℃で３０秒
間浸せきして亜鉛置換を行った。
ウムーマグネシウム合金に脱脂、エツチング処理を施し
たのち、このものを酸化亜鉛５２／を及び水酸化ナトリ
ウム５０ ？／ｌを含有する水溶液中に２３℃で３０秒
間浸せきして亜鉛置換を行った。
このようにして前処理したアルミニウムーマグネシウム
合金からなる基板を、実施例と同様にして厚さ２０μｍ
のニッケルーリンから成る下地層。
合金からなる基板を、実施例と同様にして厚さ２０μｍ
のニッケルーリンから成る下地層。
厚さ０．１７μｍのＣ０７５Ｎｉ２５から成る磁性層及
び厚さ０．０８μｍのカーボンから成る保護層を順次設
け、磁気記録用ディスクを製造した。
び厚さ０．０８μｍのカーボンから成る保護層を順次設
け、磁気記録用ディスクを製造した。
このディスクを、実施例と同様に温度２２℃に保ち、Ｃ
８Ｓ試験を行った結果、ディスクへの正確な記録位置に
ついての再現性は、実施例で得だものに比べて、かなり
不良であった。
８Ｓ試験を行った結果、ディスクへの正確な記録位置に
ついての再現性は、実施例で得だものに比べて、かなり
不良であった。
第１図は、非磁性金属基板と下地層との間に亜鉛置換層
が設けられている、従来の磁気記録用ディスクの１例を
示す断面略解図、第２図は、本発明の磁気記録用ディス
クの１例を示す断面略解図である。 図において、符号１は非磁性金属基板、２は亜鉛置換層
、３は非磁性下地層、４は磁性層、５は保護層、６は無
電解黄銅めっき処理層である。
が設けられている、従来の磁気記録用ディスクの１例を
示す断面略解図、第２図は、本発明の磁気記録用ディス
クの１例を示す断面略解図である。 図において、符号１は非磁性金属基板、２は亜鉛置換層
、３は非磁性下地層、４は磁性層、５は保護層、６は無
電解黄銅めっき処理層である。
Claims (1)
- １ 非磁性金属基板上に非磁性下地層を介して磁性層を
設けて成る磁気記録用ディスクにおいて、該基板と下地
層との間に無電解黄銅めつき処理層を設けたことを特徴
とする磁気記録用ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP594285A JPS61168121A (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | 磁気記録用デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP594285A JPS61168121A (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | 磁気記録用デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61168121A true JPS61168121A (ja) | 1986-07-29 |
Family
ID=11624951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP594285A Pending JPS61168121A (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | 磁気記録用デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61168121A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012123855A (ja) * | 2010-12-06 | 2012-06-28 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5350805A (en) * | 1976-10-20 | 1978-05-09 | Hitachi Ltd | Production of high recording density magnetic disc |
-
1985
- 1985-01-18 JP JP594285A patent/JPS61168121A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5350805A (en) * | 1976-10-20 | 1978-05-09 | Hitachi Ltd | Production of high recording density magnetic disc |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012123855A (ja) * | 2010-12-06 | 2012-06-28 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1060283A (en) | Method of making an ordered alloy | |
| EP0120413B1 (en) | Perpendicular magnetic-recording medium and method of manufacturing the same | |
| US4150172A (en) | Method for producing a square loop magnetic media for very high density recording | |
| JPH0258729A (ja) | 磁気ディスク基板およびその製造方法 | |
| EP0164135B1 (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS61242323A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US3702239A (en) | Magnetic storage medium | |
| JPS61168121A (ja) | 磁気記録用デイスク | |
| JPS61253622A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH05143972A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体およびその製造法 | |
| JPS61260420A (ja) | 磁気記録体 | |
| JPS61142525A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS59217225A (ja) | 磁気デイスク用基盤 | |
| JPS613317A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6196522A (ja) | 磁気記録体の製造方法 | |
| JPS61216125A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3940448B2 (ja) | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 | |
| JPH0411321A (ja) | 磁気記録体およびその製造方法 | |
| JPS6154016A (ja) | 磁気記録媒体用基板 | |
| JP2521932B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6350466A (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPS63149827A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JPS6085433A (ja) | 磁気記録体 | |
| JP3020245B2 (ja) | マグネトロンスパッタ法および磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61224122A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 |