JPS61224126A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61224126A JPS61224126A JP6553785A JP6553785A JPS61224126A JP S61224126 A JPS61224126 A JP S61224126A JP 6553785 A JP6553785 A JP 6553785A JP 6553785 A JP6553785 A JP 6553785A JP S61224126 A JPS61224126 A JP S61224126A
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- JP
- Japan
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- thin film
- alloy
- magnetic recording
- recording medium
- magnetic
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は合金磁性薄膜を有する磁気記録媒体に係るもの
であり、特に、この合金磁性薄膜がタンタル（Ｔａ）、
ゲルマニウム（Ｇｅ ）のうちのいずれが１種以上を含
有するコバルト基合金からなる磁気記録媒体に関する。
であり、特に、この合金磁性薄膜がタンタル（Ｔａ）、
ゲルマニウム（Ｇｅ ）のうちのいずれが１種以上を含
有するコバルト基合金からなる磁気記録媒体に関する。
［従来の技術１
記録密度の高い合金磁性薄膜を有する磁気記録媒体の研
究開発が近年大いに推進されているが、その一つとして
無電解メッキ法によるコバルト（ＣＯ）−ニッケル（Ｎ
ｉ）−リン（Ｐ）合金磁性′ａ膜を用いたものがある。
究開発が近年大いに推進されているが、その一つとして
無電解メッキ法によるコバルト（ＣＯ）−ニッケル（Ｎ
ｉ）−リン（Ｐ）合金磁性′ａ膜を用いたものがある。
しかしながらｃｏ −Ｎｉ−Ｐ合金は耐食性に問題があ
り、該合金磁性薄膜を用いた記録媒体は、永年使用した
際の記録エラー等信頼性の点で劣っていた。例えば、該
合金磁性薄膜を温度５７℃、湿度８５％の条件下にて２
週間放置した場合には飽和磁化の劣化が３０％であり、
また、純水中に１週間放置した場合のそれは４０％にも
達する。このような特性の劣化は実機使用した際の出力
低下を召き、また腐蝕部の存在はエラーの増大を引き起
こすという問題がある。
り、該合金磁性薄膜を用いた記録媒体は、永年使用した
際の記録エラー等信頼性の点で劣っていた。例えば、該
合金磁性薄膜を温度５７℃、湿度８５％の条件下にて２
週間放置した場合には飽和磁化の劣化が３０％であり、
また、純水中に１週間放置した場合のそれは４０％にも
達する。このような特性の劣化は実機使用した際の出力
低下を召き、また腐蝕部の存在はエラーの増大を引き起
こすという問題がある。
［発明が解決しようとする問題点］
このように、無電解メッキ法によるＧＯ−ＪＪｉ−ｐ合
金磁性Ｎ模は、出力低下やエラーの増大などといった信
頼性の低下に帰結する耐食性・耐候性の問題があった。
金磁性Ｎ模は、出力低下やエラーの増大などといった信
頼性の低下に帰結する耐食性・耐候性の問題があった。
〔問題点を解決するための手段］
本発明者らは上記不具合を解決するために様々な観点か
ら検討を加え、Ｔａ 、Ｇｅのうちのいずれか１種以上
を添加したＣＯ基合金磁性ＷＩＩ！ｌｌが極めて優れた
耐食性・耐候性を有することを見い出。
ら検討を加え、Ｔａ 、Ｇｅのうちのいずれか１種以上
を添加したＣＯ基合金磁性ＷＩＩ！ｌｌが極めて優れた
耐食性・耐候性を有することを見い出。
した。
即ち、本発明は、基板上に形成された合金磁性薄膜を有
する磁気記録媒体において、上記合金磁性薄膜をＴａ、
Ｇｅのうちのいずれか１種以上２〜１０原子％と、０．
２〜５原子％の窒素とを含有するＣｏ基合金で構成した
ことを特徴とするものである。
する磁気記録媒体において、上記合金磁性薄膜をＴａ、
Ｇｅのうちのいずれか１種以上２〜１０原子％と、０．
２〜５原子％の窒素とを含有するＣｏ基合金で構成した
ことを特徴とするものである。
以下本発明の構成について更に詳細に説明する。
本発明において用いられる磁性Ｎ膜は、Ｔａ。
Ｇｅのうちのいずれか１種以上を２〜１０原子％と、Ｎ
を０．５〜５原子％含むＣｏ基合金からなるものである
。
を０．５〜５原子％含むＣｏ基合金からなるものである
。
これら添加物の含有量を２〜１０原子％とした理由は、
その含有量が２原子％未満では耐食性が低下するように
なるからである。一方、その含有量が１０原子％を越え
るときは飽和磁化が低（なりすぎ、薄層化という高密度
記録に適った合金磁性薄膜の特長が活かし得ないためで
ある。
その含有量が２原子％未満では耐食性が低下するように
なるからである。一方、その含有量が１０原子％を越え
るときは飽和磁化が低（なりすぎ、薄層化という高密度
記録に適った合金磁性薄膜の特長が活かし得ないためで
ある。
また、Ｎを０．２〜５原子％とした理由は、主として製
造上の関係によるものであり、例えば、後述する本発明
に係る製造法では０．２原子％以上のＮが残存してしま
うためである。一方、５原子％を越えるようになると磁
気特性のうち角型比Ｓと称されているものが低下するよ
うになるからである。通常、磁気記録媒体の角型比Ｓは
０．１以上であることが要求されているが、本発明にお
いて、特に好ましいＮの含有量、は０．２〜３原子％で
ある。
造上の関係によるものであり、例えば、後述する本発明
に係る製造法では０．２原子％以上のＮが残存してしま
うためである。一方、５原子％を越えるようになると磁
気特性のうち角型比Ｓと称されているものが低下するよ
うになるからである。通常、磁気記録媒体の角型比Ｓは
０．１以上であることが要求されているが、本発明にお
いて、特に好ましいＮの含有量、は０．２〜３原子％で
ある。
本発明においてＴａ、Ｑｅなどの添加物及びＮ以外の組
成としては、 （イ）Ｇｏのみ （ロ）Ｇｏの一部をＮｉ及び／又はＦｅで置換したもの であってもよい。（ロ）の組成の場合、Ｇｏの一部をＮ
ｉ及び／又はｌ”ｅで置換するときの置換比率はＣＯの
２５原子％以下とするのが好ましい。置換比率が２５Ｗ
４子％を越えるとｈｃｐ母結品中にｆｃｃ相が出現し、
膜面内の磁気特性の低下をもたらす。
成としては、 （イ）Ｇｏのみ （ロ）Ｇｏの一部をＮｉ及び／又はＦｅで置換したもの であってもよい。（ロ）の組成の場合、Ｇｏの一部をＮ
ｉ及び／又はｌ”ｅで置換するときの置換比率はＣＯの
２５原子％以下とするのが好ましい。置換比率が２５Ｗ
４子％を越えるとｈｃｐ母結品中にｆｃｃ相が出現し、
膜面内の磁気特性の低下をもたらす。
また、ｌ”ｅ置換の場合には、その置換比率が２５原子
％を越えろと薄膜の耐食性、耐候性も低下させるように
なる。
％を越えろと薄膜の耐食性、耐候性も低下させるように
なる。
本発明の磁気記録媒体は、例えば次のようにして製造す
ることができる。即ち、Ｎ２を含むＡｒガス雰囲気中で
スパッタリング等の真空蒸着法によってＴａ、Ｑｅのう
ちの１種以上と、ｃｏ及びＮ（及び所望により、更にＮ
ｉ及び／又はＦｅ）を含む合金薄膜を基板上に形成し、
然る後熱処理し、Ｎを放出させてＮ含有率を０．２〜５
原子％とするものである。
ることができる。即ち、Ｎ２を含むＡｒガス雰囲気中で
スパッタリング等の真空蒸着法によってＴａ、Ｑｅのう
ちの１種以上と、ｃｏ及びＮ（及び所望により、更にＮ
ｉ及び／又はＦｅ）を含む合金薄膜を基板上に形成し、
然る後熱処理し、Ｎを放出させてＮ含有率を０．２〜５
原子％とするものである。
この製造方法において、基板上にまず形成されるＩＩＩ
Ｉはアモルファス状又は粒径５０〜１００Ａ程度の微結
晶体より成り、後工程の熱処理で結晶化又は粒径１００
〜４００Ａ程度の結晶粒に成長し、適度なＨｃを有しか
つ高角形比の磁気記録媒体を形成するようになる。
Ｉはアモルファス状又は粒径５０〜１００Ａ程度の微結
晶体より成り、後工程の熱処理で結晶化又は粒径１００
〜４００Ａ程度の結晶粒に成長し、適度なＨｃを有しか
つ高角形比の磁気記録媒体を形成するようになる。
この熱処理の温度としては２８０℃以上が好ましく、熱
処理の温度が２８０℃を下回る場合は脱Ｎの活性点にな
っておらず脱Ｎが進行しない。また、熱処理温度があま
り高温の場合には結晶粒が異常成長し保磁力Ｈｃの低下
を招く。従って好ましい熱処理温度は２８０〜５００℃
である。
処理の温度が２８０℃を下回る場合は脱Ｎの活性点にな
っておらず脱Ｎが進行しない。また、熱処理温度があま
り高温の場合には結晶粒が異常成長し保磁力Ｈｃの低下
を招く。従って好ましい熱処理温度は２８０〜５００℃
である。
また、本発明において用いられる基板としては、非磁性
基板であるならば従来から用いられている各種のものが
採用でき、合金系基板（例えばＡ１に数％以下程度のマ
グネシウムを添加した合金や膜を結晶化させるとともに
、膜中に含有された窒素を放出させた。その後耐食性及
び耐候性の検討を行なった。ここに、耐蝕性の評価は３
ＭΩ・Ｃｌ１ｌの純水中に１週ｒｆ！Ａ浸すことにより
、また耐候性の評価は温度５７℃、湿度８０％の条件下
に２週間放置することにより行なった。
基板であるならば従来から用いられている各種のものが
採用でき、合金系基板（例えばＡ１に数％以下程度のマ
グネシウムを添加した合金や膜を結晶化させるとともに
、膜中に含有された窒素を放出させた。その後耐食性及
び耐候性の検討を行なった。ここに、耐蝕性の評価は３
ＭΩ・Ｃｌ１ｌの純水中に１週ｒｆ！Ａ浸すことにより
、また耐候性の評価は温度５７℃、湿度８０％の条件下
に２週間放置することにより行なった。
この結果を、第１表に示す。
比較例１
下記条件により、適宜に表面処理されたガラス基板上゛
にＣｏ −Ｎｉ−Ｐ合金磁性膜を作成し、その後耐食性
、耐候性の評価を行なった。その結果を第１表に示す。
にＣｏ −Ｎｉ−Ｐ合金磁性膜を作成し、その後耐食性
、耐候性の評価を行なった。その結果を第１表に示す。
メッキ浴 硫酸コバルト ０．０６ ｍｏｌ ／
１硫酸ニツケル ０．０４ 次亜リン酸 ０．２ 硫酸アンモニウム ０．１ マロン酸ナトリウム ０，３ リンゴ酸ナトリウム ０．４ コハク酸ナトリウム ０．５ ｐｆ−１＝８．９〜９．３ 温度１５〜８５℃ 膜厚
７００Δ比較例２ スパッタリング時の雰囲気をＡｒ１００％としたこと以
外は実施例１と同様にして、Ｎ含有率０％の薄膜を作成
した。また、残存Ｎ濃度が５原子％を越える場合、 Ｎ
ｉ １１度が２５原子％を越える場合、及び規定量を越
える量の添加物を含む場合の合金ＷＩＩｌｌも同様に実
施例１の条件下で作成した。
１硫酸ニツケル ０．０４ 次亜リン酸 ０．２ 硫酸アンモニウム ０．１ マロン酸ナトリウム ０，３ リンゴ酸ナトリウム ０．４ コハク酸ナトリウム ０．５ ｐｆ−１＝８．９〜９．３ 温度１５〜８５℃ 膜厚
７００Δ比較例２ スパッタリング時の雰囲気をＡｒ１００％としたこと以
外は実施例１と同様にして、Ｎ含有率０％の薄膜を作成
した。また、残存Ｎ濃度が５原子％を越える場合、 Ｎ
ｉ １１度が２５原子％を越える場合、及び規定量を越
える量の添加物を含む場合の合金ＷＩＩｌｌも同様に実
施例１の条件下で作成した。
その磁気特性を第１表に示す。
第１表より、本発明によるＴａ、Ｇｅなどを含むＣＯ基
合金磁性薄膜は、従来のＣｏ −Ｎｉ −Ｐ無電解メッ
キ磁性ＷＩＩＩに比較し、遥かに優れた耐食性・耐候性
を示すことが認められる。また、磁気記録媒体としての
特性を満足するためには、アルゴンと窒素の混合雰囲気
下で膜が形成されなければならないことも認められる。
合金磁性薄膜は、従来のＣｏ −Ｎｉ −Ｐ無電解メッ
キ磁性ＷＩＩＩに比較し、遥かに優れた耐食性・耐候性
を示すことが認められる。また、磁気記録媒体としての
特性を満足するためには、アルゴンと窒素の混合雰囲気
下で膜が形成されなければならないことも認められる。
実施例２
表面研磨されたアルミ合金上にアルマイト処理を施して
成る基板上に、第２表に示すような所望の組成となるよ
うに、実施例１に記したと同様の条件下にて５１／４″
φデイスクを作成し、真空中３５０℃Ｘ ３ｈｒ熱処理
を施した後、ｒ、「、プレーナーマグネトロン装置にて
４０ＯＡのアモルファス状カーボン膜を形成した。
成る基板上に、第２表に示すような所望の組成となるよ
うに、実施例１に記したと同様の条件下にて５１／４″
φデイスクを作成し、真空中３５０℃Ｘ ３ｈｒ熱処理
を施した後、ｒ、「、プレーナーマグネトロン装置にて
４０ＯＡのアモルファス状カーボン膜を形成した。
次に、これらのディスクを用い耐食性、耐候性の評価を
行なった。その結果を第２表に示す。なお、磁気記録媒
体の電磁変換特性の評価は、下記の如き条件で行なった
。
行なった。その結果を第２表に示す。なお、磁気記録媒
体の電磁変換特性の評価は、下記の如き条件で行なった
。
使用ヘッド Ｍｎ−Ｚｎフェライトヘッド（トラック幅
１６μｍ、ギャップ長１．１μ−、ギャップ深さ２０μ
ｎ＋、巻数１９ＴＸ ２）浮上量 ０．３４μｍ 書き込み周波数 Ｉ Ｆ ： １．２５ ＭＨ７２Ｆ
； ２．５ ＭＨｚ ディスク回転数 ３６００ｒｐｍ 測定箇所 ディスク中心よりの距離Ｒ＝ ３０ｍｍ比較
例３ 表面研磨されたアルミニウム合金上にＮｉ −Ｐメッキ
下地層が施された５ １／４“φディスク基板上に、比
較例１と同様の条件下でＧｏ −Ｎｉ −Ｐ合金磁性膜
を形成し、その後実施例２と同様に４００Ａのアモルフ
ァス状カーボン膜を形成した。
１６μｍ、ギャップ長１．１μ−、ギャップ深さ２０μ
ｎ＋、巻数１９ＴＸ ２）浮上量 ０．３４μｍ 書き込み周波数 Ｉ Ｆ ： １．２５ ＭＨ７２Ｆ
； ２．５ ＭＨｚ ディスク回転数 ３６００ｒｐｍ 測定箇所 ディスク中心よりの距離Ｒ＝ ３０ｍｍ比較
例３ 表面研磨されたアルミニウム合金上にＮｉ −Ｐメッキ
下地層が施された５ １／４“φディスク基板上に、比
較例１と同様の条件下でＧｏ −Ｎｉ −Ｐ合金磁性膜
を形成し、その後実施例２と同様に４００Ａのアモルフ
ァス状カーボン膜を形成した。
次に、これらを耐食性及び耐候性の評価に用いた。
その結果を第２表に示す、、′Ｒ磁変換諸特性の評価は
実施例２と全く同様の条件下で行なった。
実施例２と全く同様の条件下で行なった。
以上のことから、本発明における磁気記録媒体は耐食性
・耐候性に優れた媒体であることが証明された。
・耐候性に優れた媒体であることが証明された。
Claims (4)
- （１）基板上に形成された合金磁性薄膜を有する磁気記
録体において、該合金磁性薄膜がタンタル、ゲルマニウ
ムのうちのいずれか１種以上を２〜１０原子％含むコバ
ルト基合金からなることを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）上記合金磁性薄膜は、基板上にスパッタリングさ
れ、かつ熱処理されて形成されたものであることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - （３）上記合金磁性薄膜が、タンタル、ゲルマニウムの
うちのいずれか１種以上を２〜１０原子％と、窒素を０
．２〜５原子％含み、残部コバルトからなることを特徴
とする特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の磁気記
録媒体。 - （４）上記合金磁性薄膜が、タンタル、ゲルマニウムの
うちのいずれか１種以上を２〜１０原子％と、窒素を０
．２〜５原子％含み、残部がコバルトとニッケル及び／
又は鉄とから成り、ニッケル及び／又は鉄の含有量は、
コバルトの２５原子％以下を置換した量であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6553785A JPS61224126A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6553785A JPS61224126A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61224126A true JPS61224126A (ja) | 1986-10-04 |
Family
ID=13289862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6553785A Pending JPS61224126A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61224126A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02113419A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-25 | Kubota Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| US5062938A (en) * | 1990-01-16 | 1991-11-05 | International Business Machines Corporation | High coercivity low noise cobalt alloy magnetic recording medium and its manufacturing process |
-
1985
- 1985-03-29 JP JP6553785A patent/JPS61224126A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02113419A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-25 | Kubota Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| US5062938A (en) * | 1990-01-16 | 1991-11-05 | International Business Machines Corporation | High coercivity low noise cobalt alloy magnetic recording medium and its manufacturing process |
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