JPS6196522A - 磁気記録体の製造方法 - Google Patents
磁気記録体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6196522A JPS6196522A JP21893484A JP21893484A JPS6196522A JP S6196522 A JPS6196522 A JP S6196522A JP 21893484 A JP21893484 A JP 21893484A JP 21893484 A JP21893484 A JP 21893484A JP S6196522 A JPS6196522 A JP S6196522A
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- JP
- Japan
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- substrate
- layer
- magnetic
- plating
- magnetic recording
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録体の製造方法に関する。
メッキ型磁気記録体お工ひ一部のスノくツタ型磁気記録
体の製造において、磁性媒体の下地として非磁性の無ｔ
％Ｎｉ−Ｐメッキ皮膜か用いられているが、その製作工
程１ハ、アルミニウム基＆？：酸化唾鉛お工びＯＴ性ソ
ーダを主とするジンケート故に浸漬し、アルミ表面を頃
鉛置換したのち、十分水洗して、無電４Ｎｉ−Ｐメッキ
を行なうという方法が用いられている。
体の製造において、磁性媒体の下地として非磁性の無ｔ
％Ｎｉ−Ｐメッキ皮膜か用いられているが、その製作工
程１ハ、アルミニウム基＆？：酸化唾鉛お工びＯＴ性ソ
ーダを主とするジンケート故に浸漬し、アルミ表面を頃
鉛置換したのち、十分水洗して、無電４Ｎｉ−Ｐメッキ
を行なうという方法が用いられている。
しかし、前述の従来技術では、〜ｉ−Ｐメッキ前に浸漬
するジンケート液が高濃度の町注アルカリからなるため
、浸ｔＲ後アルミ基叛を十分水洗してもそのアルカリ分
を完全に取り除くことは困難である。特にアルミ基板の
材質にＬっては、ジンケート前の画処理に工って表面の
荒れやすいものがあり、この工うなものは、特に表面に
アルカリ分が残り易い。したがって、希酸に短時間浸漬
して中和するなどの方法を試みたが、この＠曾、アルミ
表面を置換した亜鉛が浴出し、次に形成するＮｉ−ｐＢ
Ｌ膜の密着性を悪くする。したがって、ジンケートｅ十
分水洗することが今のところ好ましい方法といえる。と
ころが、前述のようにわずかながらアルカリ分が残留す
ると矢のような問題が生じる。すなわち、アルカリ分が
残ったま１、無′醒！１４Ｎｉ−Ｐメッキ液に浸漬する
と、浸漬直後、−時的に表面近傍のメッキ液のｐｅは急
上昇し、したがって、浸漬直後に生成するＮ １＝ｐ皮
喚のみに関しては、リン含有率が低いものとなり、完全
な非磁性とはならないＪＪ３ ｊａがある。この非磁性
でない初期的に形成されるＮｉ−Ｐ層は、後の工程でＮ
ｉ−Ｐｊ−上層に形成する。磁性１−の特性においてＳ
Ｎ比の低Ｆなど好筐しくない影＃を与えるという問題点
を有する。
するジンケート液が高濃度の町注アルカリからなるため
、浸ｔＲ後アルミ基叛を十分水洗してもそのアルカリ分
を完全に取り除くことは困難である。特にアルミ基板の
材質にＬっては、ジンケート前の画処理に工って表面の
荒れやすいものがあり、この工うなものは、特に表面に
アルカリ分が残り易い。したがって、希酸に短時間浸漬
して中和するなどの方法を試みたが、この＠曾、アルミ
表面を置換した亜鉛が浴出し、次に形成するＮｉ−ｐＢ
Ｌ膜の密着性を悪くする。したがって、ジンケートｅ十
分水洗することが今のところ好ましい方法といえる。と
ころが、前述のようにわずかながらアルカリ分が残留す
ると矢のような問題が生じる。すなわち、アルカリ分が
残ったま１、無′醒！１４Ｎｉ−Ｐメッキ液に浸漬する
と、浸漬直後、−時的に表面近傍のメッキ液のｐｅは急
上昇し、したがって、浸漬直後に生成するＮ １＝ｐ皮
喚のみに関しては、リン含有率が低いものとなり、完全
な非磁性とはならないＪＪ３ ｊａがある。この非磁性
でない初期的に形成されるＮｉ−Ｐ層は、後の工程でＮ
ｉ−Ｐｊ−上層に形成する。磁性１−の特性においてＳ
Ｎ比の低Ｆなど好筐しくない影＃を与えるという問題点
を有する。
そこで本発明はこのような問題点を解決するためのもの
で、その目的とするところは、用いるアルミ基板の材質
に関係なく、磁性媒体ｌＷｉ下地として有用な完全に非
磁性のＮｉ−ｐｒｍを得るために、無電４Ｎｉ−Ｐメッ
キにおける初期のＮ’ｉ−Ｐ生成１−全非磁性化するた
めの方法を提供することにある。
で、その目的とするところは、用いるアルミ基板の材質
に関係なく、磁性媒体ｌＷｉ下地として有用な完全に非
磁性のＮｉ−ｐｒｍを得るために、無電４Ｎｉ−Ｐメッ
キにおける初期のＮ’ｉ−Ｐ生成１−全非磁性化するた
めの方法を提供することにある。
本発明の磁気記録体の製造方法は、アルミ基板をジンケ
ート処理後、水洗して、無電解Ｎｉ−Ｐメッキを行ない
、所定の厚さのＮｉ−Ｐ層を形成し、その上層に、磁性
媒体／Ｉｌｌを形成する前に、そのＮｉ−Ｐ基板ｉ１７
０〜２５０℃に１〜ＳＯｑ間焼成することにニジ、Ｎｉ
−Ｐ皮膜を完全に非磁性化することを％徴とする。
ート処理後、水洗して、無電解Ｎｉ−Ｐメッキを行ない
、所定の厚さのＮｉ−Ｐ層を形成し、その上層に、磁性
媒体／Ｉｌｌを形成する前に、そのＮｉ−Ｐ基板ｉ１７
０〜２５０℃に１〜ＳＯｑ間焼成することにニジ、Ｎｉ
−Ｐ皮膜を完全に非磁性化することを％徴とする。
前述のように所定１度に一定時間Ｎｉ−Ｐ基板を加熱焼
成することに工ってリンの含有借の吐い初期生成のＮｉ
−Ｐｌ＠が完全な非磁性となるのは、ジンケート処理に
１ってアルミ表面を置換した亜鉛とリンのリッチなＮｉ
−ｐｒｒａにあるリンが、初期生成の低リン含有ｒ−に
波数するためと考えられる。
成することに工ってリンの含有借の吐い初期生成のＮｉ
−Ｐｌ＠が完全な非磁性となるのは、ジンケート処理に
１ってアルミ表面を置換した亜鉛とリンのリッチなＮｉ
−ｐｒｒａにあるリンが、初期生成の低リン含有ｒ−に
波数するためと考えられる。
以下本発明について実施例に基づき詳細に説明する。
（１１ａ２５インチの５０８６系アルミ基板を脱脂、エ
ツチングの後、ジンケート処理し十分に水洗した後、無
電解Ｎｉ−Ｐメッキ（日本カニゼン社製５Ｋ−１０（１
）を２時間行なった。仄にこの基板をオーブンで２００
℃、２時間焼成した。第１図と第２図に焼成前と焼成後
について、釡劾型磁気測足装置（理研電子製）を用いて
測定した磁化曲線図を比較して示す。図に示した工うに
、焼成による非磁性化の効果は明白である。
ツチングの後、ジンケート処理し十分に水洗した後、無
電解Ｎｉ−Ｐメッキ（日本カニゼン社製５Ｋ−１０（１
）を２時間行なった。仄にこの基板をオーブンで２００
℃、２時間焼成した。第１図と第２図に焼成前と焼成後
について、釡劾型磁気測足装置（理研電子製）を用いて
測定した磁化曲線図を比較して示す。図に示した工うに
、焼成による非磁性化の効果は明白である。
次に焼成物と非焼成物について、第１表に示す工うな組
成の磁性メッキを８０℃で１分行ない、それぞれの基、
仮について録音再生試験を行なうと焼成に工って完全に
非磁性化したＮｉ−Ｐ基板を用いたほうが、ＳＮ比にお
いて５〜６ｃｌＢ高いことが認められた。
成の磁性メッキを８０℃で１分行ない、それぞれの基、
仮について録音再生試験を行なうと焼成に工って完全に
非磁性化したＮｉ−Ｐ基板を用いたほうが、ＳＮ比にお
いて５〜６ｃｌＢ高いことが認められた。
第１表 磁性メッキ液の組成
硫酸コバルト １０７ ｍｏｊ ／ ｊ
硫酸ニッケル α０５ 酒石酸ナトリウム αロア ホウ酸 Ｑ、２０ 水酸化ナトリウムに工りＰＥを９５に調整＋２１ ＋
１１の場合と同様に２５０℃＋１ｃｊ間焼成した場合も
、Ｎｉ−ＰＩ−は完全な非磁性となり、同様に磁性メッ
キを行ない録再試験を行なった結果、非焼成の基板を用
いた３＠＠エリアｄＢのＳＮ比向上を見た。
硫酸ニッケル α０５ 酒石酸ナトリウム αロア ホウ酸 Ｑ、２０ 水酸化ナトリウムに工りＰＥを９５に調整＋２１ ＋
１１の場合と同様に２５０℃＋１ｃｊ間焼成した場合も
、Ｎｉ−ＰＩ−は完全な非磁性となり、同様に磁性メッ
キを行ない録再試験を行なった結果、非焼成の基板を用
いた３＠＠エリアｄＢのＳＮ比向上を見た。
＋３１ ｆｉ＋と＋ｑ＠に１７０℃、５時間焼成した
場合もＮｉ−ＰＩ−は完全な非磁性とな９、磁性メッキ
後の録再試験でＳＮ比４ ｄＥの向上を見た。
場合もＮｉ−ＰＩ−は完全な非磁性とな９、磁性メッキ
後の録再試験でＳＮ比４ ｄＥの向上を見た。
以上述べた工うに本発明によれは、メッキ型あるいは一
部のスパッタ型磁気記録体の磁性層下地として有用な完
全に非磁性のＮｉ−Ｐ皮１Ｉｊｉ！１２００℃前後とい
う低温域で、焼成という簡単な操作に１って確実に安定
してイ得られることがわかった。
部のスパッタ型磁気記録体の磁性層下地として有用な完
全に非磁性のＮｉ−Ｐ皮１Ｉｊｉ！１２００℃前後とい
う低温域で、焼成という簡単な操作に１って確実に安定
してイ得られることがわかった。
また、焼成により、Ｎｉ−Ｐ扇のアルミ基板に対する密
着性の向上という副次的効果も得ることができた。
着性の向上という副次的効果も得ることができた。
第１図・・・従来法（未焼５りに裏って得られるＮｉ−
Ｐ反映の磁化曲組図。 第２図・・・不発明（焼成）によって得られるＮｉ−Ｐ
皮膜の磁化曲線図。 以 上 手続補正書（自発） ５ゎ６０，５．．１４゜ ｌ 事件の表示 昭和５９年特許願第 ２１８９３４号 ２ 発明の名称 磁気記録体の製造方法 、３ 補正を・する者 事件との関係 出願人 東京都町宿区西殆宿２丁目４番１号 （２！５６）株式会社諏訪精工舎 ５、 補正により増加する発明の数 手続補正書（自発） １、 明細誉６貞鹸終行目 「１」とあるを １’−Ｑ、５Ｊに補正する。 Ｚ 同５１６行目 「高いこと」とあるを ［高い（３５〜５６ｄＢ）こと」に補正する。 ＆ 同５頁下から４行目 「場合より」と二６る全、 「場合（３０ｄＢ）より」に補正する。 ４、同６貢１行目 「向上を」とある金、 ［−向上（３３ｄＢ→ｓ ７ｄＢ ）ｆｔＪに補正する
。 以 上
Ｐ反映の磁化曲組図。 第２図・・・不発明（焼成）によって得られるＮｉ−Ｐ
皮膜の磁化曲線図。 以 上 手続補正書（自発） ５ゎ６０，５．．１４゜ ｌ 事件の表示 昭和５９年特許願第 ２１８９３４号 ２ 発明の名称 磁気記録体の製造方法 、３ 補正を・する者 事件との関係 出願人 東京都町宿区西殆宿２丁目４番１号 （２！５６）株式会社諏訪精工舎 ５、 補正により増加する発明の数 手続補正書（自発） １、 明細誉６貞鹸終行目 「１」とあるを １’−Ｑ、５Ｊに補正する。 Ｚ 同５１６行目 「高いこと」とあるを ［高い（３５〜５６ｄＢ）こと」に補正する。 ＆ 同５頁下から４行目 「場合より」と二６る全、 「場合（３０ｄＢ）より」に補正する。 ４、同６貢１行目 「向上を」とある金、 ［−向上（３３ｄＢ→ｓ ７ｄＢ ）ｆｔＪに補正する
。 以 上
Claims (1)
- 磁気記録体における下地ニッケル−リン（Ｎｉ−Ｐ）層
の作成において、アルミニウム基板上に無電解Ｎｉ−Ｐ
メッキをほどこした後、それを加熱焼成することによつ
て、Ｎｉ−Ｐ層を非磁性化することを特徴とする磁気記
録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21893484A JPS6196522A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | 磁気記録体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21893484A JPS6196522A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | 磁気記録体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6196522A true JPS6196522A (ja) | 1986-05-15 |
Family
ID=16727610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21893484A Pending JPS6196522A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | 磁気記録体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6196522A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63140091A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-11 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用無電解Ｎｉ−Ｐメツキ基盤の耐食性向上方法 |
| JPH0456265U (ja) * | 1990-09-19 | 1992-05-14 | ||
| US5302434A (en) * | 1992-08-07 | 1994-04-12 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk for contact recording |
| US5307223A (en) * | 1992-08-07 | 1994-04-26 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk file for contact recording |
| CN105755453A (zh) * | 2016-05-12 | 2016-07-13 | 重庆理工大学 | 一种抗地热水腐蚀的纳米化学复合镀层制备方法 |
-
1984
- 1984-10-18 JP JP21893484A patent/JPS6196522A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63140091A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-11 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用無電解Ｎｉ−Ｐメツキ基盤の耐食性向上方法 |
| JPH0159359B2 (ja) * | 1986-12-02 | 1989-12-15 | Kobe Steel Ltd | |
| JPH0456265U (ja) * | 1990-09-19 | 1992-05-14 | ||
| US5302434A (en) * | 1992-08-07 | 1994-04-12 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk for contact recording |
| US5307223A (en) * | 1992-08-07 | 1994-04-26 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk file for contact recording |
| CN105755453A (zh) * | 2016-05-12 | 2016-07-13 | 重庆理工大学 | 一种抗地热水腐蚀的纳米化学复合镀层制备方法 |
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