JP2944133B2 - 磁気ディスク基板の製法 - Google Patents
磁気ディスク基板の製法Info
- Publication number
- JP2944133B2 JP2944133B2 JP7488690A JP7488690A JP2944133B2 JP 2944133 B2 JP2944133 B2 JP 2944133B2 JP 7488690 A JP7488690 A JP 7488690A JP 7488690 A JP7488690 A JP 7488690A JP 2944133 B2 JP2944133 B2 JP 2944133B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic disk
- pores
- chromic acid
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、磁気ディスク基板の製法に関し、基板の表
面をクロム酸で処理して、耐食性を向上させるようにし
たものである。
面をクロム酸で処理して、耐食性を向上させるようにし
たものである。
［従来の技術］ 磁気ディスクをなす磁気ディスク基板の製法の一つに
次のようなものが知られている（特開平１−165025号公
報）。
次のようなものが知られている（特開平１−165025号公
報）。
この方法は、第６図に示すように、表面がAl或いは、
少量のMgを含有するAl合金（以下Alという）の板１を、
しゅう酸溶液などの電解浴中で陽極酸化処理し、表面に
微細ポア２が規則的に配列されたアルマイト層３を形成
する。次いで電解析出処理によって、第７図に示すよう
に、上記ポア２中にCu、Sn、Zn等の非磁性金属４を充填
し、点線で示す部分を研摩して表面を平滑とした後、ア
ルマイト層３の方が上記非磁性金属４よりエッチング率
の大きい、例えばりん酸・クロム酸混液等でエッチング
し、第８図に示すようにアルマイト層３の面から充填さ
れた非磁性金属４が規則的に分布し、所定寸法突出した
凹凸を形成して、磁気ディスク基板を作製する。つい
で、この磁気ディスク基板の表面に第９図に示すように
スパッタ処理、或いはメッキ処理によって磁性体層５を
付着させ、さらにその上に保護膜６をコーティングして
磁気ディスクがつくられる。
少量のMgを含有するAl合金（以下Alという）の板１を、
しゅう酸溶液などの電解浴中で陽極酸化処理し、表面に
微細ポア２が規則的に配列されたアルマイト層３を形成
する。次いで電解析出処理によって、第７図に示すよう
に、上記ポア２中にCu、Sn、Zn等の非磁性金属４を充填
し、点線で示す部分を研摩して表面を平滑とした後、ア
ルマイト層３の方が上記非磁性金属４よりエッチング率
の大きい、例えばりん酸・クロム酸混液等でエッチング
し、第８図に示すようにアルマイト層３の面から充填さ
れた非磁性金属４が規則的に分布し、所定寸法突出した
凹凸を形成して、磁気ディスク基板を作製する。つい
で、この磁気ディスク基板の表面に第９図に示すように
スパッタ処理、或いはメッキ処理によって磁性体層５を
付着させ、さらにその上に保護膜６をコーティングして
磁気ディスクがつくられる。
上記磁気ディスク７はエッチング速度の差によって、
凹凸が形成され、かつポア２の分布は均一であるので、
品質の安定した磁気ディスクの量産が可能である。
凹凸が形成され、かつポア２の分布は均一であるので、
品質の安定した磁気ディスクの量産が可能である。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記磁気ディスク基板から得られた磁
気ディスクは、20℃の純水に浸漬する耐食試験に供する
と、面に変色、くもりが発生し、磁気記録性能が低下す
ることがあった。
気ディスクは、20℃の純水に浸漬する耐食試験に供する
と、面に変色、くもりが発生し、磁気記録性能が低下す
ることがあった。
本発明者らは、上記の問題を解決すべく鋭意検討を行
った結果、非磁性金属をポアに充填する場合、一部に非
磁性金属が充填されないポアが生じ、研摩した後エッチ
ングを行うと、アルマイトに対するエッチング率が大き
いため、ポアの底部がエッチングされポア底部に耐食性
の低いAl板が露出するためと考えた。
った結果、非磁性金属をポアに充填する場合、一部に非
磁性金属が充填されないポアが生じ、研摩した後エッチ
ングを行うと、アルマイトに対するエッチング率が大き
いため、ポアの底部がエッチングされポア底部に耐食性
の低いAl板が露出するためと考えた。
本発明は上記の考えに基づいてなされたもので、非磁
性金属が充填されていないポアの底部に確実にクロム酸
膜を形成して耐食性を高めることにより不良品を発生さ
せることがないようにして、安定で効率よく磁気ディス
クの量産を可能とする磁気ディスク基板を提供すること
を目的とする。
性金属が充填されていないポアの底部に確実にクロム酸
膜を形成して耐食性を高めることにより不良品を発生さ
せることがないようにして、安定で効率よく磁気ディス
クの量産を可能とする磁気ディスク基板を提供すること
を目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するため、本発明の磁気ディスク基
板の製法においては、 陽極酸化処理されたAl板またはAl合金板のアルマイト
層のポア中に、非磁性金属を充填する処理を施し、表面
研磨を施しついでその表面をエッチングした後、クロム
酸処理を施し、先の非磁性金属充填処理で非磁性金属が
充填されなかったポアの底部にクロム酸膜を形成するこ
とを特徴とする。
板の製法においては、 陽極酸化処理されたAl板またはAl合金板のアルマイト
層のポア中に、非磁性金属を充填する処理を施し、表面
研磨を施しついでその表面をエッチングした後、クロム
酸処理を施し、先の非磁性金属充填処理で非磁性金属が
充填されなかったポアの底部にクロム酸膜を形成するこ
とを特徴とする。
［作 用］ 本発明は上記の構成を有するため、一部に非磁性金属
が充填されないポアが存在し、エッチングによってポア
底部のアルマイトが消失し、AlあるいはAl合金からなる
板がポア底部に露出しても、クロム酸膜によって被覆、
保護される。
が充填されないポアが存在し、エッチングによってポア
底部のアルマイトが消失し、AlあるいはAl合金からなる
板がポア底部に露出しても、クロム酸膜によって被覆、
保護される。
［実施例］ 第１図ないし、第５図は、本発明に係る磁気ディスク
の製法の説明図で、第１図は、Al板を陽極酸化処理し、
ポア２が規則的に配列されたアルマイト層３を形成した
第６図のものを非磁性金属電解析出により、上記ポア２
にCu、Sn、Zn等の非磁性金属４を充填した状態を示す図
である。
の製法の説明図で、第１図は、Al板を陽極酸化処理し、
ポア２が規則的に配列されたアルマイト層３を形成した
第６図のものを非磁性金属電解析出により、上記ポア２
にCu、Sn、Zn等の非磁性金属４を充填した状態を示す図
である。
この場合殆どのポアには、非磁性金属４が充填される
が、多数のポアのうちには非磁性金属４が充填されてい
ないポア８が形成される。
が、多数のポアのうちには非磁性金属４が充填されてい
ないポア８が形成される。
これを従来と同様に研摩し、第２図に示すように、面
を平坦にしてアルマイト層３の方が非磁性金属よりエッ
チング率の大きい条件でエッチングすると、第３図に示
すように非磁性金属が所定寸法突出し、規則的な凹凸が
形成される。しかし非磁性金属が充填されなかったポア
８は、ポア自体がエッチングされ、底部のバリヤ層９が
消失し、ポア８の底部にAl板が露出する。このAl露部分
の耐食性はアルマイトに比べて格段に低い。そのため本
発明の方法においては、ポア８の底部にクロム酸膜10を
形成し、その耐食性を向上させる。
を平坦にしてアルマイト層３の方が非磁性金属よりエッ
チング率の大きい条件でエッチングすると、第３図に示
すように非磁性金属が所定寸法突出し、規則的な凹凸が
形成される。しかし非磁性金属が充填されなかったポア
８は、ポア自体がエッチングされ、底部のバリヤ層９が
消失し、ポア８の底部にAl板が露出する。このAl露部分
の耐食性はアルマイトに比べて格段に低い。そのため本
発明の方法においては、ポア８の底部にクロム酸膜10を
形成し、その耐食性を向上させる。
クロム酸膜を形成するには、エッチング処理した、第
３図の基板を、重クロム酸カリウム５〜150g/含有し
た水溶液をPH6〜８、温度常温〜90℃の条件に保持し
て、0.1〜20分浸漬する。このクロム酸処理によって第
４図に示すように、ポア８の底部のAl板１の面には、ク
ロム酸膜10が形成される。
３図の基板を、重クロム酸カリウム５〜150g/含有し
た水溶液をPH6〜８、温度常温〜90℃の条件に保持し
て、0.1〜20分浸漬する。このクロム酸処理によって第
４図に示すように、ポア８の底部のAl板１の面には、ク
ロム酸膜10が形成される。
次いで、これを重クロム酸溶液より引き上げ、洗浄し
て、重クロム酸溶液を除去した後、従来と同様、第５図
に示すように磁性体層５および保護膜６を形成する。
て、重クロム酸溶液を除去した後、従来と同様、第５図
に示すように磁性体層５および保護膜６を形成する。
このようにしてつくられた磁気ディスクは、20℃の純
水に長期間浸漬しておいても、変色やくもりが発生する
ことがない。
水に長期間浸漬しておいても、変色やくもりが発生する
ことがない。
実施例１ 4wt％のMgを含有したAl合金製板を印加電圧48Vのしゅ
う酸３％浴中で陽極酸化して、表面に径25nmのポアがセ
ル径（ポアとポアの間隔）110nmで規則的に配列されて
いる厚さ10μｍのアルマイト層を形成した。
う酸３％浴中で陽極酸化して、表面に径25nmのポアがセ
ル径（ポアとポアの間隔）110nmで規則的に配列されて
いる厚さ10μｍのアルマイト層を形成した。
これをCuSo4溶中で電解メッキ処理し、ポア中にCuを
析出充填した。次いで0.8μｍ径のアルミナ粉末を研摩
材として研摩し、アルマイト層の厚みを５μｍとした。
この面を４％NaOH水溶液でエッチングし、アルマイト層
よりCuを20nm突出せしめた。
析出充填した。次いで0.8μｍ径のアルミナ粉末を研摩
材として研摩し、アルマイト層の厚みを５μｍとした。
この面を４％NaOH水溶液でエッチングし、アルマイト層
よりCuを20nm突出せしめた。
これを、重クロム酸カリウム15g/、炭酸ナトリウム
4g/の水溶液をPH6.5〜7.5、温度90〜95℃として２〜1
2分浸漬するクロム酸処理を行った。
4g/の水溶液をPH6.5〜7.5、温度90〜95℃として２〜1
2分浸漬するクロム酸処理を行った。
これを洗浄、乾燥した後、スバッタリングによって、
Cr200nm、CoNiCr60nmの厚さに順次被覆して磁性体層を
形成し、さらにその上面にカーボン保護層を形成して、
磁気ディスクを作製した。
Cr200nm、CoNiCr60nmの厚さに順次被覆して磁性体層を
形成し、さらにその上面にカーボン保護層を形成して、
磁気ディスクを作製した。
この磁気ディスク100枚を20℃の純水中に２週間浸漬
したが、変色やくもりを生ずるものはなかった。
したが、変色やくもりを生ずるものはなかった。
比較例１ クロム酸処理を行わないで、エッチングした後、ただ
ちに磁性体層を形成した以外は実施例１と同じにして磁
気ディスクを作製した。
ちに磁性体層を形成した以外は実施例１と同じにして磁
気ディスクを作製した。
この磁気ディスク100枚を20℃の純水中に浸漬したと
ころ、１週間で、うち６枚に変色やくもりが認められ
た。
ころ、１週間で、うち６枚に変色やくもりが認められ
た。
実施例２ アルマイト層を形成したAl板にエッチング処理を施
し、次いでクロム酸処理して、この面に磁性体層および
保護層を形成した。これを20℃純水中に１週間浸漬した
が、磁性体層の変色、くもりは認められなかった。
し、次いでクロム酸処理して、この面に磁性体層および
保護層を形成した。これを20℃純水中に１週間浸漬した
が、磁性体層の変色、くもりは認められなかった。
比較例２ クロム酸処理を行わなかった以外は、実施例２と同じ
にした。これを20℃の純水に浸漬したところ、２〜３日
で変色、くもりが発生した。
にした。これを20℃の純水に浸漬したところ、２〜３日
で変色、くもりが発生した。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の磁気ディスクの製法
は、陽極酸化処理されたAl板またはAl合金板のアルマイ
ト層のポア中に、非磁性金属を充填する処理を施し、表
面研磨を施し、ついでその表面をエッチングした後、ク
ロム酸処理を施し、先の非磁性金属充填処理で非磁性金
属が充填されなかったポアの底部にクロム酸膜を形成す
ることにより、耐食性を高めることができ、磁気ディス
クの不良品の発生が皆無となり、安定して効率のよい生
産が可能となる利点を有し、この業界に寄与することは
極めて大きい。
は、陽極酸化処理されたAl板またはAl合金板のアルマイ
ト層のポア中に、非磁性金属を充填する処理を施し、表
面研磨を施し、ついでその表面をエッチングした後、ク
ロム酸処理を施し、先の非磁性金属充填処理で非磁性金
属が充填されなかったポアの底部にクロム酸膜を形成す
ることにより、耐食性を高めることができ、磁気ディス
クの不良品の発生が皆無となり、安定して効率のよい生
産が可能となる利点を有し、この業界に寄与することは
極めて大きい。
第１図ないし第５図は、本発明に係る磁気ディスク基板
の製法の一例を示すもので、第１図はアルマイト層のポ
アに非磁性金属を充填した図、第２図は表面を研摩した
図、第３図はアルマイト層をエッチングして非磁性金属
を突出せしめた場合、非磁性金属が充填されていない孔
底部がエッチングされ、Al板が露出した状態を示す図、
第４図は露出したAl板面にクロム酸膜を形成した図、第
５図は表面に磁性体層および保護膜を形成し、磁気ディ
スクとした図、第６図ないし第９図はアルマイト層のす
べてのポアに非磁性金属が充填されたと仮定した場合を
示すもので、第６図はアルマイト層にポアが形成されて
いる状態を示す図、第７図は表面研摩した図、第８図は
エッチングして非磁性金属を突出せしめた図、第９図は
表面に磁性体層および保護膜を形成して磁気ディスクと
した図である。 １……Al板,2……ポア,3……アルマイト層， ４……非磁性金属,5……磁性体層,6……保護膜， 7,7′……磁気ディスク， ８……非磁性金属が充填されていないポア， ９……バリヤ層,10……クロム酸膜。
の製法の一例を示すもので、第１図はアルマイト層のポ
アに非磁性金属を充填した図、第２図は表面を研摩した
図、第３図はアルマイト層をエッチングして非磁性金属
を突出せしめた場合、非磁性金属が充填されていない孔
底部がエッチングされ、Al板が露出した状態を示す図、
第４図は露出したAl板面にクロム酸膜を形成した図、第
５図は表面に磁性体層および保護膜を形成し、磁気ディ
スクとした図、第６図ないし第９図はアルマイト層のす
べてのポアに非磁性金属が充填されたと仮定した場合を
示すもので、第６図はアルマイト層にポアが形成されて
いる状態を示す図、第７図は表面研摩した図、第８図は
エッチングして非磁性金属を突出せしめた図、第９図は
表面に磁性体層および保護膜を形成して磁気ディスクと
した図である。 １……Al板,2……ポア,3……アルマイト層， ４……非磁性金属,5……磁性体層,6……保護膜， 7,7′……磁気ディスク， ８……非磁性金属が充填されていないポア， ９……バリヤ層,10……クロム酸膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 涌井 幸夫 静岡県浜松市中沢町10番１号 ヤマハ株 式会社内 (72)発明者 佐倉 康男 静岡県浜松市中沢町10番１号 ヤマハ株 式会社内 (56)参考文献 特開 平１−165025（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−52376（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/84 Z
Claims (1)
- 【請求項１】陽極酸化処理されたAl板またはAl合金板の
アルマイト層のポア中に、非磁性金属を充填する処理を
施し、表面研磨を施しついでその表面をエッチングした
後、クロム酸処理を施し、先の非磁性金属充填処理で非
磁性金属が充填されなかったポアの底部にクロム酸膜を
形成することを特徴とする磁気ディスク基板の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7488690A JP2944133B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 磁気ディスク基板の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7488690A JP2944133B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 磁気ディスク基板の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03273526A JPH03273526A (ja) | 1991-12-04 |
| JP2944133B2 true JP2944133B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=13560298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7488690A Expired - Fee Related JP2944133B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 磁気ディスク基板の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2944133B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-23 JP JP7488690A patent/JP2944133B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03273526A (ja) | 1991-12-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5059278A (en) | Selective chemical removal of coil seed-layer in thin film head magnetic transducer | |
| US4548682A (en) | Process of producing magnetic recording media | |
| US4150172A (en) | Method for producing a square loop magnetic media for very high density recording | |
| US4454014A (en) | Etched article | |
| JP2004513221A5 (ja) | ||
| US5141778A (en) | Method of preparing aluminum memory disks having a smooth metal plated finish | |
| US4525759A (en) | Aluminum storage disc | |
| JP2944133B2 (ja) | 磁気ディスク基板の製法 | |
| JPH0777019B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板及びその製造方法 | |
| US3269854A (en) | Process of rendering substrates catalytic to electroless cobalt deposition and article produced | |
| US6428719B1 (en) | Etching process to selectively remove copper plating seed layer | |
| JP3151843B2 (ja) | 合金磁石のめっき法 | |
| US4363705A (en) | Passivating and silver removal method | |
| US3721613A (en) | Article having an electroless deposition and method of producing such article | |
| JPS63149827A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JPH037756B2 (ja) | ||
| JP2521932B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| US6093333A (en) | Method for etching thin nickel iron film to make a magnetic recording head | |
| JPS59215474A (ja) | 無電解めつき浴 | |
| JPH0423221A (ja) | ハードディスク用基板の表面処理方法 | |
| JPH05255886A (ja) | Ｃｏ−Ｆｅ系磁性膜およびそのメッキ方法 | |
| JPH0430324A (ja) | 磁気ディスク基板の製法 | |
| JPH07169051A (ja) | 磁気ディスク製造治具付着膜除去法 | |
| JPS61175920A (ja) | 磁気デイスク基板 | |
| JPS6220152A (ja) | 光デイスク成形用スタンパ−とその製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |